根據(jù)拍攝時(shí)刻和所地理經(jīng)度，計(jì)算拍攝時(shí)刻的太陽(yáng)時(shí)角。在本實(shí)施例一可行的方式中，可根據(jù)ω(x，t)＝(12-t)×15°-l(x)(5)計(jì)算太陽(yáng)時(shí)角，其中，t為拍攝時(shí)刻，ω(x，t)為坐標(biāo)為(x，y)的像素點(diǎn)在t時(shí)刻對(duì)應(yīng)的太陽(yáng)時(shí)角。s24，根據(jù)太陽(yáng)赤緯角、太陽(yáng)時(shí)角和地理緯度，計(jì)算拍攝時(shí)刻的太陽(yáng)高度角。在本實(shí)施例一可行的方式中，可根據(jù)α(x，y，d，t)＝arcsin[sinb(y)×sinδ(d)+cosb(y)×cosδ(d)×cosω(x，t)](6)計(jì)算太陽(yáng)高度角α(x，y，d，t)。濺鍍制備低發(fā)射率膜：在第二真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材。安徽太陽(yáng)光譜模擬購(gòu)買(mǎi)

s25，根據(jù)太陽(yáng)高度角和拍攝位置高程，計(jì)算相對(duì)大氣光學(xué)質(zhì)量。在本實(shí)施例一可行的方式中，根據(jù)其中，z表示地理位置(l(x)，b(y))處的海拔高度，r(α，z)為相對(duì)大氣光學(xué)質(zhì)量。s26，根據(jù)相對(duì)大氣光學(xué)質(zhì)量，計(jì)算直射輻射大氣透明度系數(shù)，并根據(jù)直射輻射大氣透明度系數(shù)，計(jì)算散射輻射大氣透明度系數(shù)。在本實(shí)施例一可行的方式中，根據(jù)τd(α，z)＝0.56×(e-0.56r(α，z)+e-0.096r(α，z))×k1(8)計(jì)算晴天無(wú)云條件下的直射輻射大氣透明度系數(shù)，其中，τd(α，z)為所述直射輻射大氣透明度系數(shù)，k1為常系數(shù)，根據(jù)大氣質(zhì)量渾濁程度，取值范圍例如可以為0.8≤k1≤0.9。海南下打光太陽(yáng)光譜模擬制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜，完成后在吸熱體的基材的外表面上制得包括6層的膜層。

4)反應(yīng)性濺鍍制備過(guò)渡膜：在第四真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來(lái)的鉻離子與通入的氧氣與氮?dú)獍l(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻，反應(yīng)生成的氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻沉積在步驟3)制得的緩沖膜的外表面上形成過(guò)渡膜；步驟4)中，靶材為鉻靶，功率為15kw，電壓為510v，真空度為8.0e-6torr，鍍膜速度為6mm/s，氬氣流量為90sccm，氮?dú)饬髁繛?0sccm，氧氣流量為50sccm，制得的過(guò)渡膜的厚度為70nm；5)反應(yīng)性濺鍍制備吸收膜：在第五真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來(lái)的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻，反應(yīng)生成的氧化鉻沉積在步驟4)制得的過(guò)渡膜的外表面上形成吸收膜；

2)濺鍍制備低發(fā)射率膜：在第二真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來(lái)的銅離子沉積在步驟1)制得的強(qiáng)化膜的外表面上形成低發(fā)射率膜；3)反應(yīng)性濺鍍制備緩沖膜：在第三真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來(lái)的鉻離子與通入的氮?dú)獍l(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氮化鉻，反應(yīng)生成的氮化鉻沉積在步驟2)制得的低發(fā)射率膜的外表面上形成緩沖膜；4)反應(yīng)性濺鍍制備過(guò)渡膜：在第四真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來(lái)的鉻離子與通入的氧氣與氮?dú)獍l(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻，反應(yīng)生成的氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻沉積在步驟3)制得的緩沖膜的外表面上形成過(guò)渡膜；在第五真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來(lái)的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻。

