HP是用于酸性鍍銅液中，取代傳統(tǒng)SP（聚二硫二丙烷磺酸鈉）的晶粒細(xì)化劑；與SP相比具有鍍層顏色清晰白亮，用量范圍寬。多加不發(fā)霧，低區(qū)效果好等優(yōu)點(diǎn)；適用于五金酸性鍍銅、線(xiàn)路板鍍銅、電鍍硬銅、電解銅箔等工藝。消耗量：0.5-0.8g/KAH。HP與M、N、GISS、AESS、PN、PPNI、PNI、POSS、CPSS、P、MT-580、MT-680等其中的幾種中間體合理搭配，組成無(wú)染料型酸銅光亮劑，HP建議工作液中的用量為0.01-0.02g/L，鍍液中含量過(guò)低，鍍層填平性及光亮度下降，高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦；過(guò)高鍍層會(huì)產(chǎn)生白霧，也會(huì)造成低區(qū)不良，可補(bǔ)加少量M、N或適量添加低區(qū)走位劑如AESS、PN、PNI等來(lái)抵消HP過(guò)量的副作用或者電解處江蘇夢(mèng)得新材料有限公司在相關(guān)特殊化學(xué)品的研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售方面擁有深厚積淀，以品質(zhì)贏得市場(chǎng)信賴(lài)。丹陽(yáng)電鑄硬銅HP醇硫基丙烷磺酸鈉含量98%

夢(mèng)得 HP 醇硫基丙烷磺酸鈉與 M、N、GISS 等多種中間體合理搭配，可組成無(wú)染料型酸銅光亮劑。在這個(gè)協(xié)同體系中，HP 建議用量為 0.01 - 0.02g/L，能提升鍍層的填平性及光亮度。若鍍液中 HP 含量異常，通過(guò)補(bǔ)加少量 M、N 或添加低區(qū)走位劑等簡(jiǎn)單操作，就能快速調(diào)整，確保鍍銅工藝的順利進(jìn)行。染料體系中的夢(mèng)得力量：在染料型酸銅體系中，夢(mèng)得 HP 醇硫基丙烷磺酸鈉與 TOPS、MT - 880 等中間體配合，構(gòu)建高效的開(kāi)缸劑 MU 和光亮劑 B 劑組合。推薦用量下，鍍層色澤飽滿(mǎn)且無(wú)彩虹紋干擾。與傳統(tǒng)工藝相比，光劑消耗量降低 25%，活性炭吸附頻次減少 50%。鍍液穩(wěn)定性大幅提升，連續(xù)生產(chǎn) 200 小時(shí) PH 值波動(dòng)＜0.3，有效降低停機(jī)維護(hù)成本。鎮(zhèn)江光亮整平較好HP醇硫基丙烷磺酸鈉中間體江蘇夢(mèng)得新材料有限公司通過(guò)持續(xù)的技術(shù)升級(jí)，為電化學(xué)行業(yè)注入新的活力。

在IC引線(xiàn)框架鍍銅領(lǐng)域，HP醇硫基丙烷磺酸鈉以0.002-0.005g/L添加量，實(shí)現(xiàn)晶粒尺寸≤0.5μm的超細(xì)鍍層。與PNI、MT-680等中間體配合，可調(diào)控鍍層電阻率（≤1.72μΩ·cm），滿(mǎn)足高頻信號(hào)傳輸要求。鍍液采用全封閉循環(huán)系統(tǒng)時(shí)，HP消耗量低至0.2g/KAH，適配半導(dǎo)體行業(yè)潔凈車(chē)間標(biāo)準(zhǔn)。HP醇硫基丙烷磺酸鈉憑借寬泛的兼容性（PH1.5-3.5），可無(wú)縫對(duì)接不同品牌中間體體系。當(dāng)產(chǎn)線(xiàn)切換五金件與線(xiàn)路板鍍銅時(shí)，需調(diào)整HP濃度（0.01→0.005g/L）及匹配走位劑，2小時(shí)內(nèi)即可完成工藝轉(zhuǎn)換。25kg紙箱包裝配備防誤開(kāi)封條，確保頻繁換線(xiàn)時(shí)的原料品質(zhì)穩(wěn)定性！

