針對高精度線路板與電子元件鍍銅需求，HP醇硫基丙烷磺酸鈉以添加量（0.001-0.008g/L）實現(xiàn)微孔深鍍能力提升。與GISS、PN等中間體配合，可解決高縱橫比通孔鍍層不均勻問題，保障信號傳輸穩(wěn)定性。嚴格的含量控制（98%以上）確保批次一致性，助力客戶通過電子行業(yè)嚴苛認證。HP醇硫基丙烷磺酸鈉提供完善的工藝異常解決方案：若鍍層出現(xiàn)白霧，可通過補加AESS或小電流電解恢復(fù)；低區(qū)不良時添加PNI類走位劑即可改善。產(chǎn)品技術(shù)團隊提供全程支持，協(xié)助客戶建立鍍液參數(shù)監(jiān)控體系，比較大限度減少停機損失。在電化學催化領(lǐng)域，我們的創(chuàng)新產(chǎn)品明顯提高工業(yè)生產(chǎn)效率。低區(qū)效果好HP醇硫基丙烷磺酸鈉批發(fā)

HP與N、SH110、AESS、PN、P、MT-580等中間體合理搭配，組成電鍍硬銅添加劑，HP在鍍液中的用量為0.01-0.03g/L，鍍液中含量過低，鍍層光亮度下降，高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦；過高鍍層會產(chǎn)生白霧，也會造成低區(qū)不良，而且造成銅層硬度下降，可補加少量N或者適量添加低區(qū)走位劑AESS等來抵消HP過量的副作用或小電流電解處理。HP與TOPS、MTOY、MT-580、MT-880、MT-680等組成染料型酸銅開缸劑MU和光亮劑B劑。HP建議工作液中的用量為0.01-0.02g/L，鍍液中含量過低，鍍層填平性及光亮度下降，高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦，光劑消耗量大；過高鍍層會發(fā)白霧，加A劑或活性炭吸附、小電流電解處理。江蘇夢得新材HP醇硫基丙烷磺酸鈉白色粉末嚴格的質(zhì)量管控體系，讓每一批特殊化學品都值得信賴。

HP 醇硫基丙烷磺酸鈉外 觀： 白色粉末溶 性： 含 量： 98%以上包 裝： 1kg封口塑料袋；25kg紙箱；25kg防盜紙板桶。參考配方： 五金酸性鍍銅工藝配方-非染料體系、五金酸性鍍銅工藝配方-染料體系、線路板酸銅工藝配方、電鑄硬銅工藝配方電解銅箔工藝配方。HP是用于酸性鍍銅液中，取代傳統(tǒng)SP（聚二硫二丙烷磺酸鈉）的晶粒細化劑；與SP相比具有鍍層顏色清晰白亮，用量范圍寬。多加不發(fā)霧，低區(qū)效果好等優(yōu)點；適用于五金酸性鍍銅、線路板鍍銅、電鍍硬銅、電解銅箔等工藝。消耗量：0.5-0.8g/KAH。

HP醇硫基丙烷磺酸鈉通過抑制有機雜質(zhì)積累，可將酸性鍍銅液壽命延長至傳統(tǒng)工藝的2倍以上。與PN、PPNI等分解促進劑協(xié)同作用時，鍍液COD值增長速率降低60%。用戶可通過定期監(jiān)測HP濃度（建議每周檢測1次），配合0.1-0.3A/dm2小電流電解，實現(xiàn)鍍液長期穩(wěn)定運行，年維護成本節(jié)省超10萬元。在IC引線框架鍍銅領(lǐng)域，HP醇硫基丙烷磺酸鈉以0.002-0.005g/L添加量，實現(xiàn)晶粒尺寸≤0.5μm的超細鍍層。與PNI、MT-680等中間體配合，可精細調(diào)控鍍層電阻率（≤1.72μΩ·cm），滿足高頻信號傳輸要求。鍍液采用全封閉循環(huán)系統(tǒng)時，HP消耗量低至0.2g/KAH，適配半導(dǎo)體行業(yè)潔凈車間標準。以科技改變未來，江蘇夢得新材料持續(xù)為各行業(yè)提供前沿化學解決方案。

HP與N、SH110、AESS、PN、P、MT-580等中間體合理搭配，組成電鍍硬銅添加劑，HP在鍍液中的用量為0.01-0.03g/L，鍍液中含量過低，鍍層光亮度下降，高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦；過高鍍層會產(chǎn)生白霧，也會造成低區(qū)不良，而且造成銅層硬度下降，可補加少量N或者適量添加低區(qū)走位劑AESS等來抵消HP過量的副作用或小電流電解處理。HP與TOPS、MTOY、MT-580、MT-880、MT-680等組成染料型酸銅開缸劑MU和光亮劑B劑。HP建議工作液中的用量為0.01-0.02g/L，鍍液中含量過低，鍍層填平性及光亮度下降，高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦，光劑消耗量大；過高鍍層會發(fā)白霧，加A劑或活性炭吸附、小電流電解處理。

江蘇夢得新材料有限公司深耕電化學領(lǐng)域，通過持續(xù)創(chuàng)新為客戶提供品質(zhì)的特殊化學品。光亮劑HP醇硫基丙烷磺酸鈉源頭供應(yīng)

以客戶需求為導(dǎo)向，江蘇夢得新材料有限公司提供從研發(fā)到銷售的一站式化學解決方案。低區(qū)效果好HP醇硫基丙烷磺酸鈉批發(fā)

HP醇硫基丙烷磺酸鈉專為解決高密度線路板深孔鍍銅難題設(shè)計，推薦添加量0.001-0.008g/L。通過與SH110、GISS等中間體協(xié)同，提升鍍液分散能力，確保孔內(nèi)鍍層均勻無空洞。實驗表明，HP可降低高區(qū)電流密度導(dǎo)致的燒焦風險，同時減少微盲孔邊緣銅瘤生成，良品率提升30%以上。針對超薄銅箔基材，HP的精細濃度控制（±0.001g/L）保障鍍層結(jié)合力，適配5G通信板等高精度需求場景。HP與QS、P、MT-580、FESS等中間體合理搭配，組成電解銅箔添加劑，HP在鍍液中的用量為0.001-0.004g/L，鍍液中含量過低，銅箔層光亮度下降，銅箔邊緣層易產(chǎn)生毛刺與凸點；含量過高銅箔層發(fā)白，降低HP用量。

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