YuanStem 20多能干細胞培養(yǎng)基使用說明書
YuanStem 20多能干細胞培養(yǎng)基
YuanStem 8多能干細胞培養(yǎng)基
當(dāng)轉(zhuǎn)染變成科研的吞金獸,你還要忍多久?
ProFect-3K轉(zhuǎn)染挑戰(zhàn)賽—更接近Lipo3k的轉(zhuǎn)染試劑
自免/代謝/**/ADC——體內(nèi)中和&阻斷抗體
進口品質(zhì)國產(chǎn)價,科研試劑新**
腫瘤免疫研究中可重復(fù)數(shù)據(jù)的“降本增效”方案
Tonbo流式明星產(chǎn)品 流式抗體新選擇—高性價比的一站式服務(wù)
如何選擇合適的in vivo anti-PD-1抗體
Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)作工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為mm。雙光子灰度光刻技術(shù)3D printing by 2GL?是?種基于2PP的 全新三維微加工技術(shù)。黑龍江2GL灰度光刻微納光刻

Nanoscribe成立于2007年,是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過硬的技術(shù)背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)先領(lǐng)導(dǎo)地位,并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術(shù)的3D微納加工系統(tǒng)基礎(chǔ)上進一步擴大產(chǎn)品組合實現(xiàn)多樣化,以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)作工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。歡迎咨詢納糯三維科技(上海)有限公司工業(yè)級灰度光刻系統(tǒng)想要了解更多雙光子灰度光刻技術(shù),請致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期,包括仿生表面,微光學(xué)元件,機械超材料和3D細胞支架等。
“Nanoscribe成立于卡爾斯魯厄理工學(xué)院,現(xiàn)在在上海設(shè)有子公司,在美國設(shè)有辦事處。該公司在財務(wù)和技術(shù)上獲得了蔡司的大力支持,蔡司是德國歷史特別悠久,規(guī)模比較大的光學(xué)系統(tǒng)制造商之一。納米標記系統(tǒng)基于雙光子吸收,這是一種分子被激發(fā)到更高能態(tài)的過程。為了使用雙光子工藝制造3D物體,使用含有單體和雙光子活性光引發(fā)劑的凝膠作為原料。將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體,其中吸收的光的強度特別高。Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統(tǒng)制造商,2019年6月25日,南極熊從外媒獲悉,該公司近日推出了一款新型的機器QuantumX。該系統(tǒng)使用雙光子光刻技術(shù)制造納米尺寸的折射和衍射微光學(xué)元件,其尺寸可小至200微米。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,“Beers定律對當(dāng)今的無掩模光刻設(shè)備施加了強大的限制,QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù),克服了這些限制,提供了前所未有的設(shè)計自由度和易用性,我們的客戶正在微加工的前沿工作。更多德國雙光子灰度光刻技術(shù)內(nèi)容,敬請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。

Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的子公司,開發(fā)并提供用于納米、微米和中尺度的3D打印機以及光敏材料和工藝解決方案。其口號是:“我們讓小物件變得重要”,公司創(chuàng)始人開發(fā)出一種技術(shù),對智能手機、手持設(shè)備和醫(yī)療技術(shù)領(lǐng)域至關(guān)重要的3D打印產(chǎn)品。通過基于雙光子聚合(2PP)的3D打印機投入市場,他們已經(jīng)為全球的大學(xué)和新興行業(yè)提供了新的解決方案,致力于3D微打印生命科學(xué)研究以及納米級3D打印光學(xué),甚至利用他們的技術(shù)來開發(fā)創(chuàng)新的設(shè)備,例如用于類固醇洗脫的3D微支架人工耳蝸。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,“Beers定律對當(dāng)今的無掩模光刻設(shè)備施加了強大的限制,QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù),克服了這些限制,提供了前所未有的設(shè)計自由度和易用性,我們的客戶正在微加工的前沿工作。灰度光刻技術(shù)具有廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域。黑龍江工業(yè)級灰度光刻無掩光刻
更多灰度光刻技術(shù)詳情,歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。黑龍江2GL灰度光刻微納光刻
Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)QuantumX的中心是Nanoscribe獨jia專li的雙光子灰度光刻技術(shù)。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計迭代,打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型,也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展LASERWorldofPhotonics上發(fā)布了全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)QuantumX,并榮獲創(chuàng)新獎。該系統(tǒng)是世界上No.1基于雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL?)的精密加工微納米打印系統(tǒng),可應(yīng)用于折射和衍射微光學(xué)。黑龍江2GL灰度光刻微納光刻