在光刻圖案化工藝中，首先將光刻膠涂在硅片上形成一層薄膜。接著在復雜的曝光裝置中，光線通過一個具有特定圖案的掩模投射到光刻膠上。曝光區域的光刻膠發生化學變化，在隨后的化學顯影過程中被去除。較后掩模的圖案就被轉移到了光刻膠膜上。而在隨后的蝕刻 或離子注入工藝中，會對沒有光刻膠保護的硅片部分進行刻蝕，較后洗去剩余光刻膠。這時光刻膠的圖案就被轉移到下層的薄膜上，這種薄膜圖案化的過程經過多次迭代，聯同其他多個物理過程，便產生集成電路。微納加工涉及領域廣、多學科交叉融合，其較主要的發展方向是微納器件與系統（MEMS）。廣州真空鍍膜微納加工

近年來，激光技術的飛速發展使的激光蝕刻技術孕育而生，類似于激光直寫技術，激光蝕刻技術通過控制聚焦的高能短波/脈沖激光束直接在基材上燒蝕材料并“雕刻”出微細結構。它不但能夠實現傳統意義的薄膜蝕刻，而且可以用來實現三維的微結構制作。飛秒高峰值功率激光于有機聚合物的介質的作用具有比較多科學上比較吸引人注目的特點，其中，雙光子作用下的聚合作用已被成功運用于三維納米結構制作，可以制作出非常復雜、特殊的三維微細結構。天津功率器件微納加工多少錢微型加工技術的表面特性和工藝生產率是微納技術人員的主要關注點。

微納制造技術一般是指微米、納米級的材料、設計、制造、測量控制和產品的研發、加工、制造以及應用技術。微納制造技術是繼IT、生物技術之后，21世紀較具發展潛力的研究領域和新興產業之一。微納制造技術較早是由加工精度研究的角度延伸出來的。伴隨著科技進步和制造業的快速發展，人們對加工精度的要求越來越高，傳統加工方式的加工精度越來越難以滿足諸多領域的應用和研究需求。這一需求促使人們投入到更高精度加工技術的研發上。從較初的毫米級（10-3m）到微米級（10-6m）和納米級（10-9m），人類的制造水平逐步由宏觀尺度向微觀尺度邁進，“微納制造技術”的概念也應運而生。

選擇比指的是在同一刻蝕條件下一種材料與另一種材料相比刻蝕速率快多少，它定義為被刻蝕材料的刻蝕速率與另一種材料的刻蝕速率的比?；緝热荩焊哌x擇比意味著只刻除想要刻去的那一層材料。一個高選擇比的刻蝕工藝不刻蝕下面一層材料（刻蝕到恰當的深度時停止）并且保護的光刻膠也未被刻蝕。圖形幾何尺寸的縮小要求減薄光刻膠厚度。高選擇比在較先進的工藝中為了確保關鍵尺寸和剖面控制是必需的。特別是關鍵尺寸越小，選擇比要求越高。廣東省科學院半導體研究所。微納加工技術指尺度為亞毫米、微米和納米量級元件的優化設計、加工、組裝、系統集成與應用技術。

微納制造技術的發展，同樣涉及到科研體系問題。嚴格意義上來說，科研分為三個領域，一個是基礎研究領域，一個是工程化應用領域，一個是市場推廣領域。在發達國家的科研機制中。幾乎所有的基礎研究領域都是由國家或機構直接或間接支持的。這種基礎研究較看重的是對于國家、民生或**的長遠意義．而不是短期內的投入與產出。因而致力于基礎研究的機構或者人員。根本不用考慮研究的所謂“市場化”問題。而只是進行基礎、理論的研究。另一方面。工程化應用領域由專門的機構或職能部門負責，這些部門從應用領域、生產領域、制造領域抽調**、學者及相關專業人員，對基礎研究的市場應用前景進行分析，并提出可行性建議，末尾由市場或企業來進行工程化應用研究。末尾市場化推廣的問題自然是企業來做了。中國的高校和研究機構，做純理念和純基礎的并不多，中國大多是工程性項目研究。其理想模式為高校、研究所、企業三結合狀態，各司其職，各負其責。微納技術是繼JT、生物之后。21世紀較具發展潛力的高新技術，是未來十年高增長的新興產業。微納加工平臺，主要是兩個方面：微納加工、微納檢測。遼寧光電器件微納加工平臺

微納加工技術的特點：微型化。廣州真空鍍膜微納加工

眾所周知，微納米技術是我國貫徹落實“中國制造2025”和“中國創新2030”的重要舉措與中心技術需求，是促進制造業高級化、綠色化、智能化的重要基礎?；谖矬w微米、納米尺度獨特的物理和化學特性，研制新材料、新工藝、新器件的微納制造技術，已經成為戰略性新興產業中心技術，必將對21世紀的航空、航天、信息科學、生命科學和健康保健、汽車工業、仿生機器人、交通、家具生活等領域產生深遠的影響。推進微納制造技術產業化落地，探討產業化路徑，遴選優良產業化示范項目。廣州真空鍍膜微納加工