晶圓切割/裂片是芯片制造過程中的重要工序，屬于先進封裝(advancedpackaging)的后端工藝(back-end)之一，該工序可以將晶圓分割成單個芯片，用于隨后的芯片鍵合。隨著技術的不斷發展，對高性能和更小型電子器件的需求增加，晶圓切割/裂片精度及效率控制日益不可或缺。晶圓切割的重要性在于它能夠在不損壞嵌入其中的精細結構和電路的情況下分離單個芯片，成功與否取決于分離出來的芯片的質量和產量，以及整個過程的效率。為了實現這些目標，目前已經開發了多種切割技術，每種技術都有其獨特的優點和缺點。中清航科推出晶圓切割應力模擬軟件，提前預判崩邊風險。蘇州晶圓切割廠

中清航科IoT平臺通過振動傳感器+電流波形分析，提前72小時預警主軸軸承磨損、刀片鈍化等故障。數字孿生模型模擬設備衰減曲線，備件更換周期精度達±5%，設備綜合效率（OEE）提升至95%。機械切割引發的殘余應力會導致芯片分層失效。中清航科創新采用超聲波輔助切割，高頻振動（40kHz）使材料塑性分離，應力峰值降低60%。該技術已獲ISO14649認證，適用于汽車電子AEC-Q100可靠性要求。Chiplet架構需對同片晶圓分區切割。中清航科多深度切割系統支持在單次制程中實現5-200μm差異化切割深度，精度±1.5μm。動態焦距激光模塊配合高速振鏡，完成異構芯片的高效分離。衢州芯片晶圓切割企業晶圓切割大數據平臺中清航科開發，實時分析10萬+工藝參數。

為滿足半導體行業的快速交付需求，中清航科建立了高效的設備生產與交付體系。采用柔性化生產模式，標準型號切割設備可實現7天內快速發貨，定制化設備交付周期控制在30天以內。同時提供門到門安裝調試服務，配備專業技術團隊全程跟進，確保設備快速投產。在晶圓切割的工藝參數優化方面，中清航科引入實驗設計（DOE）方法。通過多因素正交試驗，系統分析激光功率、切割速度、焦點位置等參數對切割質量的影響，建立參數優化模型，可在20組實驗內找到比較好工藝組合，較傳統試錯法減少60%的實驗次數，加速新工藝開發進程。

針對晶圓切割后的表面清潔度要求，中清航科在設備中集成了在線等離子清洗模塊。切割完成后立即對晶圓表面進行等離子處理，去除殘留的切割碎屑與有機污染物，清潔度達到Class10標準。該模塊可與切割流程無縫銜接，減少晶圓轉移過程中的二次污染風險。中清航科注重晶圓切割設備的人性化設計，操作界面采用直觀的圖形化布局，支持多語言切換與自定義快捷鍵設置。設備配備可調節高度的操作面板與符合人體工學的扶手設計，減少操作人員長時間工作的疲勞感，同時提供聲光報警與故障提示，使操作更便捷高效。采用中清航科激光隱形切割技術，晶圓分片效率提升40%以上。

晶圓切割是半導體封裝的中心環節，傳統刀片切割通過金剛石砂輪實現材料分離。中清航科研發的超薄刀片（厚度15-20μm）結合主動冷卻系統，將切割道寬度壓縮至30μm以內，崩邊控制在5μm以下。我們的高剛性主軸技術可適配8/12英寸晶圓，切割速度提升40%，為LED、MEMS器件提供經濟高效的解決方案。針對超薄晶圓（<50μm）易碎裂難題，中清航科激光隱形切割系統采用紅外脈沖激光在晶圓內部形成改性層，通過擴張膜實現無應力分離。該技術消除機械切割導致的微裂紋，良率提升至99.3%，尤其適用于存儲芯片、CIS等器件，助力客戶降低材料損耗成本。切割刀痕深度控制中清航科技術達±0.2μm，減少后續研磨量。衢州芯片晶圓切割

切割路徑智能優化系統中清航科研發，復雜芯片布局切割時間縮短35%。蘇州晶圓切割廠

在碳化硅晶圓切割領域，由于材料硬度高達莫氏9級，傳統切割方式面臨效率低下的問題。中清航科創新采用超高壓水射流與激光復合切割技術，利用水射流的冷卻作用抑制激光切割產生的熱影響區，同時借助激光的預熱作用降低材料強度，使碳化硅晶圓的切割效率提升3倍，熱影響區控制在10μm以內。晶圓切割設備的可靠性是大規模生產的基礎保障。中清航科對中心部件進行嚴格的可靠性測試，其中激光振蕩器經過10萬小時連續運行驗證，機械導軌的壽命測試達到200萬次往復運動無故障。設備平均無故障時間（MTBF）突破1000小時，遠超行業800小時的平均水平，為客戶提供穩定可靠的生產保障。蘇州晶圓切割廠