航空航天：微型傳感器的可靠加工，航空航天領域對器件小型化與可靠性的高要求，使Polos設備成為理想選擇。其加工的微型壓力傳感器，通過0.8μm精度的應變片圖案設計，實現了0.01kPa的測量精度，且能耐受-50℃至150℃的極端溫度。在衛星載荷研發中，科研人員利用Beam系列設備制作的微型天線，體積較傳統產品縮小70%，信號接收靈敏度卻提升25%，充分適配航天器的輕量化需求。德國 Polos 是桌面級紫外激光直寫光刻機領域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無掩模技術與緊湊設計，產品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應用于微電子、生物醫學等領域，為科研機構與中小企業提供高性價比微納加工解決方案，推動技術普惠。?空間友好設計：占地面積小于 1.2㎡，小型實驗室也能部署高精度光刻系統。天津BEAM-XL光刻機分辨率1.5微米

在微流控芯片集成領域，某微機電系統實驗室利用 Polos 光刻機的多材料同步曝光技術，在同一塊 PDMS 芯片上直接制備出金屬電極驅動的氣動泵閥結構。其微泵通道寬度可控制在 20μm，流量調節精度達 ±1%，響應時間小于 50ms。通過軟件輸入不同圖案，可在 10 分鐘內完成從連續流到脈沖流的模式切換。該芯片被用于單細胞代謝分析，實現了單個tumor細胞葡萄糖攝取率的實時監測，檢測靈敏度較傳統方法提升 3 倍，相關設備已進入臨床前驗證階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術，用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。北京桌面無掩模光刻機MAX層厚可達到10微米微流體領域：支持 1-100μm 微通道定制，助力organ芯片血管網絡precise建模。

一所高校的電子工程實驗室專注于新型傳感器的研究。在開發一款超靈敏壓力傳感器時，面臨著如何在微小尺寸上構建高精度電路圖案的難題。德國 Polos 光刻機的引入解決了這一困境。其可輕松輸入任意圖案進行曝光的特性，讓研究人員能夠根據傳感器的特殊需求，設計并制作出獨特的電路結構。通過 Polos 光刻機precise的光刻，成功制造出的壓力傳感器，靈敏度比現有市場產品提高了兩倍以上。該成果已獲得多項patent，并吸引了多家科技企業的關注，有望實現產業化應用，為可穿戴設備、智能機器人等領域帶來新的發展機遇。

某半導體實驗室采用 Polos 光刻機開發氮化鎵（GaN）基高電子遷移率晶體管（HEMT）。其激光直寫技術在藍寶石襯底上實現了 50nm 柵極長度的precise曝光，較傳統光刻工藝線寬偏差降低 60%。通過自定義多晶硅柵極圖案，器件的電子遷移率達 2000 cm2/(V?s)，擊穿電壓提升至 1200V，遠超商用產品水平。該技術還被用于 SiC 基功率器件的臺面刻蝕，刻蝕深度均勻性誤差小于 ±3%，助力我國新能源汽車電控系統core器件的國產化突破。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術，用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。掩模制備時間歸零，科研人員耗時減少 60%，項目交付周期縮短 50%。

教育領域：微納科學的教學利器，Polos設備因其操作簡便、安全穩定的特點，成為高校微納科學教學的preferred工具。在荷蘭代爾夫特理工大學的課堂上，學生利用POLOSμ完成微電極圖案制作實驗，將抽象的光刻原理轉化為直觀實踐。設備的緊湊設計與低能耗特性，也適配了高校實驗室的空間與預算限制，通過“理論+實操”的模式，為培養微納加工領域人才提供了硬件支撐。德國 Polos 是桌面級紫外激光直寫光刻機領域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無掩模技術與緊湊設計，產品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應用于微電子、生物醫學等領域，為科研機構與中小企業提供高性價比微納加工解決方案，推動技術普惠。?工業4.0協同創新：與弗勞恩霍夫ILT合作優化激光能量分布，提升制造精度。重慶德國桌面無掩模光刻機

圖案靈活性：支持 STL 模型直接導入，30 分鐘完成從設計到曝光全流程。天津BEAM-XL光刻機分辨率1.5微米

在科研領域，設備的先進程度往往決定了研究的深度與廣度。德國的 Polos - BESM、Polos - BESM XL、SPS 光刻機 POLOS μ 帶來了革新之光。它們運用無掩模激光光刻技術，摒棄了傳統光刻中昂貴且制作周期長的掩模，極大降低了成本。這些光刻機可輕松輸入任意圖案進行曝光，在微流體、電子學和納 / 微機械系統等領域大顯身手。例如在微流體研究中，能precise制造復雜的微通道網絡，助力藥物傳輸、細胞培養等研究。在電子學方面，可實現高精度的電路圖案曝光，為芯片研發提供有力支持。其占用空間小，對于空間有限的研究實驗室來說堪稱完美。憑借出色特性，它們已助力眾多科研團隊取得成果，成為科研創新的得力助手 。天津BEAM-XL光刻機分辨率1.5微米