激光共聚焦顯微鏡不僅可以改善有效信號，而且可以降低噪聲信號并獲得高質量的熒光圖像。基于共焦原理的小測量精度對正確讀取反射光的峰值的能力有很大影響。共焦光學系統有許多結構方法。在幾種形狀測量激光顯微鏡系統中使用的“針（zhen）孔共聚焦模式”。針（zhen）孔共聚焦法在光接收元件之前設計一個針（zhen）孔。針（zhen）孔的直徑只有幾十微米，當反射光失去聚焦時，其作用是阻擋反射光。通常，光學系統和激光共焦光學系統的反射光進入光接收元件。在“非聚合”的情況下，光學系統的反射光(聚焦模糊光)通常進入光接收元件。并且激光共聚焦光學系統的反射光(聚焦模糊光)通過針（zhen）孔被切斷。也就是說，只有在聚焦之后，反射光才能進入光接收元件，這是形成共焦光學系統的基礎。照明系統通常包括光源，聚光鏡及其他輔助透鏡、反射鏡。非標顯微鏡報價

掃描探針顯微鏡的特點：

掃描探針顯微鏡是除了場離子顯微鏡和高分辨率透射電子顯微鏡之后的第三種以原子尺度觀察物質結構的顯微鏡。以掃描隧道顯微鏡(STM)為例，其橫向分辨率為0.1~0.2nm，縱向深度分辨率則為0.01nm，這樣的分辨率可以清楚地觀測到分布在樣品表面的單個原子或分子。同時，掃描探針顯微鏡還可以在空氣，其他氣體或液體環境下進行觀察研究。掃描探針顯微鏡擁有原子分辨、原子搬運、納米微加工等特點，但是由于細部各種掃描顯微鏡的工作原理不同，它們得到的結果所反映的樣品表面信息是很不同的。掃描隧道顯微鏡測量的是樣品表面的電子臺分布信息，具有原子級別的分辨率但仍得不到樣品的真結構。而原子顯微鏡探測的是原子之間的相互作用信息，因此可以得到樣品表面原子分布的排列信息即樣品的真實結構。但另一方面，原子力顯微鏡測不到可以和理論比較的電子態信息，因此二者各有短長。 金相顯微鏡按需定制工業測量顯微鏡主要應用于電子行業。

共聚焦顯微鏡是由顯微鏡光學系統、激光光源、掃描器及檢測及處理系統4部分組成，采用相干性較好的激光作為光源，在傳統光學顯微鏡基礎上采用共軛聚焦原理和裝置，并利用計算機對圖象進行處理的一套觀察、分析和輸出系統。激光掃描束通過光柵針（zhen）孔形成點光源，經過分光鏡反射至物鏡，聚焦在在標本上并進行掃描。樣品受到激發后，發出的熒光回到分光鏡聚集到探測針（zhen）孔，之后經過光電倍增管轉化為電信號傳輸到計算機上顯示為清晰的焦平面圖像。激發光通過光柵針（zhen）孔聚焦在樣品上，熒光通過物鏡聚焦在針（zhen）孔上，此過程中形成兩次聚焦，故被稱為共聚焦顯微鏡。

主要應用于：生物學領域、高分子化學領域、表面粗糙度領域。

顯微鏡透射照明的方式有兩種：（2）柯勒照明柯勒照明光學系統如圖2所示。光源經聚光鏡前組成像在照明系統的視場光闌上；聚光鏡前組經過聚光鏡后組成像于標本處，同時也把照明系統視場光闌成像在無限遠處，使之與遠心物鏡的入射光瞳重合。柯勒照明中的前組聚光鏡稱為柯勒鏡，它得到了光源的均勻照明，經過聚光鏡后組成像在標本上。故標本上得到均勻的照明，這是柯勒照明的重要特點。聚光鏡中的孔徑光闌緊貼聚光鏡前組，通過聚光鏡后組所成的像，即聚光鏡的出射光瞳也與顯微鏡的物平面（標本）貼近，故光闌起到了限制顯微鏡視場的作用。柯勒照明聚光系統的出射光瞳和像方視場分別與顯微鏡的物方視場和入射光瞳重合，從而形成“視場對瞳、瞳對視場”的光管。體視顯微鏡的廣泛應用；

顯微鏡的觀察方法

明視場觀察：垂直照射測量物表面，適用于金屬、印刷電路板、淺孔的表面觀察。

暗視場觀察：通過對從工件發出的散射光進行觀察，可完成在明視場下觀察不到的劃痕、塵埃、凹凸，以及勝任低反射工件的觀察。

偏光觀察：觀察具有偏光特性的物質，適用于半導體材料、液晶、結晶、金屬組織、礦物等表面觀察。

微分干涉（DIC）觀察：利用Nomarski棱鏡將光線分為兩束，形成明暗和對比度變化，可進行立體觀察。適用于觀察硅片的結晶缺陷、磁頭研磨面的損傷檢查、涂裝面、金屬組織、礦石表面等。 顯微鏡的使用方法及步驟；金相顯微鏡按需定制

透射電子顯微鏡和掃描電子顯微鏡；非標顯微鏡報價

激光共焦掃描顯微鏡是點成像，因此要想獲得物體的二維圖像，需要借助于x和y方向的二維掃描。不同的顯微鏡采用不同的掃描方式：

(1)物體掃描。即物體本身按照一定的規律移動，而光束保持不變。

優點：光路穩定；缺點：需要大幅度的掃描工作臺，因此掃描速度受到很大限制。

(2)利用反射式振鏡構成光束掃描系統。即通過控制掃描振鏡將聚焦光點有規律地反射到物體某一層面，完成二維掃描。其優點是精度較高，常用于高精度測量。掃描速度比物體掃描有所提高，但仍然不快 。

(3)使用聲光偏轉元件進行掃描，通過改變聲波輸出頻率進而改變光波的傳輸方向來實現掃描。其突出優點是掃描速度非常快，由美國研制的利用聲光偏轉器產生實時視頻圖像的掃描系統，掃描一幅二維圖像只需1/30s，幾乎做到了實時輸出。

(4)Nipkow盤掃描，其掃描過程是通過旋轉Nipkow盤而保持其他元件不動完成的，可以一次成像，速度非常快。但是由于成像光束是軸外光，所以必須對透鏡的軸外像差進行校正，并且光能利用率很低 非標顯微鏡報價

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