HP與QS、P、MT-580、FESS等中間體合理搭配，組成電解銅箔添加劑，HP在鍍液中的用量為0.001-0.004g/L，鍍液中含量過低，銅箔層光亮度下降，銅箔邊緣層易產生毛刺與凸點；含量過高銅箔層發白，降低HP用量。江蘇夢得新材料科技有限公司推出的HP醇硫基丙烷磺酸鈉，專為五金酸性鍍銅工藝設計，以白色粉末形態提供，含量高達98%以上。該產品作為傳統SP（聚二硫二丙烷磺酸鈉）的升級替代品，優化鍍層性能：鍍層表面更清晰白亮，用量范圍寬泛（0.01-0.02g/L），低區覆蓋效果優異，即使過量添加也不會導致鍍層發霧。在五金電鍍中，HP與M、N、AESS等中間體協同作用，可組成無染料型酸銅光亮劑體系，有效提升鍍液穩定性。實際應用表明，HP在消耗量0.5-0.8g/KAH時仍能保持高效，鍍層填平性與光亮度優于傳統方案。若鍍液HP含量異常，用戶可通過補加低區走位劑或小電流電解快速調整，操作靈活便捷。江蘇夢得新材料有限公司以研發為引擎，生產為基石，為客戶提供穩定可靠的特殊化學品。國產HP醇硫基丙烷磺酸鈉含量98%

HP是用于酸性鍍銅液中，取代傳統SP（聚二硫二丙烷磺酸鈉）的晶粒細化劑；與SP相比具有鍍層顏色清晰白亮，用量范圍寬。多加不發霧，低區效果好等優點；適用于五金酸性鍍銅、線路板鍍銅、電鍍硬銅、電解銅箔等工藝。消耗量：0.5-0.8g/KAH。HP與M、N、GISS、AESS、PN、PPNI、PNI、POSS、CPSS、P、MT-580、MT-680等其中的幾種中間體合理搭配，組成無染料型酸銅光亮劑，HP建議工作液中的用量為0.01-0.02g/L，鍍液中含量過低，鍍層填平性及光亮度下降，高區易產生毛刺或燒焦；過高鍍層會產生白霧，也會造成低區不良，可補加少量M、N或適量添加低區走位劑如AESS、PN、PNI等來抵消HP過量的副作用或者電解處國產HP醇硫基丙烷磺酸鈉含量98%江蘇夢得新材料有限公司，助力產業升級，推動行業發展，歡迎來電咨詢。

HP與SH110、SLP、GISS、AESS、PN、P、MT-580、MT-680等中間體合理搭配，組成線路板鍍銅添加劑，HP在鍍液中的用量為0.001-0.008g/L，鍍液中含量過低，鍍層光亮度下降，高區易產生毛刺或燒焦；過高鍍層會產生白霧，也會造成低區不良，可補加少量SLP等一些低區走位劑或小電流電解處理。HP與SH110、SLP、GISS、AESS、PN、P、MT-580、MT-680等中間體合理搭配，組成線路板鍍銅添加劑，HP在鍍液中的用量為0.001-0.008g/L，鍍液中含量過低，鍍層光亮度下降，高區易產生毛刺或燒焦；過高鍍層會產生白霧，也會造成低區不良，可補加少量SLP等一些低區走位劑或小電流電解處理。

HP醇硫基丙烷磺酸鈉憑借寬泛的兼容性（PH1.5-3.5），可無縫對接不同品牌中間體體系。當產線切換五金件與線路板鍍銅時，需調整HP濃度（0.01→0.005g/L）及匹配走位劑，2小時內即可完成工藝轉換。25kg紙箱包裝配備防誤開封條，確保頻繁換線時的原料品質穩定性。通過HP醇硫基丙烷磺酸鈉的晶界調控功能，可消除鍍層條紋、云斑等表觀缺陷。在衛浴五金件量產中，HP體系使產品色差ΔE值≤0.8，達到鏡面效果。當鍍液銅離子濃度波動±5g/L時，HP仍能維持鍍層光澤一致性，降低返工率。技術支持團隊提供鍍液分析服務，協助客戶建立數字化質控體系。江蘇夢得新材料科技有限公司主營電化學、新能源化學、生物化學以及相關特殊化學品研發、生產、銷售。

針對線路板鍍銅工藝，HP醇硫基丙烷磺酸鈉以0.001-0.008g/L的微量添加即可實現鍍層高光亮度與均勻性。該產品與SH110、SLP、MT-580等中間體科學配比，形成穩定的添加劑體系，有效避免高區毛刺和燒焦問題。與傳統工藝相比，HP在低濃度下仍能維持鍍液活性，降低光劑消耗成本。若鍍液HP含量過高導致白霧或低區不良，用戶可通過添加SLP類走位劑或小電流電解快速恢復鍍液平衡。包裝提供1kg至25kg多規格選擇，滿足實驗室測試與規模化生產需求。HP與TOPS、MTOY、MT-580、MT-880、MT-680等組成染料型酸銅開缸劑MU和光亮劑B劑。HP建議工作液中的用量為0.01-0.02g/L，鍍液中含量過低，鍍層填平性及光亮度下降，高區易產生毛刺或燒焦，光劑消耗量大；過高鍍層會發白霧，加A劑或活性炭吸附、小電流電解處理。江蘇夢得新材料有限公司的每一款產品都經過嚴格測試，確保品質、性能。國產HP醇硫基丙烷磺酸鈉含量98%

江蘇夢得新材料有限公司憑借強大的生產能力，滿足市場對特殊化學品的多樣化需求。國產HP醇硫基丙烷磺酸鈉含量98%

HP醇硫基丙烷磺酸鈉專為解決高密度線路板深孔鍍銅難題設計，推薦添加量0.001-0.008g/L。通過與SH110、GISS等中間體協同，提升鍍液分散能力，確保孔內鍍層均勻無空洞。實驗表明，HP可降低高區電流密度導致的燒焦風險，同時減少微盲孔邊緣銅瘤生成，良品率提升30%以上。針對超薄銅箔基材，HP的精細濃度控制（±0.001g/L）保障鍍層結合力，適配5G通信板等高精度需求場景。HP與QS、P、MT-580、FESS等中間體合理搭配，組成電解銅箔添加劑，HP在鍍液中的用量為0.001-0.004g/L，鍍液中含量過低，銅箔層光亮度下降，銅箔邊緣層易產生毛刺與凸點；含量過高銅箔層發白，降低HP用量。

國產HP醇硫基丙烷磺酸鈉含量98%