在本實施例一可行的方式中，根據計算坐標為(x，y)的像素點對應的地理經度l(x)。根據計算坐標為(x，y)的像素點對應的地理緯度b(y)；其中，(b0，l0)為坐標值(0，0)為的像素點對應的地理坐標。s22，根據拍攝日期，計算拍攝日期對應的太陽赤緯角和大氣層上界垂直入射時的太陽輻射強度。在本實施例一可行的方式中，可根據計算太陽赤緯角。根據計算大氣層上界垂直入射時，太陽輻射強度。其中，d表示計算拍攝日期在一年中所處的天數，即將每年的一月一日當做***天。δ(d)為太陽赤緯角，e(d)為太陽輻射強度。比現有技術中膜層的光熱轉換的效率提高了6％～10％。貴州購買太陽光譜模擬購買

表明了所能達到的效率上限。雖然所用的材料花費很大，但用于制造這種電池的技術很有前途。通過降低成本和回收利用這些生長基底，未來類似的產品可能將被推向市場。背景技術：在平板型太陽能集熱器的生產中，往往要在吸熱體(吸熱板)的基材的外表面鍍一層薄膜，以提高對太陽熱能的吸收，以往使用的化學鍍膜，對環境污染大，而且對太陽熱能的吸收不好。由于在濺鍍化合物薄膜時，若直接以化合物當作靶材，則所濺鍍出來的薄膜會與靶材成份有所差別，且因為不同物質被離子擊出的濺擊產額不同，因此不容易控制化合物的成份組成與性遼寧銷售太陽光譜模擬銷售如何提高吸熱體的基材的外表面上的薄膜對太陽熱能的吸收，提高光熱轉換的效率。

HN-9332儀器的寬波長覆蓋范圍允許在整個光譜的可見區域進行快速的“測量”光譜。然而，許多夫瑯和費譜線和大多數大氣譜線都比HN-9332儀器的分辨率窄。需要更高分辨率的光譜儀來詳細檢查太陽光譜的感興趣區域；例如HF-8989。02高分辨率太陽光譜下圖顯示了太陽光譜中一個特別有趣的區域。這個位于689nm附近的區域主要是由地球大氣中的氧氣引起的大地吸收。在這里，可以清楚地觀察到氧帶的R-和P-分支中的單個吸收線，較強的吸收線在線中心顯示~100%的吸收。左邊是一個高分辨率的太陽光譜，它是用629nm波段的HF-8989-3光譜儀拍攝的。

顯示的區域約1納米寬，中心在628納米左右。通過*0.7秒的單次曝光記錄太陽光譜的可見區域，演示了HN-9332光譜儀的寬波長覆蓋范圍。圖的左側部分顯示了SpectraLoK軟件直接顯示的整個425-700nm波長范圍。圖的右部分顯示了在517nm附近鎂三重態周圍連續擴展的區域。HN-9332光譜儀的儀器分辨率比較好用頻率單位來表示——儀器波長覆蓋范圍約20GHz，對應于425nm處約15pm、550nm處約2pμm和700nm處約30pm的分辨率。因此，圖中顯示的數據可以理解為相當于>10000個分辨率點，所有這些分辨率點都記錄在不到1秒的單次曝光中。通過降低成本和回收利用這些生長基底，未來類似的產品可能將被推向市場。

1)反應性濺鍍制備強化膜：在***真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發生化學反應生成氧化鉻，反應生成的氧化鉻沉積在吸熱體的基材的外表面上形成強化膜；步驟1)中，吸熱體的基材為不銹鋼片；步驟1)中，靶材為鉻靶，功率為9kw，電壓為500v，真空度為8.0e-6torr，鍍膜速度為6mm/s，氬氣流量為120sccm，氧氣流量為80sccm，制得的強化膜的厚度為70nm；膜厚是根據工藝要求可調整的；2)濺鍍制備低發射率膜：在第二真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的銅離子沉積在步驟1)制得的強化膜的外表面上形成低發射率膜；反應性濺鍍制備緩沖膜：在第三真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材。寧夏AM0太陽光譜模擬濾光片

為使本發明實施例的目的、技術方案和優點更加清楚，下面將結合本發明實施例。貴州購買太陽光譜模擬購買

這發生在太陽大氣層的外層（夫瑯和費線），或通過地球大氣層內的吸收（由水蒸氣或氧氣等氣體引起的大氣吸收譜線）。每個單獨的條紋由標準具或VIPA的一個FSR隔開。標準具FSR由其制造工藝精確確定，這意味著將原始條紋圖像與現有文獻中的太陽光譜進行比較，即可得到相應的太陽光譜。HN-9332光譜儀在518nm附近記錄的太陽極光光譜顯示了太陽外層的Mg三重態吸收(除了所示的Mg線和Fe線之外，在太陽光譜的這個區域也有一些Ni吸收線）。比較LightMachineryHF-8989-2e光譜儀記錄的太陽光譜（紅色數據）和參考光譜（藍色數據）貴州購買太陽光譜模擬購買

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