薄膜沉積的傳統方法一直是熱蒸發，或采用電阻加熱蒸發源或采用電子束蒸發源。薄膜特性主要決定于沉積原子的能量，傳統蒸發中原子的能量*約0.1eV。IAD沉積導致電離化蒸汽的直接沉積并且給正在生長的膜增加活化能，通常為50eV量級。離子源將束流從離子***指向基底表面和正在生長的薄膜來改善傳統電子束蒸發的薄膜特性。薄膜的光學性質，如折射率、吸收和激光損傷閾值，主要依賴于膜層的顯微結構。薄膜材料、殘余氣壓和基底溫度都可能影響薄膜的顯微結構。如果蒸發沉積的原子在基底表面的遷移率低，則薄膜會含有微孔。當薄膜暴露于潮濕的空氣時，這些微孔逐漸被水汽所填充。 [3具有以上結構的膜系稱為對稱周期膜系。江蘇品牌光學膜銷售

金屬反射膜的優點是制備工藝簡單，工作的波長范圍寬；缺點是光損大，反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進一步提高，可以在膜的外側加鍍幾層一定厚度的電介質層，組成金屬電介質反射膜。需要指出的是，金屬電介質射膜增加了某一波長（或者某一波區）的反射率，卻破壞了金屬膜中性反射的特點。全電介質反射膜是建立在多光束干涉基礎上的。與增透膜相反，在光學表面上鍍一層折射率高于基體材料的薄膜，就可以增加光學表面的反射率。**簡單的多層反射是由高、低折射率的二種材料交替蒸鍍而成的,每層膜的光學厚度為某一波長的四分一。在這種條件下，參加疊加的各界面上的反射光矢量，振動方向相同。合成振幅隨著薄膜層數的增加而增加。啟東挑選光學膜批量定制分光膜主要包括波長分光膜、光強分光膜和偏振分光膜等幾類。

光電信息產業中**有發展前景的通訊、顯示和存儲三大類產品都離不開光學薄膜，如投影機、背投影電視機、數碼照相機、攝像機、DVD，以及光通訊中的DWDM、GFF濾光片等，光學薄膜的性能在很大程度上決定了這些產品的**終性能。光學薄膜正在突破傳統的范疇，越來越***地滲透到從空間探測器、集成電路、生物芯片、激光器件、液晶顯示到集成光學等各學科領域中，對科學技術的進步和全球經濟的發展都起著重要的作用，研究光學薄膜物理特性及其技術已構成現代科技的一個分支——薄膜光學。光學薄膜技術水平已成為衡量一個國家光電信息等高新技術產業科技發展水平的關鍵技術之一。

圖19.12示出裝配在高真空鍍膜機基板上的硬件布局。兩個電子槍源位于基板兩邊，周圍是環形罩并被擋板覆蓋。離子源位于中間，光控窗口在離子源的前方。圖19.13示出真空室的頂部，真空室里有含6個圓形夾具的行星系統。夾具用于放置被鍍膜的光學元件。使用行星系統是保證被蒸發材料在夾具區域內均勻分布的優先方法。夾具繞公共軸旋轉，同時繞其自身軸旋轉。光控和晶控處于行星驅動機械裝置的中部，驅動軸遮擋晶控。背面的大開口通向附加的高真空泵。基底加熱系統由4個石英燈組成，真空室的兩邊各兩個。反射膜一般可分為兩大類，一類是金屬反射膜，一類是全電介質反射膜。

對于CO2激光燈中紅外線波段，常用的鍍膜材料有氟化釔、氟化鐠、鍺等；對于YAG激光燈近紅外波段或可見光波段，常用的鍍膜材料有硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯等。除了高反膜、增透膜之外，還可以鍍對某波長增反射、對另一波長增透射的特殊膜，如激光倍頻技術中的分光膜等。光的干涉在薄膜光學中廣泛應用。光學薄膜技術的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜，一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率，以滿足不同的需要。為了消除光學零件表面的反射損失，提高成像質量，涂鍍一層或多層透明介質膜，稱為增透膜或減反射膜。隨著激光技術的發展，對膜層的反射率和透過率有不同的要求，促進了多層高反射膜和寬帶增透膜的發展。為各種應用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉濾光片等。光學薄膜元件的設計、制備及其性能的測試等。通州區本地光學膜操作

常用的保護膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。江蘇品牌光學膜銷售

填充密度定義為薄膜固體部分的體積與薄膜的總體積(包括空隙和微孔)之比。對于光學薄膜，填充密度通常為0.75～**部分為0.85～0.95，很少達到1.0。小于l的填充密度使所蒸發材料的折射率低于其塊料的折射率。在沉積過程中，每一層的厚度均由光學或石英晶體監控。這兩種技術各有優缺點，這里不作討論。其共同點是材料蒸發時它們均在真空中使用，因而，折射率是蒸發材料在真空中的折射率，而不是暴露于潮濕空氣中的材料折射率。薄膜吸收的潮氣取代微孔和空隙，造成薄膜的折射率升高。由于薄膜的物理厚度保持不變，這種折射率升高伴有相應的光學厚度的增加，反過來造成薄膜光譜特性向長波方向的漂移。為了減小由膜層內微孔的體積和數量所引起的這種光譜漂移，采用高能離子以將其動量傳遞給正在蒸發的材料原子，從而**增加材料原子在基底表面處凝結期間的遷移率。 [3]江蘇品牌光學膜銷售

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