QuantumXshape技術(shù)特點(diǎn)概要：快速原型制作，高精度，高設(shè)計自由度，簡易明了的工程流程；工業(yè)驗(yàn)證的晶圓級批量生產(chǎn)；200個標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量；通用及專門使用的打印材料；兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義雙光子聚合技術(shù)的運(yùn)用原理請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維。廣東亞微米雙光子聚合無掩光刻

雙光子聚合是物質(zhì)在發(fā)生雙光子吸收后所引發(fā)的光聚合過程。雙光子吸收是指物質(zhì)的一個分子同時吸收兩個光子的過程，只能在強(qiáng)激光作用下發(fā)生，是一種強(qiáng)激光下光與物質(zhì)相互作用的現(xiàn)象，屬于三階非線性效應(yīng)的一種。雙光子吸收的發(fā)生主要在脈沖激光所產(chǎn)生的特別強(qiáng)激光的焦點(diǎn)處，光路上其他地方的激光強(qiáng)度不足以產(chǎn)生雙光子吸收，而由于所用光波長較長，能量較低，相應(yīng)的單光子過程不能發(fā)生，因此，雙光子過程具有良好的空間選擇性。雙光子聚合利用了雙光子吸收過程對材料穿透性好、空間選擇性高的特點(diǎn)，在三維微加工、高密度光儲存及生物醫(yī)療領(lǐng)域有著巨大的應(yīng)用前景，近年來已成為全球高新技術(shù)領(lǐng)域的一大研究熱點(diǎn)江蘇3D打印雙光子聚合微納加工系統(tǒng)Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您一起揭秘雙光子聚合的加工原理。

Nanoscribe獨(dú)有的體素調(diào)諧技術(shù)2GL®可以在確保優(yōu)越的打印質(zhì)量的同時兼顧打印速度，實(shí)現(xiàn)自由曲面微光學(xué)元件通過3D打印精確對準(zhǔn)到光纖或光子芯片的光學(xué)軸線上。NanoscribeQX平臺打印系統(tǒng)配備光纖照明單元用于光纖芯檢測，確保打印精細(xì)對準(zhǔn)到光纖的光學(xué)軸線上。共焦檢測模塊用于3D基板拓?fù)錁?gòu)圖，實(shí)現(xiàn)在芯片的表面和面上的精細(xì)打印對準(zhǔn)。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®是市場上基于2PP原理微納加工技術(shù)中打印速度**快的。其動態(tài)體素調(diào)整需要相對較少的打印層次，即可實(shí)現(xiàn)具有光學(xué)級別、光滑以及納米結(jié)構(gòu)表面打印結(jié)果。這意味著在滿足苛刻的打印質(zhì)量要求的同時，其打印速度遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過任何當(dāng)前可用的2PP三維打印系統(tǒng)。2GL®作為市場上快的增材制造技術(shù)，非常適用于3D納米和微納加工，在滿足優(yōu)越打印質(zhì)量的前提下，其吞吐量相比任何當(dāng)前雙光子光刻系統(tǒng)都高出10到60倍。

對準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)(A2PL®)是Nanoscribe基于雙光子聚合（2PP）的一種新型專利納米微納制造技術(shù)。該技術(shù)可以將打印的結(jié)構(gòu)自動對準(zhǔn)到光纖和光子芯片上，例如用于光子封裝中的光學(xué)互連。同時高精度檢測系統(tǒng)還可以識別基準(zhǔn)點(diǎn)或拓?fù)浠滋卣鳎_保對3D打印進(jìn)行高度精確的對準(zhǔn)。Nanoscribe對準(zhǔn)雙光可光刻技術(shù)搭配nanoPrintX，一種基于場景圖概念的軟件工具，可用于定義對準(zhǔn)3D打印的打印項(xiàng)目。樹狀數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)提供了所有與打印相關(guān)的對象和操作的分層組織，用于定義何時、何地、以及如何進(jìn)行打印。在nanoPrintX中可以定義單個對準(zhǔn)標(biāo)記以及基板特征，例如芯片邊緣和光纖表面。使用QuantumXalign系統(tǒng)的共焦單元或光纖照明單元，可以識別這些特定的基板標(biāo)記，并將其與在nanoPrintX中定義的數(shù)字模型進(jìn)行匹配。對準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)和nanoPrintX軟件是QuantumXalign系統(tǒng)的標(biāo)配。Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)具有高設(shè)計自由度和高精度。

QuantumXshape技術(shù)特點(diǎn)概要：快速原型制作，高精度，高設(shè)計自由度，簡易明了的工程流程；工業(yè)驗(yàn)證的晶圓級批量生產(chǎn)；200個標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量；通用及專門使用的打印材料；兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。新型雙光子聚合技術(shù)的操作原理是什么？湖南亞微米級雙光子聚合技術(shù)

Nanoscribe中國分公司-納糯三維帶您一起探討國內(nèi)在雙光子聚合技術(shù)領(lǐng)域的未來發(fā)展。廣東亞微米雙光子聚合無掩光刻

Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。在全球頂端大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。作為基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的微納加工領(lǐng)域市場帶領(lǐng)者，Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體。基于2PP微納加工技術(shù)方面的專業(yè)知識，Nanoscribe為頂端科學(xué)研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強(qiáng)大的技術(shù)支持，并推動生物打印、微流體、微納光學(xué)、微機(jī)械、生物醫(yī)學(xué)工程和集成光子學(xué)技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展廣東亞微米雙光子聚合無掩光刻