正因為如此，來自太陽圓盤一側的光會因多普勒效應而紅移，而另一側的光會藍移。我們可以觀察和理解這些位移，因為太陽譜線波長相對于大氣氧線的位移——地球大氣吸收產生的氧線相對于望遠鏡是靜止的。從太陽圓盤邊緣到邊緣的比較大多普勒頻移只有~8pm，因此HF-8989-3的儀器分辨率（~1pm），對于測試時必要的。同時，LightMachinery光譜儀的快速采集速率也非常有利于這類測量。與其建立一個復雜的成像系統來顯示耦合到光譜儀光纖中的太陽圓盤部分，不如簡單地設置SpectraLoK軟件，在望遠鏡從一個分支掃描到另一個分支時，每100毫秒記錄一次新的光譜。雖然科學家們為了實現更具效率的太陽能電池已經努力多年，這一方法具有兩個創新之處。江蘇AM0太陽光譜模擬濾光片

然而，對于大多數光譜儀而言，必須使用透鏡收集陽光，光纖的輸入端位于透鏡的焦點處。可以通過商用光纖準直器C將陽光耦合到光纖中。準直器可以安裝在穩定的三腳架上，對準太陽，從而可以手動跟蹤太陽在天空中的運動。或者利用太陽望遠鏡A,B，它們將能夠自動跟蹤太陽的軌跡。LightMachinery可以提供目鏡適配器D，將太陽光耦合到光纖中。01利用LightMachinery光譜儀測試太陽光譜一旦太陽光被成功地耦合到光譜儀中，一個條紋圖像將被相機傳感器捕獲。這些條紋中，白色條紋中的深**域對應于太陽吸收線。正是在這些窄波長區域，太陽的光強度被吸收而降低。上海代理太陽光譜模擬購買堆棧式電池就像是太陽光篩子，每層的特制材料吸收特定波長**的能量。

顯示的區域約1納米寬，中心在628納米左右。通過*0.7秒的單次曝光記錄太陽光譜的可見區域，演示了HN-9332光譜儀的寬波長覆蓋范圍。圖的左側部分顯示了SpectraLoK軟件直接顯示的整個425-700nm波長范圍。圖的右部分顯示了在517nm附近鎂三重態周圍連續擴展的區域。HN-9332光譜儀的儀器分辨率比較好用頻率單位來表示——儀器波長覆蓋范圍約20GHz，對應于425nm處約15pm、550nm處約2pμm和700nm處約30pm的分辨率。因此，圖中顯示的數據可以理解為相當于>10000個分辨率點，所有這些分辨率點都記錄在不到1秒的單次曝光中。

4)反應性濺鍍制備過渡膜：在第四真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣與氮氣發生化學反應生成氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻，反應生成的氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻沉積在步驟3)制得的緩沖膜的外表面上形成過渡膜；步驟4)中，靶材為鉻靶，功率為15kw，電壓為510v，真空度為8.0e-6torr，鍍膜速度為6mm/s，氬氣流量為90sccm，氮氣流量為70sccm，氧氣流量為50sccm，制得的過渡膜的厚度為70nm；5)反應性濺鍍制備吸收膜：在第五真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發生化學反應生成氧化鉻，反應生成的氧化鉻沉積在步驟4)制得的過渡膜的外表面上形成吸收膜；撞擊出來的鉻離子與通入的氮氣發生化學反應生成氮化鉻，反應生成的氮化鉻沉積。

步驟2)中，靶材為銅靶，功率為7kw，電壓為520v，真空度為8.0e-6torr，鍍膜速度為6mm/s，氬氣流量為320sccm，制得的低發射率膜的厚度為200nm；3)反應性濺鍍制備緩沖膜：在第三真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氮氣發生化學反應生成氮化鉻，反應生成的氮化鉻沉積在步驟2)制得的低發射率膜的外表面上形成緩沖膜；步驟3)中，靶材為鉻靶，功率為7kw，電壓為420v，真空度為8.0e-6torr，鍍膜速度為6mm/s，氬氣流量為240sccm，氮氣流量為43sccm，制得的緩沖膜的厚度為90nm；如果所通入的氣體含量剛好足夠與濺射出的原子進行反應，使得在靶材表面甚少形成化合物，則有利濺射的進行。內蒙古下打光太陽光譜模擬公司

撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣與氮氣發生化學反應生成氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻。江蘇AM0太陽光譜模擬濾光片

推薦的，步驟3)中，靶材為鉻靶，氬氣流量為50～300sccm，氮氣流量為10～100sccm，制得的緩沖膜的厚度為30～150nm。推薦的，步驟4)中，靶材為鉻靶，氬氣流量為50～500sccm，氮氣流量為10～200sccm，氧氣流量為10～200sccm，制得的過渡膜的厚度為30～100nm。推薦的，步驟5)中，靶材為鉻靶，氬氣流量為50～300sccm，氧氣流量為10～200sccm，制得的吸收膜的厚度為30～120nm。推薦的，步驟6)中，靶材為硅靶，氬氣流量為50～500sccm，氧氣流量為50～200sccm，制得的抗反射膜的厚度為60～200nm。推薦的，步驟1)中，吸熱體的基材為不銹鋼片、鋁板或銅板。江蘇AM0太陽光譜模擬濾光片

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