航空航天：微型傳感器的可靠加工，航空航天領域對器件小型化與可靠性的高要求，使Polos設備成為理想選擇。其加工的微型壓力傳感器，通過0.8μm精度的應變片圖案設計，實現(xiàn)了0.01kPa的測量精度，且能耐受-50℃至150℃的極端溫度。在衛(wèi)星載荷研發(fā)中，科研人員利用Beam系列設備制作的微型天線，體積較傳統(tǒng)產品縮小70%，信號接收靈敏度卻提升25%，充分適配航天器的輕量化需求。德國 Polos 是桌面級紫外激光直寫光刻機領域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無掩模技術與緊湊設計，產品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應用于微電子、生物醫(yī)學等領域，為科研機構與中小企業(yè)提供高性價比微納加工解決方案，推動技術普惠。?環(huán)保低能耗設計：固態(tài)光源能耗較傳統(tǒng)設備降低30%，符合綠色實驗室標準。湖北POLOSBEAM光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸

Polos-BESM在電子器件原型開發(fā)中展現(xiàn)高效性。例如，其軟件支持GDS文件直接導入，多層曝光疊加功能簡化了射頻器件（如IDC電容器）的制造流程。研究團隊利用同類設備成功制備了高頻電路元件，驗證了其在5G通信和物聯(lián)網硬件中的潛力。無掩模光刻技術可以隨意進行納米級圖案化，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下，將該技術帶到了桌面上，進一步提升了其優(yōu)勢。無掩模光刻技術可以隨意進行納米級圖案化，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下，將該技術帶到了桌面上，進一步提升了其優(yōu)勢。廣東德國POLOS桌面無掩模光刻機可以自動聚焦波長微流體3D成型：復雜流道快速曝光，助力tumor篩查芯片與藥物遞送系統(tǒng)研發(fā)。

光束引擎技術：速度與精度的平衡，Polosoriginal creation的可更換光束引擎是其core技術亮點，采用UV激光形成精密光斑，通過壓電驅動的精密工作臺實現(xiàn)高速掃描。Beam系列設備單次寫入400μm區(qū)域，配合晶圓分步移動與圖案拼接技術，可在5英寸晶圓上實現(xiàn)無縫加工。這種“小光斑+快掃描”的組合，既保證了0.3μm的高精度，又將單塊晶圓曝光時間控制在數十分鐘內，兼顧科研精度與生產效率。德國 Polos 是桌面級紫外激光直寫光刻機領域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無掩模技術與緊湊設計，產品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應用于微電子、生物醫(yī)學等領域，為科研機構與中小企業(yè)提供高性價比微納加工解決方案，推動技術普惠。

德國 Polos 光刻機系列是電子學領域不可或缺的精密設備。其無掩模激光光刻技術，讓電路圖案曝光不再受限于掩模，能夠實現(xiàn)超高精度的圖案繪制。在芯片研發(fā)過程中，Polos 光刻機可precise刻畫出納米級別的電路結構，為芯片性能提升奠定基礎。? 科研團隊使用 Polos 光刻機，成功開發(fā)出更高效的集成電路，降低芯片能耗，提高運算速度。而且，該光刻機可輕松輸入任意圖案，滿足不同電子元件的多樣化設計需求。無論是新型傳感器的電路制作，還是微型處理器的研發(fā)，Polos 光刻機都能以高精度、低成本的優(yōu)勢，為電子學領域的科研成果產出提供有力保障，推動電子技術不斷創(chuàng)新。柔性電子：曲面 OLED 驅動電路漏電降 70%，彎曲半徑達 1mm，適配可穿戴設備。

單細胞分選需要復雜的流體動力學控制結構，傳統(tǒng)光刻難以實現(xiàn)多尺度結構集成。Polos 光刻機的分層曝光功能，在同一片芯片上制備出 5μm 窄縫的細胞捕獲區(qū)與 50μm 寬的廢液通道，通道高度誤差控制在 ±2% 以內。某細胞生物學實驗室利用該芯片，將單細胞分選通量提升至 1000 個 / 秒，分選純度達 98%，較傳統(tǒng)流式細胞儀體積縮小 90%。該技術已應用于循環(huán)tumor細胞檢測，使稀有細胞捕獲效率提升 3 倍，相關設備進入臨床驗證階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。光刻膠broad兼容：支持AZ5214E、SU-8等材料，優(yōu)化參數降低側壁粗糙度。陜西BEAM-XL光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模

POLOS μ：超緊湊設計，納米級精度專攻微流控與細胞芯片。湖北POLOSBEAM光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸

Beam系列：緊湊型無掩模解決方案，PolosBeam系列以“桌面級尺寸，工業(yè)級性能”著稱，其中Beam-6型號支持5英寸晶圓加工，曝光面積較基礎款提升25%。其core優(yōu)勢在于可快速更換的光束引擎，采用壓電驅動掃描技術，單次寫入400μm區(qū)域，配合閉環(huán)對焦系統(tǒng)，1秒內即可完成precise對焦。該系列設備重量only260kg，占地面積不足0.4㎡，讓中小型企業(yè)無需改造廠房即可引入微納加工能力。德國 Polos 是桌面級紫外激光直寫光刻機領域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無掩模技術與緊湊設計，產品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應用于微電子、生物醫(yī)學等領域，為科研機構與中小企業(yè)提供高性價比微納加工解決方案，推動技術普惠。湖北POLOSBEAM光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