半導(dǎo)體滾鍍?cè)O(shè)備

是一種于半導(dǎo)體制造中金屬化工藝的精密設(shè)備，主要用于在半導(dǎo)體晶圓、芯片或微型元件表面沉積均勻的金屬鍍層。其在于通過可控的電化學(xué)或化學(xué)鍍工藝，實(shí)現(xiàn)高精度、高一致性的金屬覆蓋，滿足集成電路封裝、先進(jìn)封裝及微機(jī)電系統(tǒng)等領(lǐng)域的特定需求

與傳統(tǒng)滾鍍不同，半導(dǎo)體滾鍍更注重工藝潔凈度、鍍層精度及與半導(dǎo)體材料的兼容性。

二、功能

1.金屬互連：在晶圓上形成銅導(dǎo)線。

2.凸塊制備：沉積錫、銅、金等材料，用于芯片與基板的電氣連接。

3.阻擋層/種子層鍍覆：鍍鈦、鉭等材料，防止金屬擴(kuò)散并增強(qiáng)附著力。

三、設(shè)備組成

1.電鍍槽：

材質(zhì)：耐腐蝕材料，避免污染鍍液

鍍液循環(huán)系統(tǒng)：維持鍍液成分均勻，過濾顆粒雜質(zhì)

2.旋轉(zhuǎn)載具：

晶圓固定裝置：真空吸附或機(jī)械夾持，確保晶圓平穩(wěn)旋轉(zhuǎn)

轉(zhuǎn)速控制：通過伺服電機(jī)調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速，優(yōu)化鍍層均勻性

3.陽極系統(tǒng)：

可溶性/不溶性陽極：銅、鉑等材料，依鍍層需求選擇

陽極位置調(diào)節(jié)：控制電場(chǎng)分布，減少邊緣效應(yīng)

4.供液與噴淋系統(tǒng)：

多點(diǎn)噴淋頭：均勻分配鍍液至晶圓表面，避免氣泡滯留

流量控制：精確調(diào)節(jié)鍍液流速，匹配不同工藝需求

5.控制系統(tǒng)：

PLC/工控機(jī)：集成溫度、pH值、電流密度等參數(shù)監(jiān)測(cè)與反饋。

配方管理：存儲(chǔ)不同鍍層的工藝參數(shù) 汽車輪轂電鍍?cè)O(shè)備配置多軸旋轉(zhuǎn)掛具，360 度無死角電鍍，滿足復(fù)雜曲面的均勻鍍層要求。陶瓷元器件鍍金電鍍?cè)O(shè)備周邊設(shè)備

電鍍?cè)O(shè)備是通過電解反應(yīng)在物體表面沉積金屬層的裝置，用于形成保護(hù)性或功能性涂層。

其系統(tǒng)包括：

1.電解電源：提供0-24V直流電，電流可達(dá)數(shù)千安培，適配不同鍍種需求；

2.電解槽：耐腐蝕材質(zhì)（如PP/PVDF），雙層防漏設(shè)計(jì)，容積0.5-10m3；

3.電極系統(tǒng)：陽極采用可溶性金屬或不溶性鈦籃，陰極掛具定制設(shè)計(jì)，確保接觸電阻＜0.1Ω；

4.控制系統(tǒng)：精細(xì)溫控（±1℃）、pH監(jiān)測(cè)（±0.1）及鍍層厚度管理。

設(shè)備分類：

掛鍍線：精密件加工，厚度均勻性±5%；

滾鍍系統(tǒng)：小件批量處理，效率3-8㎡/h；

連續(xù)電鍍線：帶材/線材高速生產(chǎn)，產(chǎn)能達(dá)30㎡/h；

選擇性電鍍：數(shù)控噴射，局部鍍層精度±3%。

技術(shù)前沿：

脈沖電鍍：納米晶結(jié)構(gòu)（晶粒＜50nm），孔隙率降低60%；

復(fù)合電鍍：添加納米顆粒（SiC/Al?O?），硬度達(dá)HV1200；智能化：機(jī)器視覺定位（±0.1mm），大數(shù)據(jù)實(shí)時(shí)優(yōu)化工藝。

