Nanoscribe雙光子灰度光刻系統QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創建的工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創造工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維帶您了解Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統。湖北工業級灰度光刻

超高速灰度光刻技術是一項帶領科技發展的重大突破，為我們帶來了無限可能。這項技術的出現，將徹底改變我們對光刻的認知，為各行各業帶來了巨大的創新機遇。超高速灰度光刻技術主要是利用高能激光束對材料進行精確的刻蝕，從而實現微米級甚至納米級的精細加工。相比傳統的光刻技術，超高速灰度光刻技術具有更高的加工速度和更精確的刻蝕效果。這意味著我們可以在更短的時間內完成更復雜的加工任務，提高了生產效率。超高速灰度光刻技術在電子、光電子、生物醫藥等領域具有廣泛的應用前景。在電子領域，它可以用于制造更小、更快的芯片和電路板，推動電子產品的迭代升級。在光電子領域，它可以用于制造高精度的光學元件，提高光學設備的性能。在生物醫藥領域，它可以用于制造微型生物芯片和生物傳感器，實現更精確的醫學診斷。浙江工業級灰度光刻技術更多灰度光刻技術，歡迎您致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

Nanoscribe成立于2007年，憑借著爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術背景和卡爾蔡司公司（CarlZeissAG）的支持，經過十幾年的不斷研究和成長成為了現在世界公認的微納米加工技術和3D打印市場的帶領者，并于2017年在上海成立分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。公司主要產品有基于雙光子聚合技術（Two-PhotonPolymerization）并擁有多項國際專項的雙光子微納3D打印系統PhotonicProfessionalGT2。全球頭一臺工業級雙光子灰度光刻（2GL®)微納打印設備QuantumX受到普遍關注并被眾多高學府和高科技單位所采用，例如哈佛大學，牛津大學等出名的院校，華為公司等。可應用于微納機器人，再生醫學工程，微納光學，力學超材料等不同領域。

QuantumX采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點，您可以進行幾乎任何形狀，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的創新設計。Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度，可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。納糯三維灰度光刻制作的透鏡分辨率達645lp/mm，遠超普通商用鏡頭水平。

微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似，但是原理不同，我們常見的微納3D打印技術是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術，利用該技術我們理論上可以獲得任意想要的結構，不光是微透鏡陣列結構（如下圖5所示），該方法的優勢是可以完全按照設計獲得想要的結構，對于雙光子聚合的微結構，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結構可以直接進行后續的復制工作，并通過納米壓印技術進行復制。灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區域完全曝透，而某些區域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態的光刻膠結構（如下圖4所示，八邊金字塔結構）。微透鏡陣列也是類似，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態。Quantum X是全球頭一臺灰度光刻激光直寫系統。廣東工業級灰度光刻無掩光刻

灰度光刻技術可以實現高分辨率的微納米結構制造，滿足日益增長的微電子和光電子器件對精確結構的需求。湖北工業級灰度光刻

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創建的工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創造工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。湖北工業級灰度光刻