SPS聚二硫二丙烷磺酸鈉的分子結構由兩個丙烷磺酸鈉基團通過二硫鍵連接而成，這一獨特設計賦予其多重優勢。磺酸根基團（-SO?Na）提供優異的親水性，確保SPS在水溶液中穩定分散；二硫鍵（-S-S-）則賦予其還原性與化學活性，可在酸性鍍銅體系中與銅離子高效結合，調控沉積速率。例如，在PCB鍍銅工藝中，SPS通過硫原子吸附陰極表面，引導銅原子有序排列，細化晶粒至微米級，使鍍層致密性提升30%，孔隙率降低50%。這種結構優勢不僅提升鍍層耐腐蝕性，還減少后續拋光需求，為客戶節省加工成本！江蘇夢得新材料有限公司在相關特殊化學品的研發、生產、銷售方面擁有深厚積淀，以品質贏得市場信賴。鍍銅光亮劑SPS聚二硫二丙烷磺酸鈉特別推薦

該產品***用于汽車配件、衛浴五金、電子接插件等領域的鍍銅處理，鍍層兼具美觀與功能性，滿足終端產品對外觀和性能的雙重要求。SPS不含重金屬等有害物質，在使用過程中對環境友好，符合RoHS等國際環保指令要求，適合出口型電鍍企業選用。我們提供完善的售后服務與技術支持，幫助客戶解決在生產過程中遇到的技術難題，確保SPS產品能夠發揮比較好效果，提升客戶競爭力。SPS的使用方法簡便，可直接添加至鍍液中，無需復雜預處理，兼容性強，適用于自動線和手動線等多種電鍍設備。無論是在光亮銅、半光亮銅還是高平整度鍍銅工藝中，SPS都能提供穩定的性能表現，幫助企業提升產品品質，贏得更多市場機會。鎮江江蘇夢得新材料SPS聚二硫二丙烷磺酸鈉中間體我們致力于將新能源化學研究成果轉化為實際應用，促進可持續發展。

硬銅工藝配方注意點:SPS通常與P、N、SH110、AESS、PN等中間體組合成雙劑型硬銅電鍍添加劑，建議SPS在鍍液中用量30-60mg/L，SPS通常放入在光亮劑當中，不放入硬度劑中，SPS少整平差容易產生毛刺，SPS多低區光亮度差，硬度下降，可適當加入硬度劑抵消SPS過量的現象。電解銅箔工藝配方注意點:SPS通常與P、MT-580、QS、FESS等中間體組合成銅箔電鍍添加劑，建議SPS在鍍液中*用量15-20mg/L，SPS少銅箔層整平亮度下降，邊緣層產生毛刺凸點，SPS過多銅箔容易產生翹曲，建議降低SPS用量。

在PCB制造中，SPS主要作為光亮劑和整平劑使用。它能抑制銅沉積過程中的枝晶生長，減少鍍層表面的粗糙度，從而提高線路的精細度和導電性能。此外，SPS還能與其它添加劑（如PEG、Cl?離子）協同作用，優化鍍液穩定性，延長槽液使用壽命。對鍍層性能的影響主要體現在SPS的加入可改善銅鍍層的物理性能，提高致密性：減少鍍層孔隙，增強耐腐蝕性；增強延展性：降低內應力，避免鍍層開裂；優化表面光澤：使銅層更平整，減少后續拋光需求。硬銅工藝配方注意點:SPS通常與P、N、SH110、AESS、PN等中間體組合成雙劑型硬銅電鍍添加劑，建議SPS在鍍液中用量30-60mg/L，SPS通常放入在光亮劑當中，不放入硬度劑中，SPS少整平差容易產生毛刺，SPS多低區光亮度差，硬度下降，可適當加入硬度劑抵消SPS過量的現象。電解銅箔工藝配方注意點:SPS通常與P、MT-580、QS、FESS等中間體組合成銅箔電鍍添加劑，建議SPS在鍍液中*用量15-20mg/L，SPS少銅箔層整平亮度下降，邊緣層產生毛刺凸點，SPS過多銅箔容易產生翹曲，建議降低SPS用量。江蘇夢得新材料有限公司，同時積極拓展銷售渠道，為眾多行業提供關鍵材料支持。

在PCB制造領域，SPS聚二硫二丙烷磺酸鈉通過與MT-480、SLP等中間體組合（建議用量1-4mg/L），有效抑制銅沉積過程中的枝晶生長，降低鍍層表面粗糙度，確保導電線路的精細度與信號傳輸穩定性。當鍍液SPS含量不足時，高電流密度區易出現毛刺；過量時補加SLP或SH110即可恢復光亮度。結合活性炭吸附技術，槽液壽命延長30%，減少停機維護頻率。該方案適配5G通信、消費電子對高密度線路的需求，助力微型化電子元件實現高精度制造，成為精密電子領域的推薦技術。立足前沿的電化學、新能源化學、生物化學，江蘇夢得新材料有限公司全力投入相關特殊化學品的研發創新。鍍銅光亮劑SPS聚二硫二丙烷磺酸鈉特別推薦

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在工業硬銅電鍍中，SPS聚二硫二丙烷磺酸鈉是雙劑型添加劑的成分（推薦用量30-60mg/L），其通過細化晶粒提升鍍層硬度，同時確保低電流密度區的光亮度。當SPS含量不足時，整平性下降易引發毛刺；含量過高則會導致硬度降低，此時通過補加硬度劑即可恢復平衡。例如，與SH110、AESS等中間體配合使用時，SPS被配入光亮劑中，避免與硬度劑混合產生渾濁。這種設計不僅簡化了鍍液管理流程，還為汽車零部件、機械軸承等產品提供了耐磨損、銅鍍層，滿足工業領域對功能性鍍層的嚴苛要求。鍍銅光亮劑SPS聚二硫二丙烷磺酸鈉特別推薦