高精度定位
伺服系統+光柵尺反饋,確保工件浸鍍位置誤差<1mm適用于精密電子接插件、汽車精密部件等對鍍層均勻性要求高的場景(厚度偏差±3-5%)。
多工藝兼容性
可集成除油、酸洗、電鍍、鈍化、烘干等20+工序支持掛鍍、滾鍍(通過可切換掛具)混合生產
柔性化生產
通過編程快速切換工件類型(換型時間<30分鐘)支持小批量多品種(如同時處理10種不同規格螺栓)
穩定性強
故障率<0.5%(關鍵部件如電機、傳感器采用工業級防護)連續運行壽命>10萬小時
行業 應用案例 工藝要求 汽車制造 發動機支架鍍鋅、輪轂鍍鉻 耐鹽霧>720小時,厚度10-15μm
電子行業 手機接口鍍金、PCB接插件鍍鎳 鍍層 孔隙率<5個/cm2 五金 衛浴鍍銅鎳鉻三鍍層 表面粗糙度Ra<0.2μm 攪拌設備通過空氣鼓泡或機械槳葉驅動電解液流動,避免濃度分層,提升鍍層均勻性與沉積效率。廣西電鍍設備產業

一、零件特性:從形狀到材質的精細適配
1. 形狀復雜度
規則件--(如螺絲、螺母):優先選擇臥式滾鍍機,六棱柱滾筒設計(開孔率 20%-40%)可實現零件均勻翻滾,鍍層均勻性達 95% 以上
精密件--(如半導體引線框架):采用振動電鍍機,通過電磁振動(振幅 0.1-2mm)減少零件碰撞,鍍層厚度偏差≤±5μm,孔隙率可降至 0.4 個 /cm2 以下。
復雜件--(如帶盲孔的航空零件):離心滾鍍機(轉速 50-200rpm)利用離心力強化鍍液滲透,鍍層致密性提升 30%,適合功能性鍍層(如鍍硬鉻)。
2. 材質與尺寸
脆性材料(如陶瓷、玻璃):選擇傾斜式滾筒,降低翻滾沖擊力,避免零件破損。
微型零件(如電子元件):精密微型滾鍍機(滾筒容量≤5L)適配,菱形網孔(開孔率>45%)和螺旋導流板設計確保鍍層均勻,孔隙率<0.1%10。
大型零件(如汽車輪轂):需定制非標臥式滾鍍機,單槽負載可達 50kg,配合變頻調速(0.5-15rpm)實現鍍層厚度可控。
二、鍍層工藝:從基礎防護到功能
1. 鍍層類型
防護性鍍層(鍍鋅、鎳):
鍍鋅:適合電子元件。
鍍鎳:用于衛浴五金
功能性鍍層(硬鉻、貴金屬):
硬鉻:需搭配三價鉻工藝(毒性降低 96%)。
鍍金 / 銀:需選擇磁耦合驅動設備,防止鍍液泄漏。 安徽電鍍設備周邊產業滾鍍機滾筒采用聚氯乙烯材質打孔設計,確保電解液流通,配合變頻電機調節轉速,保障小件鍍層均勻。

是一種于半導體制造中金屬化工藝的精密設備,主要用于在半導體晶圓、芯片或微型元件表面沉積均勻的金屬鍍層。其在于通過可控的電化學或化學鍍工藝,實現高精度、高一致性的金屬覆蓋,滿足集成電路封裝、先進封裝及微機電系統等領域的特定需求
與傳統滾鍍不同,半導體滾鍍更注重工藝潔凈度、鍍層精度及與半導體材料的兼容性。
1.金屬互連:在晶圓上形成銅導線。
2.凸塊制備:沉積錫、銅、金等材料,用于芯片與基板的電氣連接。
3.阻擋層/種子層鍍覆:鍍鈦、鉭等材料,防止金屬擴散并增強附著力。
1.電鍍槽:
材質:耐腐蝕材料,避免污染鍍液
鍍液循環系統:維持鍍液成分均勻,過濾顆粒雜質
2.旋轉載具:
晶圓固定裝置:真空吸附或機械夾持,確保晶圓平穩旋轉
轉速控制:通過伺服電機調節轉速,優化鍍層均勻性
3.陽極系統:
可溶性/不溶性陽極:銅、鉑等材料,依鍍層需求選擇
陽極位置調節:控制電場分布,減少邊緣效應
4.供液與噴淋系統:
多點噴淋頭:均勻分配鍍液至晶圓表面,避免氣泡滯留
流量控制:精確調節鍍液流速,匹配不同工藝需求
5.控制系統:
PLC/工控機:集成溫度、pH值、電流密度等參數監測與反饋。
配方管理:存儲不同鍍層的工藝參數
1.前處理:晶圓清洗、去氧化層、活化表面。
2.裝載:將晶圓固定于旋轉載具,浸入鍍液。
3.電鍍:
施加電流,金屬離子在晶圓表面還原沉積。
旋轉載具確保鍍液流動均勻,消除厚度差異。
4.后處理:鍍層退火、清洗、干燥。
1.高均勻性:
旋轉+噴淋設計減少“邊緣增厚”現象,鍍層均勻性達±5%以內。
2.精密控制:電流密度精度:±1 mA/cm2;溫度波動:±0.5℃。
3.潔凈度保障:設備內建HEPA過濾系統,滿足Class 1000以下潔凈環境。
4.高效生產:支持多片晶圓同時處理(如6片/批次),UPH(每小時產量)可達50~100片。
1.先進封裝:2.5D/3D IC的TSV鍍銅、Fan-Out封裝中的RDL金屬化。
2.功率器件:IGBT、MOSFET背面金屬化(鍍銀、鍍鎳)。
3.傳感器與MEMS:微結構表面鍍金,提升電氣性能與可靠性。 納米鍍層設備通過超聲攪拌與脈沖電源結合,制備微米級致密鍍層,滿足航空航天部件的超高防腐需求。