環(huán)保與應(yīng)用：閉路水循環(huán)（回用率＞90%）及重金屬回收技術(shù)；汽車（耐鹽霧＞720h）、PCB（微孔鍍銅偏差＜8%）、航空航天（耐溫800℃）等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。設(shè)備正向高精度、低能耗、智能化發(fā)展，納米電鍍等新技術(shù)持續(xù)突破工藝極限。選型需結(jié)合基材特性、鍍層需求及成本綜合考量。 重慶醫(yī)療器材電鍍?cè)O(shè)備攪拌設(shè)備通過空氣鼓泡或機(jī)械槳葉驅(qū)動(dòng)電解液流動(dòng)，避免濃度分層，提升鍍層均勻性與沉積效率。

精密電子元件叁筒滾鍍線

一、設(shè)備概述:

適用于電鍍鋅、鍍鎳、鍍錫、鍍鉻、鍍銅、鍍鎘等有色金屬；鍍金、鍍銀等貴重金屬的精密電鍍。

降低孔隙率，晶核的形成速度大于成長速度，促使晶核細(xì)化。

改善結(jié)合力，使鈍化膜擊穿，有利于基體與鍍層之間牢固的結(jié)合。

改善覆蓋能力和分散能力，高的陰極負(fù)電位使普通電鍍中鈍化的部位也能沉積，掛鍍生產(chǎn)線設(shè)備，減緩形態(tài)復(fù)雜零件的突出部位由于沉積離子過度消耗而帶來的“燒焦”“樹枝狀”沉積的缺陷，對(duì)于獲得一個(gè)給定特性鍍層的厚度可減少到原來1/3~1/2，節(jié)省原材料。

降低鍍層的內(nèi)應(yīng)力，改善晶格缺陷、雜質(zhì)、空洞、瘤子等，容易得到無裂紋的鍍層，減少添加劑。

有利于獲得成份穩(wěn)定的合金鍍層。

改善陽極的溶解，不需陽極活化劑。

改進(jìn)鍍層的機(jī)械物理性能，如提高密度，降低表面電阻和體電阻，提高韌性、耐磨性、抗蝕性，而且可以控制鍍層硬度。

傳統(tǒng)的電鍍抑制副作用的產(chǎn)生、改善電流分布、調(diào)節(jié)液相傳質(zhì)過程、控制結(jié)晶取向顯得毫無作用，面對(duì)絡(luò)合劑和添加劑的研究，成了電鍍工藝研究的主要方向。納米開關(guān)電源解決了傳統(tǒng)整流器存在的缺陷。提高產(chǎn)品成品率、產(chǎn)品質(zhì)量。這些產(chǎn)品可適用于電鍍、電子、化工、氧化著色等行業(yè)。

深圳志成達(dá)設(shè)計(jì)的自動(dòng)加藥機(jī)設(shè)備，如何在電鍍廠使用？

按電鍍工藝藥劑添加

分化學(xué)鎳自動(dòng)加藥設(shè)備：通過先進(jìn)傳感器和控制系統(tǒng)，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)化學(xué)鎳溶液濃度、pH值、溫度等參數(shù)，依預(yù)設(shè)工藝要求自動(dòng)調(diào)整添加劑加入量，保障溶液穩(wěn)定性，提高電鍍產(chǎn)品一致性與質(zhì)量。還具備高效節(jié)能特點(diǎn)，減少化學(xué)品浪費(fèi)與環(huán)境污染，同時(shí)減輕工人勞動(dòng)強(qiáng)度。

電鍍藥水全自動(dòng)添加系統(tǒng)：如秒準(zhǔn)MAZ-XR300A18，基于莫塞萊定律和比爾-朗伯定律，利用軟X射線和可見光譜對(duì)電鍍液中金屬離子（如Ni2?、Sn2?等）和非金屬組分（如磷酸、氫氧化鈉等添加劑）進(jìn)行定性、定量分析。具備自清洗功能，支持多通道采樣，可全組分在線分析，適用于高溫強(qiáng)腐蝕性環(huán)境，安全性高。

按功能用途分

pH自動(dòng)加藥機(jī)：用于維持電鍍液pH值穩(wěn)定。電鍍過程中，pH值變化會(huì)影響鍍層質(zhì)量，該設(shè)備通過pH傳感器實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)，當(dāng)pH值偏離設(shè)定范圍，自動(dòng)控制加酸或加堿泵添加相應(yīng)藥劑，使pH值保持在合適區(qū)間。

