近年來,中國科學院寧波材料技術與工程研究所功能薄膜與智構器件團隊聚焦新型金屬陶瓷基太陽光譜選擇性吸收涂層研發,以提升熱穩定性為抓手,在新型耐高溫金屬陶瓷材料設計、光學模擬、涂層構筑和熱穩定性強化機理研究等方面開展了一系列的工作。前期,利用金屬Al合金化Ag納米粒子,結合多靶共濺射的方法,獲得新型AgAl-Al2O3金屬陶瓷薄膜,耐熱溫度較Ag-Al2O3(350℃)提高至500℃,在非真空條件下經高溫長時間退火(~1000 h),光學性能非常穩定(ACS Applied Materials Interfaces 2014, 6, 11550; Applied Surface Science 2015, 331, 285)。膜層的附著力根據標準要求測試,結果為1級;本申請制備的膜層的光熱轉換的效率為77%~82%。西藏高級太陽光譜模擬AM1
經檢測,本申請制備的膜層的吸收率為93%~97%,比現有技術中膜層的吸收率提高了3%~9%;本申請制備的膜層的發射率為3%~5%,比現有技術中膜層的發射率降低了3%~12%;膜層的附著力根據標準要求測試,結果為1級;本申請制備的膜層的光熱轉換的效率為77%~82%,比現有技術中膜層的光熱轉換的效率提高了6%~10%;經國家節能產品質量監督檢驗中心檢測,該六層膜的膜層具有優異的性能,**優于國家標準要求,太陽吸收比α(am1.5)達0.94,半球發射比εh(80℃)*為0.038。新疆AM1太陽光譜模擬AM1本申請制備的膜層的發射率為3%~5%,比現有技術中膜層的發射率降低了3%~12%。
這發生在太陽大氣層的外層(夫瑯和費線),或通過地球大氣層內的吸收(由水蒸氣或氧氣等氣體引起的大氣吸收譜線)。每個單獨的條紋由標準具或VIPA的一個FSR隔開。標準具FSR由其制造工藝精確確定,這意味著將原始條紋圖像與現有文獻中的太陽光譜進行比較,即可得到相應的太陽光譜。HN-9332光譜儀在518nm附近記錄的太陽極光光譜顯示了太陽外層的Mg三重態吸收(除了所示的Mg線和Fe線之外,在太陽光譜的這個區域也有一些Ni吸收線)。比較LightMachineryHF-8989-2e光譜儀記錄的太陽光譜(紅色數據)和參考光譜(藍色數據)
6)反應性濺鍍制備抗反射膜:在第六真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來的硅離子與通入的氧氣發生化學反應生成二氧化硅,反應生成的二氧化硅沉積在步驟5)制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜,完成后在吸熱體的基材的外表面上制得包括6層的膜層。推薦的,步驟1)中,靶材為鉻靶,氬氣流量為50~200sccm,氧氣流量為10~200sccm,制得的強化膜的厚度為30~120nm。推薦的,步驟2)中,靶材為銅靶,氬氣流量為50~500sccm,制得的低發射率膜的厚度為180~220nm。膜層包括6層,從下到上依次為氧化鉻材質的強化膜。
用于比較光譜儀分辨能力的兩條氧氣譜線用箭頭標識(實驗數據以紅色顯示,并與文獻中的參考光譜進行了比較。右側顯示629.216nm處氧線的放大視圖,以及紅色He-Ne激光器(632.816nm處的單頻源)的光譜的插圖。03測量太陽自轉引起的多普勒頻移由于太陽吸收線和大氣氧線在太陽光譜的某些區域非常接近,這種接近可以通過測量太陽吸收線相對于固定氧線的多普勒頻移來確定太陽的旋轉速度,從而確定地球和太陽之間的當前距離。進行這項實驗所需的***設備是高頻光譜儀和太陽望遠鏡。當太陽相對于地球自轉時,太陽圓盤的一個分支朝著地球移動,而另一個分支后退。在第五真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發生化學反應生成氧化鉻。陜西銷售太陽光譜模擬銷售
反應性濺鍍制備緩沖膜:在第三真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材。西藏高級太陽光譜模擬AM1
為使本發明的目的、技術方案和優點更加清楚明白,以下結合具體實施例,并參照附圖,對本發明進一步詳細說明。本發明實施例提出一種用于地球靜止軌道衛星光學遙感圖像的太陽光照補償值方法,該方法通過地球靜止軌道衛星光學遙感圖像尺寸、地理經度區間、地理緯度區間、拍攝日期、拍攝時刻及拍攝位置高程,計算拍攝時刻的太陽赤緯角、太陽時角、太陽高度角、太陽輻射強度、大氣光學質量、直射輻射大氣透明度系數、直接輻射強度、散射輻射大氣透明度系數、散射輻射強度、太陽總輻照強度,實現對于不同日期、不同時間、不同地點拍攝的地球靜止軌道衛星光學遙感圖像的太陽光照補償值計算。西藏高級太陽光譜模擬AM1
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