電鍍設備是通過電解反應在物體表面沉積金屬層的裝置,用于形成保護性或功能性涂層。
其系統包括:
電解電源:提供0-24V直流電,電流可達數千安培,適配不同鍍種需求;
電解槽:耐腐蝕材質(如PP/PVDF),雙層防漏設計,容積0.5-10m3;
電極系統:陽極采用可溶性金屬或不溶性鈦籃,陰極掛具定制設計,確保接觸電阻<0.1Ω;
控制系統:精細溫控(±1℃)、pH監測(±0.1)及鍍層厚度管理。
設備分類:
掛鍍線:精密件加工,厚度均勻性±5%;
滾鍍系統:小件批量處理,效率3-8㎡/h;
連續電鍍線:帶材/線材高速生產,產能達30㎡/h;選擇性電鍍:數控噴射,局部鍍層精度±3%。技術前沿:脈沖電鍍:納米晶結構(晶粒<50nm),孔隙率降低60%;
復合電鍍:添加納米顆粒(SiC/Al?O?),硬度達HV1200;智能化:機器視覺定位(±0.1mm),大數據實時優化工藝。環保與應用:閉路水循環(回用率>90%)及重金屬回收技術;汽車(耐鹽霧>720h)、PCB(微孔鍍銅偏差<8%)、航空航天(耐溫800℃)等領域廣泛應用。設備正向高精度、低能耗、智能化發展,納米電鍍等新技術持續突破工藝極限。選型需結合基材特性、鍍層需求及成本綜合考量。 自動化電鍍設備集成 PLC 控制系統,聯動傳輸裝置實現工序時間、電壓參數準確控制,提升效率。浙江電鍍設備生產線
槽體設備采用 PVC、PP 等耐酸堿材料,根據電解液特性定制,有效抵御鹽酸、鉻酸等藥液腐蝕。廣西電鍍設備產業
電鍍生產線其組成部分圍繞 “前處理→電鍍處理→后處理→輔助控制” 具體如下:
一、工藝處理系統
1. 前處理設備
除油裝置:
化學除油槽:使用堿性溶液或表面活性劑,去除工件表面油污。
電解除油槽:通過電化學作用強化除油效果,分陽極除油(適用于鋼鐵件)和陰極除油(適用于鋁、銅等易腐蝕金屬)。
酸洗 / 活化設備:
酸洗槽-活化槽-水洗槽
2.電鍍處理設備
鍍槽主體:
按電鍍方式分類:
掛鍍槽:用于中大件或精密件
滾鍍機:用于小尺寸、大批量工件(如螺絲、電子元件)
連續鍍設備:針對帶狀 / 線狀工件(如鋼帶、銅線)
槽體材料:根據電解液性質選擇
3. 后處理設備
清洗系統:多級水洗(冷水洗、熱水洗),去除鍍層表面殘留電解液,防止腐蝕。
鈍化 / 封閉裝置:
鈍化槽:通過鉻酸鹽、無鉻鈍化劑等形成保護膜(如鍍鋅后的藍白鈍化、五彩鈍化),提高耐腐蝕性。
封閉槽:用于多孔鍍層(如陽極氧化膜),通過熱水封閉或有機涂層封閉,增強膜層致密性。
干燥設備:
熱風干燥箱:適用于小件批量干燥,溫度可控(50~150℃)。
離心干燥機:滾鍍后工件甩干(滾筒直接接入,快速去除表面水分)。
特殊處理:如鍍后拋光(機械或電解拋光)、涂油(防銹)等。 廣西電鍍設備產業