江蘇克力空調有限公司2025-10-19

半導體行業對生產環境精度要求極為嚴苛，關鍵體現在溫濕度、潔凈度等關鍵維度：以光刻工藝為例，溫度需穩定在 23℃±0.1℃，部分前沿光刻機甚至要求 ±0.05℃的波動控制，濕度需維持在 40%-50% RH 且波動不超過 ±5% RH，以避免材料熱脹冷縮、靜電產生及光刻膠變質；潔凈度需達到 ISO 14644-1 標準的 Class 1 級，即每立方米空氣中粒徑≥0.1μm 的顆粒不超過 10 個，同時需配合穩定氣壓與層流控制防止外部污染。 克力空調憑借技術突破精確適配這些需求，其組合式空調機組可實現 ±0.01℃溫度精度與 ±1% 濕度精度的嚴苛控制，通過多級過濾與優化密封結構保障高潔凈度，并能針對半導體場景進行非標定制。典型案例中，南京鋰電項目（涉及先進電子產品制造）采用克力自主研發的 - 75℃超低露點除濕機組，通過轉輪深度吸附技術創造穩定的超低露點環境，搭配全焊接結構增強氣密性與防護性，確保車間露點溫度穩定維持在 - 75℃以下，成功突破工藝瓶頸，滿足半導體相關產線對極端濕度控制的需求。

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