柔性電子是未來可穿戴設備的core方向，其電路圖案需適應曲面基底。Polos 光刻機的無掩模技術在聚酰亞胺柔性基板上實現了 2μm 線寬的precise曝光，解決了傳統掩模對準偏差問題。某柔性電子研究中心利用該設備，開發出可貼合皮膚的健康監測貼片，其傳感器陣列的信號噪聲比提升 60%。相比光刻膠掩模工藝，Polos 光刻機將打樣時間從 72 小時壓縮至 8 小時，加速了柔性電路的迭代優化，推動柔性電子從實驗室走向產業化落地。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術，用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。固態電池：鋰金屬界面阻抗降至 50Ω?cm2，電池循環壽命提升 3 倍。河南德國桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化

Polos-BESM支持GDS文件直接導入和多層曝光疊加，簡化射頻器件（如IDC電容器）制造流程。研究團隊利用類似設備成功制備高頻電路元件，驗證了其在5G通信和物聯網硬件中的潛力。其高重復性（0.1 μm）確保科研成果的可轉化性，助力國產芯片產業鏈突破技術封鎖56。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術，用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。四川POLOSBEAM-XL光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸實時觀測系統：120 FPS高清攝像頭搭配20x尼康物鏡，實現加工過程動態監控。

POLOSμ：多基材兼容的通用型設備，POLOSμ桌面光刻機以2-23μm可調分辨率與廣譜基材兼容性立足市場，支持硅、金屬、塑料等多種材質加工，maximum適配4英寸晶圓。其接近式曝光模式結合1%光強均勻性，確保圖案邊緣清晰度，配合SFTprint控制軟件，可直接導入CAD文件實現自動劑量測試。在微流體芯片制作中，它能precise刻制1-100μm微通道，為器官芯片的血管網絡建模提供關鍵技術支撐。德國 Polos 是桌面級紫外激光直寫光刻機領域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無掩模技術與緊湊設計，產品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應用于微電子、生物醫學等領域，為科研機構與中小企業提供高性價比微納加工解決方案，推動技術普惠。?

技術趨勢：智能化與多功能集成，從Polos的產品迭代可見其技術發展方向：一方面強化AI算法集成，未來計劃通過深度學習優化自動對焦與圖案校正精度；另一方面拓展多功能集成，探索與探針測試、薄膜沉積等設備的聯動。官網顯示，其正在研發的新型號將支持更高分辨率的hyperspectral輔助曝光，可實現材料特性與圖案加工的同步優化，這一創新有望進一步拓展其在智能材料、量子器件等前沿領域的應用。德國 Polos 是桌面級紫外激光直寫光刻機領域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無掩模技術與緊湊設計，產品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應用于微電子、生物醫學等領域，為科研機構與中小企業提供高性價比微納加工解決方案，推動技術普惠。6英寸晶圓兼容：Polos-BESM XL Mk2支持155×155 mm大尺寸加工，工業級重復精度0.1 μm。

某半導體實驗室采用 Polos 光刻機開發氮化鎵（GaN）基高電子遷移率晶體管（HEMT）。其激光直寫技術在藍寶石襯底上實現了 50nm 柵極長度的precise曝光，較傳統光刻工藝線寬偏差降低 60%。通過自定義多晶硅柵極圖案，器件的電子遷移率達 2000 cm2/(V?s)，擊穿電壓提升至 1200V，遠超商用產品水平。該技術還被用于 SiC 基功率器件的臺面刻蝕，刻蝕深度均勻性誤差小于 ±3%，助力我國新能源汽車電控系統core器件的國產化突破。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術，用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。生物界面創新：微納結構可控加工，為組織工程提供新型仿生材料解決方案。廣東光刻機讓你隨意進行納米圖案化

德國 SPS Polos：深耕微納加工 35 年，專注半導體與生命科學領域，全球布局 6 大技術中心，服務 500 + 科研機構。河南德國桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化

單細胞分選需要復雜的流體動力學控制結構，傳統光刻難以實現多尺度結構集成。Polos 光刻機的分層曝光功能，在同一片芯片上制備出 5μm 窄縫的細胞捕獲區與 50μm 寬的廢液通道，通道高度誤差控制在 ±2% 以內。某細胞生物學實驗室利用該芯片，將單細胞分選通量提升至 1000 個 / 秒，分選純度達 98%，較傳統流式細胞儀體積縮小 90%。該技術已應用于循環tumor細胞檢測，使稀有細胞捕獲效率提升 3 倍，相關設備進入臨床驗證階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術，用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。河南德國桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化