光亮劑自動(dòng)加藥機(jī)：光亮劑能提升電鍍層光亮程度和表面質(zhì)量。此設(shè)備依據(jù)電鍍液中光亮劑濃度變化，自動(dòng)添加光亮劑，保證鍍層外觀質(zhì)量穩(wěn)定，避免因光亮劑不足或過量導(dǎo)致鍍層發(fā)暗、出現(xiàn)條紋等問題。 自動(dòng)化電鍍線的機(jī)器人上下料系統(tǒng)，通過視覺識(shí)別定位工件，實(shí)現(xiàn)高精度無人化操作。

電鍍?cè)O(shè)備是通過電解反應(yīng)在物體表面沉積金屬層的裝置，用于形成保護(hù)性或功能性涂層。

其系統(tǒng)包括：

電解電源：提供0-24V直流電，電流可達(dá)數(shù)千安培，適配不同鍍種需求；

電解槽：耐腐蝕材質(zhì)（如PP/PVDF），雙層防漏設(shè)計(jì)，容積0.5-10m3；

電極系統(tǒng)：陽極采用可溶性金屬或不溶性鈦籃，陰極掛具定制設(shè)計(jì)，確保接觸電阻＜0.1Ω；

控制系統(tǒng)：精細(xì)溫控（±1℃）、pH監(jiān)測(cè)（±0.1）及鍍層厚度管理。

設(shè)備分類：

掛鍍線：精密件加工，厚度均勻性±5%；

滾鍍系統(tǒng)：小件批量處理，效率3-8㎡/h；

連續(xù)電鍍線：帶材/線材高速生產(chǎn)，產(chǎn)能達(dá)30㎡/h；選擇性電鍍：數(shù)控噴射，局部鍍層精度±3%。技術(shù)前沿：脈沖電鍍：納米晶結(jié)構(gòu)（晶粒＜50nm），孔隙率降低60%；

復(fù)合電鍍：添加納米顆粒（SiC/Al?O?），硬度達(dá)HV1200；智能化：機(jī)器視覺定位（±0.1mm），大數(shù)據(jù)實(shí)時(shí)優(yōu)化工藝。環(huán)保與應(yīng)用：閉路水循環(huán)（回用率＞90%）及重金屬回收技術(shù)；汽車（耐鹽霧＞720h）、PCB（微孔鍍銅偏差＜8%）、航空航天（耐溫800℃）等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。設(shè)備正向高精度、低能耗、智能化發(fā)展，納米電鍍等新技術(shù)持續(xù)突破工藝極限。選型需結(jié)合基材特性、鍍層需求及成本綜合考量。 無氰電鍍?cè)O(shè)備配套活化劑與絡(luò)合劑，替代傳統(tǒng)含氰工藝，在保障鍍層質(zhì)量的同時(shí)提升安全性。深圳手動(dòng)電鍍?cè)O(shè)備

滾鍍?cè)O(shè)備采用帶孔滾筒裝載小工件，旋轉(zhuǎn)翻滾中完成電鍍，高效處理螺絲、電子元件等批量小件。陶瓷元器件鍍金電鍍?cè)O(shè)備周邊設(shè)備

被動(dòng)元器件與電鍍?cè)O(shè)備的應(yīng)用案例：

案例1：MLCC端電極電鍍

           流程：陶瓷燒結(jié)→端面研磨→濺射鎳層→電鍍銅/錫層→激光切割分粒。

          設(shè)備：濺射鍍膜機(jī)+滾鍍線，確保端電極導(dǎo)電性與焊接性。

案例2：薄膜電阻調(diào)阻后電鍍

          流程：氧化鋁基板→濺射鎳鉻電阻膜→激光調(diào)阻→電鍍鎳/錫保護(hù)層。

           作用：電鍍層防止調(diào)阻后的敏感膜層氧化，并提升端面焊接性能。

案例3：功率電感引腳鍍錫

           流程：磁芯繞線→引腳焊接→電鍍純錫→熱風(fēng)整平。

          目標(biāo)：降低接觸電阻，適應(yīng)大電流場(chǎng)景。 陶瓷元器件鍍金電鍍?cè)O(shè)備周邊設(shè)備