售后服務：科研保障的全周期覆蓋，Polos通過經銷商網絡提供完善的售后支撐，設備整機質保期長達1年，貨期約200天。安裝調試階段提供現場free培訓，確保操作人員快速掌握設備使用與維護技巧。針對科研機構的特殊需求，還可提供定制化光學模塊更換服務，例如將405nm光源升級為375nm以適配i-Line光刻膠，這種靈活的服務模式大幅提升了設備的適配性。德國 Polos 是桌面級紫外激光直寫光刻機領域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無掩模技術與緊湊設計，產品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應用于微電子、生物醫學等領域，為科研機構與中小企業提供高性價比微納加工解決方案，推動技術普惠。?無掩模激光直寫技術：無需物理掩膜，軟件直接輸入任意圖案，降低成本與時間。遼寧德國POLOS光刻機可以自動聚焦波長

德國Polos-BESM系列光刻機采用無掩模激光直寫技術，突破傳統光刻對物理掩膜的依賴，支持用戶通過軟件直接輸入任意圖案進行快速曝光。其亞微米分辨率（most小線寬0.8 μm）和405 nm紫外光源，可在5英寸晶圓上實現高精度微納結構加工18。系統體積緊湊，only占桌面空間，搭配閉環自動對焦（1秒完成）和半自動多層對準功能，大幅提升實驗室原型開發效率，適用于微流體芯片設計、電子元件制造等領域。無掩模光刻技術可以隨意進行納米級圖案化，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協的情況下，將該技術帶到了桌面上，進一步提升了其優勢。浙江桌面無掩模光刻機可以自動聚焦波長雙光子聚合擴展：結合Nanoscribe技術實現3D微納打印，拓展微型機器人制造。

生物醫學：神經工程的微觀助力，在神經工程研究中，Polos光刻機實現了電極結構的精密加工突破。某團隊通過其在鉑銥合金電極表面刻制10μm間距的蜂窩狀微孔，使神經元突觸密度提升20%，信號采集噪聲降低35%。其兼容生物相容性材料的特性，還可用于微流控芯片的細胞培養腔道制作，為腦機接口、神經信號監測等前沿領域提供微觀結構支撐。德國 Polos 是桌面級紫外激光直寫光刻機領域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無掩模技術與緊湊設計，產品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應用于微電子、生物醫學等領域，為科研機構與中小企業提供高性價比微納加工解決方案，推動技術普惠。?

上海有機化學研究所通過光刻技術制備多組分納米纖維，實現了功能材料的精確組裝。類似地，Polos系列設備可支持此類結構的可控加工，為新能源器件（如柔性電池）和智能材料提供技術基礎3。設備的高重復性（0.1 μm）確保了科研成果的可轉化性。掩模光刻技術可以隨意進行納米級圖案化，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協的情況下，將該技術帶到了桌面上，進一步提升了其優勢。高頻元件驗證：成功開發射頻器件與IDC電容器，加速國產芯片產業鏈突破。

電子學：芯片研發的快速原型工具，Polos設備成為芯片研發的“快速試錯”利器，憑借納米級電路圖案刻制能力，助力科研團隊優化集成電路設計。上海某研究所利用NWA-100加工的新型電路結構，使芯片能耗降低25%，運算速度提升15%。設備支持任意圖案輸入的靈活性，可適配傳感器、微型處理器等多樣化電子元件需求，無需更換掩模即可完成多版本測試，大幅降低研發成本。德國 Polos 是桌面級紫外激光直寫光刻機領域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無掩模技術與緊湊設計，產品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應用于微電子、生物醫學等領域，為科研機構與中小企業提供高性價比微納加工解決方案，推動技術普惠。?生物界面創新：微納結構可控加工，為組織工程提供新型仿生材料解決方案。遼寧德國POLOS光刻機可以自動聚焦波長

Polos-BESM：基礎款高性價比，適合高校實驗室基礎微納加工。遼寧德國POLOS光刻機可以自動聚焦波長

2D材料加工：二維異質結的precise構筑，在石墨烯等2D材料研究中，Polos光刻機實現了異質結的高精度圖案化。利用NWA-100的0.3μm分辨率，科研人員可在石墨烯表面刻制精密電極，構建二維晶體管。其非接觸式曝光方式避免了對超薄材料的損傷，配合多種基材兼容特性，還可實現石墨烯與其他二維材料的precise疊層，為下一代柔性電子器件研發提供關鍵工具。德國 Polos 是桌面級紫外激光直寫光刻機領域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無掩模技術與緊湊設計，產品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應用于微電子、生物醫學等領域，為科研機構與中小企業提供高性價比微納加工解決方案，推動技術普惠。?遼寧德國POLOS光刻機可以自動聚焦波長