從技術(shù)實(shí)現(xiàn)層面看，三維光子芯片與多芯MT-FA的協(xié)同設(shè)計(jì)突破了傳統(tǒng)二維平面的限制。三維光子芯片通過硅基光電子學(xué)技術(shù)，在芯片內(nèi)部構(gòu)建多層光波導(dǎo)網(wǎng)絡(luò)，結(jié)合微環(huán)諧振器、馬赫-曾德爾干涉儀等結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)光信號(hào)的調(diào)制、濾波與路由。而多芯MT-FA組件則通過高精度V槽基板與定制化端面角度，將外部光纖陣列與芯片光波導(dǎo)精確對(duì)準(zhǔn)，形成芯片-光纖-芯片的無縫連接。這種方案不僅降低了系統(tǒng)布線復(fù)雜度，更通過減少電光轉(zhuǎn)換次數(shù)明顯降低了功耗。以1.6T光模塊為例，采用三維光子芯片與多芯MT-FA的組合設(shè)計(jì)，可使單模塊功耗較傳統(tǒng)方案降低30%以上，同時(shí)支持CXP、CDFP等多種高速接口標(biāo)準(zhǔn)，適配以太網(wǎng)、Infiniband等多元網(wǎng)絡(luò)協(xié)議。隨著硅光集成技術(shù)的成熟，該方案在模場(chǎng)轉(zhuǎn)換、保偏傳輸?shù)葓?chǎng)景下的應(yīng)用潛力進(jìn)一步釋放，為下一代數(shù)據(jù)中心、超級(jí)計(jì)算機(jī)及6G通信網(wǎng)絡(luò)提供了高性能、低成本的解決方案。三維光子互連芯片與光模塊協(xié)同優(yōu)化，進(jìn)一步降低整體系統(tǒng)的能耗水平。寧波多芯MT-FA光組件三維芯片耦合技術(shù)

多芯MT-FA光組件的三維光子耦合方案是突破高速光通信系統(tǒng)帶寬瓶頸的重要技術(shù)，其重要在于通過三維空間光路設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)多芯光纖與光芯片的高效耦合。傳統(tǒng)二維平面耦合受限于光芯片表面平整度與光纖陣列排布精度，導(dǎo)致耦合損耗隨通道數(shù)增加呈指數(shù)級(jí)上升。而三維耦合方案通過在垂直于光芯片平面的方向引入微型反射鏡陣列或棱鏡結(jié)構(gòu)，將水平傳輸?shù)墓饽Ｊ睫D(zhuǎn)換為垂直方向耦合，使多芯光纖的纖芯與光芯片波導(dǎo)實(shí)現(xiàn)單獨(dú)、低損耗的垂直對(duì)接。例如，采用5個(gè)三維微型反射鏡組成的聚合物陣列，通過激光直寫技術(shù)精確控制反射鏡的曲面形貌與空間排布，可實(shí)現(xiàn)各通道平均耦合損耗低于4dB，工作波長(zhǎng)帶寬超過100納米，且兼容CMOS工藝與波分復(fù)用技術(shù)。這種設(shè)計(jì)不僅解決了高密度通道間的串?dāng)_問題，還通過三維堆疊結(jié)構(gòu)將光模塊體積縮小40%以上，為800G/1.6T光模塊的小型化提供了關(guān)鍵支撐。無錫三維光子芯片用多芯MT-FA光接口三維光子互連芯片通過先進(jìn)鍍膜工藝，增強(qiáng)光學(xué)元件的穩(wěn)定性與耐用性。

從制造工藝層面看，多芯MT-FA光耦合器的突破源于材料科學(xué)與精密工程的深度融合。其重要部件MT插芯采用陶瓷-金屬?gòu)?fù)合材料，通過超精密磨削將芯間距誤差控制在±0.5μm以內(nèi)，配合新型Hybrid353ND系列膠水實(shí)現(xiàn)UV固化定位與353ND環(huán)氧樹脂性能的雙重保障，有效解決了傳統(tǒng)工藝中因熱應(yīng)力導(dǎo)致的通道偏移問題。在三維集成方面，該器件通過銅錫熱壓鍵合技術(shù)，在15μm間距上形成2304個(gè)微米級(jí)互連點(diǎn)，剪切強(qiáng)度達(dá)114.9MPa，同時(shí)將電容降低至10fF，使光子層與電子層的信號(hào)同步誤差小于2ps。這種結(jié)構(gòu)不僅支持多波長(zhǎng)復(fù)用傳輸，還能通過微盤調(diào)制器與鍺硅光電二極管的集成，實(shí)現(xiàn)單比特50fJ的較低能耗。實(shí)際應(yīng)用中，多芯MT-FA已驗(yàn)證可在4m單模光纖傳輸下保持誤碼率低于4×10?1?，其緊湊型設(shè)計(jì)（0.3mm2芯片面積）更適配CPO（共封裝光學(xué)）架構(gòu)，為數(shù)據(jù)中心從100G向800G/1.6T演進(jìn)提供了可量產(chǎn)的解決方案。隨著三維光子集成技術(shù)向全光互連架構(gòu)發(fā)展，多芯MT-FA的光耦合效率與集成密度將持續(xù)優(yōu)化，成為突破AI算力瓶頸的關(guān)鍵基礎(chǔ)設(shè)施。