本申請(qǐng)?zhí)岣吡四拥墓鉄徂D(zhuǎn)換的效率，其中的工作原理是：純銅、黃銅的低發(fā)射率在金屬中比較低，*為0.03～0.05，因此本申請(qǐng)濺鍍制備了銅離子膜，作為低發(fā)射率膜，以降低膜層的發(fā)射率；抗反射膜是利用材料表面的反射能力與其折射率有關(guān)這一特性，通過(guò)降低材料表面的折射率，減少材料對(duì)太陽(yáng)輻射的反射，在金屬表面做多孔的二氧化硅膜層，其折射率較低，可使太陽(yáng)反射比**降低；氧化鉻等氧化物具有高吸收率，經(jīng)檢測(cè)，本申請(qǐng)制備的膜層的太陽(yáng)吸收率為93％～97％。實(shí)施例1一種用于選擇性吸收太陽(yáng)光譜的膜層的制備方法，包括以下依次進(jìn)行的步驟：本發(fā)明實(shí)施例的目的在于提供一種用于選擇性吸收太陽(yáng)光譜的膜層的制備方法。甘肅AM1太陽(yáng)光譜模擬價(jià)格

為使本發(fā)明實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例。安徽太陽(yáng)光譜模擬購(gòu)買(mǎi)

該儀器能夠快速顯示實(shí)時(shí)光譜，因此有可能找到具有***多普勒頻移的望遠(yuǎn)鏡位置，同時(shí)在這些位置記錄更長(zhǎng)的曝光光譜，提高信噪比。下圖所示的鐵譜線(xiàn)相隔約5pm，因?yàn)檫@些光譜不是在太陽(yáng)圓盤(pán)的末端拍攝的。太陽(yáng)自轉(zhuǎn)引起的兩條夫瑯和費(fèi)鐵線(xiàn)（相對(duì)于未移動(dòng)的氧線(xiàn)）多普勒頻移的測(cè)量。在左邊的圖表中，紅色和藍(lán)色的線(xiàn)是HF-8989-3光譜儀的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)，當(dāng)時(shí)太陽(yáng)圓盤(pán)的圖像通過(guò)輸入光纖移動(dòng)到光譜儀（從一個(gè)邊緣到另一個(gè)邊緣）。每個(gè)實(shí)驗(yàn)光譜的曝光時(shí)間<1秒。安徽太陽(yáng)光譜模擬購(gòu)買(mǎi)

昊躍光學(xué)科技（蘇州）有限公司辦公設(shè)施齊全，辦公環(huán)境優(yōu)越，為員工打造良好的辦公環(huán)境。在昊躍光學(xué)近多年發(fā)展歷史，公司旗下現(xiàn)有品牌HYO等。公司堅(jiān)持以客戶(hù)為中心、光學(xué)鏡頭、天文望遠(yuǎn)鏡及配件的研發(fā)、組裝、銷(xiāo)售及相關(guān)技術(shù)服務(wù)；戶(hù)外用品的開(kāi)發(fā)及銷(xiāo)售。（依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目，經(jīng)相關(guān)部門(mén)批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)）許可項(xiàng)目：貨物進(jìn)出口；進(jìn)出口代理；技術(shù)進(jìn)出口（依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目，經(jīng)相關(guān)部門(mén)批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)，具體經(jīng)營(yíng)項(xiàng)目以審批結(jié)果為準(zhǔn)）一般項(xiàng)目：光學(xué)玻璃銷(xiāo)售；照相機(jī)及器材銷(xiāo)售；教學(xué)儀器銷(xiāo)售；光學(xué)儀器銷(xiāo)售；玻璃儀器銷(xiāo)售；燈具銷(xiāo)售；半導(dǎo)體照明器件銷(xiāo)售（除依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目外，憑營(yíng)業(yè)執(zhí)照依法自主開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)）市場(chǎng)為導(dǎo)向，重信譽(yù)，保質(zhì)量，想客戶(hù)之所想，急用戶(hù)之所急，全力以赴滿(mǎn)足客戶(hù)的一切需要。自公司成立以來(lái)，一直秉承“以質(zhì)量求生存，以信譽(yù)求發(fā)展”的經(jīng)營(yíng)理念，始終堅(jiān)持以客戶(hù)的需求和滿(mǎn)意為重點(diǎn)，為客戶(hù)提供良好的天文觀(guān)察濾光片，太陽(yáng)光譜模擬濾光片，儀器用濾光片，望遠(yuǎn)鏡，從而使公司不斷發(fā)展壯大。