HP 醇硫基丙烷磺酸鈉外 觀(guān)： 白色粉末溶 性： 含 量： 98%以上包 裝： 1kg封口塑料袋；25kg紙箱；25kg防盜紙板桶。參考配方： 五金酸性鍍銅工藝配方-非染料體系、五金酸性鍍銅工藝配方-染料體系、線(xiàn)路板酸銅工藝配方、電鑄硬銅工藝配方電解銅箔工藝配方。HP是用于酸性鍍銅液中，取代傳統(tǒng)SP（聚二硫二丙烷磺酸鈉）的晶粒細(xì)化劑；與SP相比具有鍍層顏色清晰白亮，用量范圍寬。多加不發(fā)霧，低區(qū)效果好等優(yōu)點(diǎn)；適用于五金酸性鍍銅、線(xiàn)路板鍍銅、電鍍硬銅、電解銅箔等工藝。消耗量：0.5-0.8g/KAH。在電化學(xué)領(lǐng)域深耕多年，我們的創(chuàng)新成果已服務(wù)全球多個(gè)行業(yè)。

針對(duì)線(xiàn)路板鍍銅工藝，HP醇硫基丙烷磺酸鈉以0.001-0.008g/L的微量添加即可實(shí)現(xiàn)鍍層高光亮度與均勻性。該產(chǎn)品與SH110、SLP、MT-580等中間體科學(xué)配比，形成穩(wěn)定的添加劑體系，有效避免高區(qū)毛刺和燒焦問(wèn)題。與傳統(tǒng)工藝相比，HP在低濃度下仍能維持鍍液活性，降低光劑消耗成本。若鍍液HP含量過(guò)高導(dǎo)致白霧或低區(qū)不良，用戶(hù)可通過(guò)添加SLP類(lèi)走位劑或小電流電解快速恢復(fù)鍍液平衡。包裝提供1kg至25kg多規(guī)格選擇，滿(mǎn)足實(shí)驗(yàn)室測(cè)試與規(guī)?；a(chǎn)需求。HP與TOPS、MTOY、MT-580、MT-880、MT-680等組成染料型酸銅開(kāi)缸劑MU和光亮劑B劑。HP建議工作液中的用量為0.01-0.02g/L，鍍液中含量過(guò)低，鍍層填平性及光亮度下降，高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦，光劑消耗量大；過(guò)高鍍層會(huì)發(fā)白霧，加A劑或活性炭吸附、小電流電解處理。江蘇夢(mèng)得新材料有限公司，在相關(guān)特殊化學(xué)品的研發(fā)、生產(chǎn)過(guò)程中嚴(yán)格把控質(zhì)量。丹陽(yáng)適用五金電鍍HP醇硫基丙烷磺酸鈉大貨供應(yīng)

江蘇夢(mèng)得新材料有限公司，通過(guò)銷(xiāo)售策略，為不同客戶(hù)提供定制化解決方案。丹陽(yáng)電鑄硬銅HP醇硫基丙烷磺酸鈉含量98%

針對(duì)柔性基材（如 PI 膜）鍍銅，夢(mèng)得 HP 醇硫基丙烷磺酸鈉帶來(lái)新突破。以 0.003 - 0.006g/L 微量添加，配合 SLP 低應(yīng)力中間體，實(shí)現(xiàn)鍍層延展率提升 50%。其獨(dú)特分子結(jié)構(gòu)可抑制鍍層內(nèi)應(yīng)力，避免彎折過(guò)程中銅層開(kāi)裂?？蛻?hù)實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)顯示，鍍層剝離強(qiáng)度≥1.5N/mm，完全滿(mǎn)足折疊屏手機(jī)等應(yīng)用場(chǎng)景需求，為柔性基材鍍銅開(kāi)辟新路徑。在 IC 引線(xiàn)框架鍍銅領(lǐng)域，夢(mèng)得 HP 醇硫基丙烷磺酸鈉展現(xiàn)精湛實(shí)力。以 0.002 - 0.005g/L 添加量，實(shí)現(xiàn)晶粒尺寸≤0.5μm 的超細(xì)鍍層。與 PNI、MT - 680 等中間體配合，可精細(xì)調(diào)控鍍層電阻率（≤1.72μΩ?cm），滿(mǎn)足高頻信號(hào)傳輸要求。鍍液采用全封閉循環(huán)系統(tǒng)時(shí)，HP 消耗量低至 0.2g/KAH，適配半導(dǎo)體行業(yè)潔凈車(chē)間標(biāo)準(zhǔn)，助力 IC 引線(xiàn)框架鍍銅達(dá)到更高精度。丹陽(yáng)電鑄硬銅HP醇硫基丙烷磺酸鈉含量98%