杭州博測(cè)材料科技有限公司2025-08-08

GD-OES基于輝光放電等離子體濺射原理：在低壓氬氣環(huán)境中，陰極（樣品）與陽(yáng)極間施加高壓，產(chǎn)生等離子體。氬離子轟擊樣品表面，使原子濺射并激發(fā)，發(fā)射元素特征光譜（如Fe 371.99 nm）。光譜強(qiáng)度與元素濃度成正比，通過(guò)分光器（如帕邢-龍格裝置）檢測(cè)。GD-MS則通過(guò)質(zhì)譜儀分析濺射原子的離子化產(chǎn)物，檢測(cè)質(zhì)荷比（m/z），適用于痕量元素（如稀土）分析，靈敏度可達(dá)ppt級(jí)。兩者均實(shí)現(xiàn)固體樣品直接分析，避免溶液消解的污染風(fēng)險(xiǎn)。

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