大規模量產場景中，晶圓切割的穩定性與一致性至關重要。中清航科推出的全自動切割生產線，集成自動上下料、在線檢測與NG品分揀功能，單臺設備每小時可處理30片12英寸晶圓，且通過工業互聯網平臺實現多設備協同管控，設備綜合效率（OEE）提升至90%以上，明顯降低人工干預帶來的質量波動。隨著芯片集成度不斷提高，晶圓厚度逐漸向超薄化發展，目前主流晶圓厚度已降至50-100μm，切割過程中極易產生變形與破損。中清航科創新采用低溫輔助切割技術，通過局部深冷處理增強晶圓材料剛性，配合特制真空吸附平臺，確保超薄晶圓切割后的翹曲度小于20μm，為先進封裝工藝提供可靠的晶圓預處理保障。中清航科等離子切割技術處理氮化鎵晶圓，熱影響區減少60%。臺州碳化硅晶圓切割代工廠

中清航科創新性推出“激光預劃+機械精切”復合方案：先以激光在晶圓表面形成引導槽，再用超薄刀片完成切割。此工藝結合激光精度與刀切效率，解決化合物半導體（如GaAs、SiC）的脆性開裂問題，加工成本較純激光方案降低35%。大尺寸晶圓切割面臨翹曲變形、應力集中等痛點。中清航科全自動切割機配備多軸聯動補償系統，通過實時監測晶圓形變動態調整切割參數。搭配吸附托盤，將12英寸晶圓平整度誤差控制在±2μm內，支持3DNAND多層堆疊結構加工。寧波碳化硅陶瓷晶圓切割測試中清航科切割機節能模式降低功耗40%，年省電費超15萬元。

晶圓切割的主要目標之一是從每片晶圓中獲得高產量的、功能完整且無損的芯片。產量是半導體制造中的一個關鍵性能指標，因為它直接影響電子器件生產的成本和效率。更高的產量意味著每個芯片的成本更造能力更大，制造商更能滿足不斷增長的電子器件需求。晶圓切割直接影響到包含這些分離芯片的電子器件的整體性能。切割過程的精度和準確性需要確保每個芯片按照設計規格分離，尺寸和對準的變化小。這種精度對于在終設備中實現比較好電氣性能、熱管理和機械穩定性至關重要。

半導體晶圓是一種薄而平的半導體材料圓片，組成通常為硅，主要用于制造集成電路（IC）和其他電子器件的基板。晶圓是構建單個電子組件和電路的基礎，各種材料和圖案層在晶圓上逐層堆疊形成。由于優異的電子特性，硅成為了常用的半導體晶圓材料。根據摻雜物的添加，硅可以作為良好的絕緣體或導體。此外，硅的儲量也十分豐富，上述這些特性都使其成為半導體行業的成本效益選擇。其他材料如鍺、氮化鎵（GaN）、砷化鎵（GaAs）和碳化硅（SiC）也具有一定的適用場景，但它們的市場份額遠小于硅。中清航科真空吸附晶圓托盤，解決超薄晶圓切割變形難題。

晶圓切割是半導體封裝的中心環節，傳統刀片切割通過金剛石砂輪實現材料分離。中清航科研發的超薄刀片（厚度15-20μm）結合主動冷卻系統，將切割道寬度壓縮至30μm以內，崩邊控制在5μm以下。我們的高剛性主軸技術可適配8/12英寸晶圓，切割速度提升40%，為LED、MEMS器件提供經濟高效的解決方案。針對超薄晶圓（<50μm）易碎裂難題，中清航科激光隱形切割系統采用紅外脈沖激光在晶圓內部形成改性層，通過擴張膜實現無應力分離。該技術消除機械切割導致的微裂紋，良率提升至99.3%，尤其適用于存儲芯片、CIS等器件，助力客戶降低材料損耗成本。中清航科切割液回收系統降低耗材成本35%，符合綠色制造。溫州碳化硅線晶圓切割測試

中清航科定制刀輪應對超薄晶圓切割，碎片率降至0.1%以下。臺州碳化硅晶圓切割代工廠

8英寸晶圓在功率半導體、MEMS等領域仍占據重要市場份額，中清航科針對這類成熟制程開發的切割設備，兼顧效率與性價比。設備采用雙主軸并行切割設計，每小時可加工40片8英寸晶圓，且通過優化機械結構降低振動噪聲至65分貝以下，為車間創造更友好的工作環境，深受中小半導體企業的青睞。晶圓切割工藝的數字化轉型是智能制造的重要組成部分。中清航科的切割設備內置工業物聯網模塊，可實時采集切割壓力、溫度、速度等100余項工藝參數，通過邊緣計算節點進行實時分析，生成工藝優化建議。客戶可通過云端平臺查看生產報表與趨勢分析，實現基于數據的精細化管理。臺州碳化硅晶圓切割代工廠