厚度為0.1～2μm的薄層金屬氧化物或硫化物，如氧化銅、氧化鉻等，具有很高的太陽輻射吸收比和長波輻射透射比。6層構成的膜層的緩沖膜、過渡膜、吸收膜的主要成分是氧化鉻等氧化物，能夠吸收波長范圍為0.20～3.0μm的太陽輻射能量并轉化為熱能。本申請實現了用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的吸收率高、發射率低以及附著力好，其中的工作原理是：在2500nm波長以下的太陽光反射光譜，反射率越低，吸收率越高，相反的，在2500nm波長以上的太陽光反射光譜，反射率越高，發射率越低；對基材表面作預處理，增加吸熱體表面粗超度，能有效增強附著力，根據標準要求測試，結果為1級。經檢測，本申請制備的膜層的吸收率為93％～97％，比現有技術中膜層的吸收率提高了3％～9％。江西AM0太陽光譜模擬代理

示意性示出了本發明實施例太陽光照補償值計算方法的流程圖，如圖1所示，該方法例如可以包括操作s1～s1。s1，獲取地球靜止軌道衛星光學遙感圖像尺寸、地理經度區間、地理緯度區間、拍攝日期、拍攝時刻和拍攝位置高程。該尺寸包括地球靜止軌道衛星光學遙感圖像的長或寬，例如，獲取一幅大小為x×y的地球靜止軌道衛星光學遙感圖像。地理經度區間、地理緯度區間、拍攝日期、拍攝時刻和拍攝位置高程例如可以從數據庫中獲取。s2，根據地球靜止軌道衛星光學遙感圖像尺寸、地理經度區間、地理緯度區間、拍攝日期、拍攝時刻和拍攝位置高程，計算地球靜止軌道衛星光學遙感圖像拍攝位置的太陽直接輻射強度和太陽散射輻射強度。江西AM0太陽光譜模擬代理這種太陽能電池非常昂貴，但研究者認為其**重要的是表明了所能達到的效率上限。

為了得到高質量的化合物薄膜，通常在濺鍍金屬靶時，通入與被濺射出的物質反應的氣體，相互反應生成所需的化合物沉積在基材上，此種濺鍍系統稱為反應性濺鍍。如果所通入的氣體含量剛好足夠與濺射出的原子進行反應，使得在靶材表面甚少形成化合物，則有利濺射的進行。相反地，如果通入過量的氣體，則不僅在基材上與濺射出的原子進行反應，也會在靶面上與靶材反應生成化合物。因此，如何提高吸熱體的基材的外表面上的薄膜對太陽熱能的吸收，提高光熱轉換的效率，是本領域技術人員急需解決的技術問題。技術實現要素：

可選地，根據散射輻射大氣透明度系數和太陽高度角，計算太陽散射輻射強度，包括：根據，計算太陽散射輻射強度es(α，z)，k2為常系數，取值范圍通常為0.6≤k2≤0.9。(三)有益效果本發明提供一種太陽光照補償值計算方法，至少包括以下有益效果：通過地球靜止軌道衛星光學遙感圖像的尺寸、地理經度區間、地理緯度區間、拍攝日期、拍攝時刻和拍攝位置高程，計算拍攝時刻的太陽赤緯角、太陽時角、太陽高度角、太陽輻射強度、大氣光學質量、直射輻射大氣透明度系數、直接輻射強度、散射輻射大氣透明度系數、散射輻射強度、太陽總輻照強度，實現對于不同日期、不同時間、不同地點拍攝的地球靜止軌道衛星光學遙感圖像的太陽光照補償值計算，并且計算復雜度低，運行速度快，算法簡單，易于工程實現。撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發生化學反應生成氧化鉻。

伴隨工作溫度的升高，如何抑制高溫下熱輻射損失顯得愈發重要?；谇捌诘难芯炕A，研究組開發出另一種新型金屬陶瓷薄膜WTi-Al2O3。借助光學模擬設計，獲得太陽光譜選擇性吸收涂層結構參數的優化范圍，構建了WTi-Al2O3太陽光譜選擇性吸收涂層。經600℃長時間（840 h）退火，WTi-Al2O3涂層仍保持較高的吸收率~93%，500℃下的熱發射率*有10.3%，遠低于文獻報道值（>13%@500℃）。研究表明，WTi合金納米粒子內金屬Ti的外擴散、偏析及部分氧化可有效抑制W納米粒子的團聚和長大，從而提高涂層的熱穩定性，實現對WTi-Al2O3太陽光譜選擇性吸收涂層光學性能和熱穩定性的雙重調控（Nano Energy 2017, 37, 232），撞擊出來的銅離子沉積在步驟1)制得的強化膜的外表面上形成低發射率膜。安徽購買太陽光譜模擬低價

由于其尺寸很小——小于1平方毫米，因此可以有效地開發具有更復雜材料的太陽能電池。江西AM0太陽光譜模擬代理

本發明實施例的目的在于提供一種用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的制備方法。為解決上述的技術問題，本發明提供的技術方案為：一種用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的制備方法，包括以下依次進行的步驟：1)反應性濺鍍制備強化膜：在***真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發生化學反應生成氧化鉻，反應生成的氧化鉻沉積在吸熱體的基材的外表面上形成強化膜；2)濺鍍制備低發射率膜：在第二真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的銅離子沉積在步驟1)制得的強化膜的外表面上形成低發射率膜；江西AM0太陽光譜模擬代理

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