高密度多芯MT-FA光組件的三維集成方案，是應(yīng)對(duì)AI算力爆發(fā)式增長(zhǎng)背景下光通信系統(tǒng)升級(jí)需求的重要技術(shù)路徑。該方案通過將多芯光纖陣列（MT-FA）與三維集成技術(shù)深度融合，突破了傳統(tǒng)二維平面集成的空間限制，實(shí)現(xiàn)了光信號(hào)傳輸密度與系統(tǒng)集成度的雙重提升。具體而言，MT-FA組件通過精密研磨工藝將光纖陣列端面加工為特定角度（如42.5°），結(jié)合低損耗MT插芯與V槽基板技術(shù)，形成多通道并行光路耦合結(jié)構(gòu)。在三維集成層面，該方案采用層間耦合器技術(shù)，將不同波導(dǎo)層的MT-FA陣列通過倏逝波耦合、光柵耦合或3D波導(dǎo)耦合方式垂直堆疊，構(gòu)建出立體化光傳輸網(wǎng)絡(luò)。例如，在800G/1.6T光模塊中，三維集成的MT-FA陣列可將16個(gè)光通道壓縮至傳統(tǒng)方案1/3的體積內(nèi)，同時(shí)通過優(yōu)化層間耦合效率，使插入損耗降低至0.2dB以下，滿足AI訓(xùn)練集群對(duì)低時(shí)延、高可靠性的嚴(yán)苛要求。邊緣計(jì)算設(shè)備升級(jí)，三維光子互連芯片推動(dòng)終端數(shù)據(jù)處理能力大幅提升。

三維光子集成多芯MT-FA光耦合方案是應(yīng)對(duì)下一代數(shù)據(jù)中心與AI算力網(wǎng)絡(luò)帶寬瓶頸的重要技術(shù)突破。隨著800G/1.6T光模塊的規(guī)模化部署，傳統(tǒng)二維平面光互聯(lián)面臨空間利用率低、耦合損耗大、密度擴(kuò)展受限等挑戰(zhàn)。三維集成技術(shù)通過垂直堆疊光子層與電子層，結(jié)合多芯光纖陣列（MT-FA）的并行傳輸特性，實(shí)現(xiàn)了光信號(hào)在三維空間的高效耦合。具體而言，MT-FA組件采用42.5°端面全反射設(shè)計(jì)，配合低損耗MT插芯與高精度V槽基板，將多芯光纖的間距壓縮至127μm甚至更小，使得單個(gè)組件可支持12芯、24芯乃至更高密度的并行光傳輸。在三維架構(gòu)中，這些多芯MT-FA通過硅通孔（TSV）或銅柱凸點(diǎn)技術(shù)，與CMOS電子芯片進(jìn)行垂直互連，形成光子-電子混合集成系統(tǒng)。量子計(jì)算領(lǐng)域，三維光子互連芯片為量子比特間的高效通信搭建橋梁。三維光子芯片多芯MT-FA光傳輸架構(gòu)

三維光子互連芯片可以根據(jù)應(yīng)用場(chǎng)景的需求進(jìn)行靈活部署。寧波多芯MT-FA光組件三維芯片耦合技術(shù)

高性能多芯MT-FA光組件的三維集成技術(shù)，正成為突破光通信系統(tǒng)物理極限的重要解決方案。傳統(tǒng)平面封裝受限于二維空間布局，難以滿足800G/1.6T光模塊對(duì)高密度、低功耗的需求。而三維集成通過垂直堆疊多芯MT-FA陣列，結(jié)合硅基異質(zhì)集成與低溫共燒陶瓷技術(shù)，可在單芯片內(nèi)實(shí)現(xiàn)12通道及以上并行光路傳輸。這種立體架構(gòu)不僅將光互連密度提升3倍以上，更通過縮短層間耦合距離，使光信號(hào)傳輸損耗降低至0.3dB以下。例如，采用42.5°全反射端面研磨工藝的MT-FA組件，配合3D波導(dǎo)耦合器，可實(shí)現(xiàn)光信號(hào)在三維空間的無縫切換，滿足AI算力集群對(duì)低時(shí)延、高可靠性的嚴(yán)苛要求。同時(shí)，三維集成中的光電融合設(shè)計(jì)，將光發(fā)射模塊與CMOS驅(qū)動(dòng)電路直接堆疊，消除傳統(tǒng)2D封裝中的長(zhǎng)距離互連，使系統(tǒng)功耗降低40%，為數(shù)據(jù)中心節(jié)能提供關(guān)鍵技術(shù)支撐。寧波多芯MT-FA光組件三維芯片耦合技術(shù)