針對晶圓切割后的表面清潔度要求，中清航科在設備中集成了在線等離子清洗模塊。切割完成后立即對晶圓表面進行等離子處理，去除殘留的切割碎屑與有機污染物，清潔度達到Class10標準。該模塊可與切割流程無縫銜接，減少晶圓轉移過程中的二次污染風險。中清航科注重晶圓切割設備的人性化設計，操作界面采用直觀的圖形化布局，支持多語言切換與自定義快捷鍵設置。設備配備可調節(jié)高度的操作面板與符合人體工學的扶手設計，減少操作人員長時間工作的疲勞感，同時提供聲光報警與故障提示，使操作更便捷高效。中清航科提供切割工藝認證服務，助客戶通過車規(guī)級標準。連云港碳化硅線晶圓切割劃片廠

GaN材料硬度高且易產生解理裂紋。中清航科創(chuàng)新水導激光切割（WaterJetGuidedLaser），利用高壓水柱約束激光束，冷卻與沖刷同步完成。崩邊尺寸<8μm，熱影響區(qū)只2μm，滿足射頻器件高Q值要求。設備振動導致切割線寬波動。中清航科應用主動磁懸浮阻尼系統，通過6軸加速度傳感器實時生成反向抵消力，將振幅壓制在50nm以內。尤其適用于超窄切割道（<20μm）的高精度需求。光學器件晶圓需避免邊緣微裂紋影響透光率。中清航科紫外皮秒激光系統（波長355nm）配合光束整形模塊，實現吸收率>90%的冷加工，切割面粗糙度Ra<0.05μm，突破攝像頭模組良率瓶頸。溫州砷化鎵晶圓切割劃片切割路徑智能優(yōu)化系統中清航科研發(fā)，復雜芯片布局切割時間縮短35%。

半導體制造對潔凈度要求嚴苛，晶圓切割環(huán)節(jié)的微塵污染可能導致芯片失效。中清航科的切割設備采用全封閉防塵結構與高效HEPA過濾系統，工作區(qū)域潔凈度達到Class1標準，同時配備激光誘導等離子體除塵裝置，實時清理切割產生的微米級顆粒，使產品不良率降低至0.1%以下。在成本控制成為半導體企業(yè)核心競爭力的現在，中清航科通過技術創(chuàng)新實現切割耗材的大幅節(jié)約。其自主研發(fā)的金剛石切割刀片，使用壽命較行業(yè)平均水平延長50%，且通過刀片磨損實時監(jiān)測與自動補償技術，減少頻繁更換帶來的停機損失，幫助客戶降低20%的耗材成本，在激烈的市場競爭中構筑成本優(yōu)勢。

針對晶圓切割產生的廢料處理難題，中清航科創(chuàng)新設計了閉環(huán)回收系統。切割過程中產生的硅渣、切割液等廢料，通過管道收集后進行分離處理，硅材料回收率達到95%以上，切割液可循環(huán)使用，不僅降低了危廢處理成本，還減少了對環(huán)境的污染，符合半導體產業(yè)的綠色發(fā)展理念。在晶圓切割的精度校準方面，中清航科引入了先進的激光干涉測量技術。設備出廠前，會通過高精度激光干涉儀對所有運動軸進行全行程校準，生成誤差補償表，確保設備在全工作范圍內的定位精度一致。同時提供定期校準服務，配備便攜式校準工具，客戶可自行完成日常精度核查，保證設備長期穩(wěn)定運行。中清航科推出切割廢料回收服務，晶圓利用率提升至99.1%。

在碳化硅晶圓切割領域，由于材料硬度高達莫氏9級，傳統切割方式面臨效率低下的問題。中清航科創(chuàng)新采用超高壓水射流與激光復合切割技術，利用水射流的冷卻作用抑制激光切割產生的熱影響區(qū)，同時借助激光的預熱作用降低材料強度，使碳化硅晶圓的切割效率提升3倍，熱影響區(qū)控制在10μm以內。晶圓切割設備的可靠性是大規(guī)模生產的基礎保障。中清航科對中心部件進行嚴格的可靠性測試，其中激光振蕩器經過10萬小時連續(xù)運行驗證，機械導軌的壽命測試達到200萬次往復運動無故障。設備平均無故障時間（MTBF）突破1000小時，遠超行業(yè)800小時的平均水平，為客戶提供穩(wěn)定可靠的生產保障。中清航科切割實驗室開放合作，已助力30家企業(yè)工藝升級。常州碳化硅線晶圓切割

中清航科全自動切割線配備AI視覺定位，精度達±1.5μm。連云港碳化硅線晶圓切割劃片廠

中清航科開放6條全自動切割產線，支持從8英寸化合物半導體到12英寸邏輯晶圓的來料加工。云端訂單系統實時追蹤進度，平均交貨周期48小時，良率承諾99.2%。先進封裝RDL層切割易引發(fā)銅箔撕裂。中清航科應用超快飛秒激光（脈寬400fs）配合氦氣保護，在銅-硅界面形成納米級熔融區(qū)，剝離強度提升5倍。中清航科搭建全球較早切割工藝共享平臺，收錄3000+材料參數組合。客戶輸入晶圓類型/厚度/目標良率，自動生成比較好參數包，工藝開發(fā)周期縮短90%。連云港碳化硅線晶圓切割劃片廠