大規模量產場景中，晶圓切割的穩定性與一致性至關重要。中清航科推出的全自動切割生產線，集成自動上下料、在線檢測與 NG 品分揀功能，單臺設備每小時可處理 30 片 12 英寸晶圓，且通過工業互聯網平臺實現多設備協同管控，設備綜合效率（OEE）提升至 90% 以上，明顯降低人工干預帶來的質量波動。隨著芯片集成度不斷提高，晶圓厚度逐漸向超薄化發展，目前主流晶圓厚度已降至 50-100μm，切割過程中極易產生變形與破損。中清航科創新采用低溫輔助切割技術，通過局部深冷處理增強晶圓材料剛性，配合特制真空吸附平臺，確保超薄晶圓切割后的翹曲度小于 20μm，為先進封裝工藝提供可靠的晶圓預處理保障。切割粉塵在線監測中清航科傳感器精度達0.01μm顆粒物檢測。無錫半導體晶圓切割廠

晶圓切割是半導體封裝的中心環節，傳統刀片切割通過金剛石砂輪實現材料分離。中清航科研發的超薄刀片（厚度15-20μm）結合主動冷卻系統，將切割道寬度壓縮至30μm以內，崩邊控制在5μm以下。我們的高剛性主軸技術可適配8/12英寸晶圓，切割速度提升40%，為LED、MEMS器件提供經濟高效的解決方案。針對超薄晶圓（<50μm）易碎裂難題，中清航科激光隱形切割系統采用紅外脈沖激光在晶圓內部形成改性層，通過擴張膜實現無應力分離。該技術消除機械切割導致的微裂紋，良率提升至99.3%，尤其適用于存儲芯片、CIS等器件，助力客戶降低材料損耗成本。江蘇晶圓切割測試切割冷卻液在線凈化裝置中清航科研發，雜質濃度自動控制＜1ppm。

為提升芯片產出量，中清航科通過刀片動態平衡控制+激光輔助定位，將切割道寬度從50μm壓縮至15μm。導槽設計減少材料浪費，使12英寸晶圓有效芯片數增加18%，明顯降低單顆芯片制造成本。切割產生的亞微米級粉塵是電路短路的元兇。中清航科集成靜電吸附除塵裝置，在切割點10mm范圍內形成負壓場，配合離子風刀清理殘留顆粒，潔凈度達Class 1標準（>0.3μm顆粒<1個/立方英尺）。中清航科設備內置AOI（自動光學檢測）模塊，采用多光譜成像技術實時識別崩邊、微裂紋等缺陷。AI算法在0.5秒內完成芯片級判定，不良品自動標記，避免后續封裝資源浪費，每年可為客戶節省品質成本超百萬。

在晶圓切割的質量檢測方面，中清航科引入了三維形貌檢測技術。通過高分辨率 confocal 顯微鏡對切割面進行三維掃描，生成精確的表面粗糙度與輪廓數據，粗糙度測量精度可達 0.1nm，為工藝優化提供量化依據。該檢測結果可直接與客戶的質量系統對接，實現數據的無縫流轉。針對晶圓切割過程中的熱變形問題，中清航科開發了恒溫控制切割艙。通過高精度溫度傳感器與 PID 溫控系統，將切割艙內的溫度波動控制在 ±0.1℃以內，同時采用熱誤差補償算法，實時修正溫度變化引起的機械變形，確保在不同環境溫度下的切割精度穩定一致。中清航科切割機節能模式降低功耗40%，年省電費超15萬元。

在晶圓切割設備的自動化升級浪潮中，中清航科走在行業前列。其新推出的智能切割單元，可與前端光刻設備、后端封裝設備實現無縫對接，通過 SECS/GEM 協議完成數據交互，實現半導體生產全流程的自動化閉環。該單元還具備自我診斷功能，能提前預警潛在故障，將非計劃停機時間減少 60%，為大規模生產提供堅實保障。對于小尺寸晶圓的切割，傳統設備往往面臨定位難、效率低的問題。中清航科專門設計了針對 2-6 英寸小晶圓的切割工作站，采用多工位旋轉工作臺，可同時處理 8 片小晶圓，切割效率較單工位設備提升 4 倍。配合特制的彈性吸盤，能有效避免小晶圓吸附時的損傷，特別適合 MEMS 傳感器、射頻芯片等小批量高精度產品的生產。晶圓切割MES系統中清航科定制，實時追蹤每片切割工藝參數。南通砷化鎵晶圓切割測試

晶圓切割后分選設備中清航科集成方案，效率達6000片/小時。無錫半導體晶圓切割廠

中清航科兆聲波清洗技術結合納米氣泡噴淋，去除切割道深槽內的微顆粒。流體仿真設計使清洗液均勻覆蓋15:1深寬比結構，殘留物<5ppb，電鏡檢測達標率100%。中清航科推出刀片/激光器租賃服務：通過云平臺監控耗材使用狀態，按實際切割長度計費。客戶CAPEX（資本支出）降低40%，并享受技術升級，實現輕資產運營。中清航科VirtualCut軟件構建切割過程3D物理模型，輸入材料參數即可預測崩邊尺寸、應力分布。虛擬調試功能將新工藝驗證周期從3周壓縮至72小時，加速客戶產品上市。中清航科綠色切割方案：冷卻液循環利用率達95%，激光系統能耗降低30%（對比行業均值）。碳足跡追蹤平臺量化每片晶圓加工排放，助力客戶達成ESG目標，已獲ISO 14064認證。無錫半導體晶圓切割廠