反應性濺鍍制備緩沖膜：在第三真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氮氣發生化學反應生成氮化鉻，反應生成的氮化鉻沉積在步驟2)制得的低發射率膜的外表面上形成緩沖膜；4)反應性濺鍍制備過渡膜：在第四真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣與氮氣發生化學反應生成氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻，反應生成的氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻沉積在步驟3)制得的緩沖膜的外表面上形成過渡膜；5)反應性濺鍍制備吸收膜：在第五真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發生化學反應生成氧化鉻，反應生成的氧化鉻沉積在步驟4)制得的過渡膜的外表面上形成吸收膜；等到陽光透過整個堆棧之時，近一半的可用能量都被轉換為了電力。吉林AM1太陽光譜模擬AM1.5

可選地，根據尺寸、地理經度區間、地理緯度區間，計算地球靜止軌道衛星光學遙感圖像中每個像素對應的地理經度和地理緯度，包括：以地球靜止軌道衛星光學遙感圖像中的一預設點建立直角坐標系，根據遙感圖像尺寸，得到每個像素點在直角坐標系中的坐標(x，y)；獲取每個像素點對應的地理坐標(by-1，lx-1)；根據計算坐標為(x，y)的像素點對應的地理經度l(x)；根據計算坐標為(x，y)的像素點對應的地理緯度b(y)；其中，(b0，l0)為坐標值(0，0)為的像素點對應的地理坐標，x×y為尺寸。可選地，根據拍攝日期，計算拍攝日期對應的太陽赤緯角和大氣層上界垂直入射時的太陽輻射強度，包括：根據計算太陽赤緯角；根據計算太陽輻射強度；其中，d表示計算拍攝日期在一年中所處的天數，δ(d)為太陽赤緯角，e(d)為太陽輻射強度。內蒙古AM1太陽光譜模擬AM1這一方法不同于一般在房頂或者田野中看到的那種太陽能電池板。

顯示的區域約1納米寬，中心在628納米左右。通過*0.7秒的單次曝光記錄太陽光譜的可見區域，演示了HN-9332光譜儀的寬波長覆蓋范圍。圖的左側部分顯示了SpectraLoK軟件直接顯示的整個425-700nm波長范圍。圖的右部分顯示了在517nm附近鎂三重態周圍連續擴展的區域。HN-9332光譜儀的儀器分辨率比較好用頻率單位來表示——儀器波長覆蓋范圍約20GHz，對應于425nm處約15pm、550nm處約2pμm和700nm處約30pm的分辨率。因此，圖中顯示的數據可以理解為相當于>10000個分辨率點，所有這些分辨率點都記錄在不到1秒的單次曝光中。

每層的特制材料吸收特定波長**的能量。等到陽光透過整個堆棧之時，近一半的可用能量都被轉換為了電力。相對的，目前大部分常見太陽能電池只能將25%的可用能量轉換為電力。   研究***作者、喬治*華盛頓大學工程與應用科學學院研究科學家Matthew Lumb說道：“抵達地球表面的太陽光中99%的能量都落在250納米到2500納米波長范圍內，但高效多連接太陽能電池的傳統材料無法捕獲這整個光譜范圍。我們的新設備能夠解鎖存儲在長波長光子中的能量，這些是傳統太陽能電池力所未逮之處，從而為實現多連一種用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的制備方法，包括以下依次進行的步驟。

步驟5)中，靶材為鉻靶，功率為11kw，電壓為500v，真空度為8.0e-6torr，鍍膜速度為6mm/s，氬氣流量為110sccm，氧氣流量為90sccm，制得的吸收膜的厚度為80nm；6)反應性濺鍍制備抗反射膜：在第六真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的硅離子與通入的氧氣發生化學反應生成二氧化硅，反應生成的二氧化硅沉積在步驟5)制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜，完成后在吸熱體的基材的外表面上制得包括6層的膜層；步驟6)中，靶材為硅靶，功率為6kw，電壓為560v，真空度為8.0e-6torr，鍍膜速度為6mm/s，氬氣流量為220sccm，氧氣流量為30sccm，制得的抗反射膜的厚度為120nm。比現有技術中膜層的光熱轉換的效率提高了6％～10％。湖南AM0太陽光譜模擬AM0

本申請提供了一種用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的制備方法，包括以下依次進行的步驟。吉林AM1太陽光譜模擬AM1.5

接太陽能電池提供了一條實現路徑。”   雖然科學家們為了實現更具效率的太陽能電池已經努力多年，這一方法具有兩個創新之處。首先，該方法利用了一族基于銻化鎵(GaSb)基底的材料，這常見于紅外激光器和光電探測器等應用之中。這種新型的基于銻化鎵的太陽能電池被組裝成堆棧式結構，同時在傳統基底上生長能捕捉較短波長的太陽光的高效太陽能電池。此外，堆疊過程使用了一種名為轉印的技術，這一技術能以高精度三維組裝這些微小的設備。   這種太陽能電池非常昂貴，但研究者認為其**重要的是吉林AM1太陽光譜模擬AM1.5

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