可編程微流控芯片需要集成電路控制與流體通道，傳統(tǒng)工藝需多次掩模對(duì)準(zhǔn)，良率only 30%。Polos 光刻機(jī)的多材料同步曝光技術(shù)，支持在同一塊基板上直接制備金屬電極與 PDMS 通道，將良率提升至 85%。某微系統(tǒng)實(shí)驗(yàn)室利用該特性，開(kāi)發(fā)出可實(shí)時(shí)切換流路的生化分析芯片，通過(guò)軟件輸入不同圖案，10 分鐘內(nèi)即可完成從 DNA 擴(kuò)增到蛋白質(zhì)檢測(cè)的模塊切換。該成果應(yīng)用于 POCT 設(shè)備，使現(xiàn)場(chǎng)快速檢測(cè)系統(tǒng)的體積縮小 60%，檢測(cè)時(shí)間縮短至傳統(tǒng)方法的 1/3。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件，開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì)。6英寸晶圓兼容：Polos-BESM XL Mk2支持155×155 mm大尺寸加工，工業(yè)級(jí)重復(fù)精度0.1 μm。湖北德國(guó)POLOS桌面無(wú)掩模光刻機(jī)可以自動(dòng)聚焦波長(zhǎng)

Beam系列：緊湊型無(wú)掩模解決方案，PolosBeam系列以“桌面級(jí)尺寸，工業(yè)級(jí)性能”著稱，其中Beam-6型號(hào)支持5英寸晶圓加工，曝光面積較基礎(chǔ)款提升25%。其core優(yōu)勢(shì)在于可快速更換的光束引擎，采用壓電驅(qū)動(dòng)掃描技術(shù)，單次寫(xiě)入400μm區(qū)域，配合閉環(huán)對(duì)焦系統(tǒng)，1秒內(nèi)即可完成precise對(duì)焦。該系列設(shè)備重量only260kg，占地面積不足0.4㎡，讓中小型企業(yè)無(wú)需改造廠房即可引入微納加工能力。德國(guó) Polos 是桌面級(jí)紫外激光直寫(xiě)光刻機(jī)領(lǐng)域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無(wú)掩模技術(shù)與緊湊設(shè)計(jì)，產(chǎn)品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達(dá) 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應(yīng)用于微電子、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域，為科研機(jī)構(gòu)與中小企業(yè)提供高性價(jià)比微納加工解決方案，推動(dòng)技術(shù)普惠。天津德國(guó)POLOS光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸無(wú)掩模激光直寫(xiě)技術(shù)：無(wú)需物理掩膜，軟件直接輸入任意圖案，降低成本與時(shí)間。

材料科學(xué)：功能材料的可控組裝，在功能材料領(lǐng)域，Polos光刻機(jī)為精確組裝提供了技術(shù)保障。上海某化學(xué)研究所借助其光刻技術(shù)，成功制備多組分納米纖維，實(shí)現(xiàn)了新能源器件的結(jié)構(gòu)化設(shè)計(jì)。設(shè)備可在柔性基底上加工導(dǎo)電圖案，為柔性電池、智能穿戴設(shè)備的研發(fā)奠定基礎(chǔ)。其0.1μm的高重復(fù)性，確保了功能材料批量制備的一致性，加速科研成果向產(chǎn)業(yè)化轉(zhuǎn)化。德國(guó) Polos 是桌面級(jí)紫外激光直寫(xiě)光刻機(jī)領(lǐng)域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無(wú)掩模技術(shù)與緊湊設(shè)計(jì)，產(chǎn)品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達(dá) 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應(yīng)用于微電子、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域，為科研機(jī)構(gòu)與中小企業(yè)提供高性價(jià)比微納加工解決方案，推動(dòng)技術(shù)普惠。?

在航空航天科研中，某科研團(tuán)隊(duì)致力于研發(fā)用于環(huán)境監(jiān)測(cè)和偵察的微型飛行器。其中，制造輕量化且高性能的微機(jī)械部件是關(guān)鍵。德國(guó) Polos 光刻機(jī)憑借無(wú)掩模激光光刻技術(shù)，助力團(tuán)隊(duì)制造出尺寸precise、質(zhì)量輕盈的微型齒輪、機(jī)翼骨架等微機(jī)械結(jié)構(gòu)。例如，利用該光刻機(jī)制造的微型齒輪，齒距精度達(dá)到納米級(jí)別，極大提高了飛行器動(dòng)力傳輸系統(tǒng)的效率和穩(wěn)定性。基于此，科研團(tuán)隊(duì)成功試飛了一款新型微型飛行器，其續(xù)航時(shí)間和飛行靈活性遠(yuǎn)超同類產(chǎn)品，為未來(lái)微型飛行器在復(fù)雜環(huán)境下的應(yīng)用奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。能源收集：微型壓電收集器效率 35%，低頻振動(dòng)發(fā)電支持無(wú)源物聯(lián)網(wǎng)。

在構(gòu)建肝臟芯片的血管化網(wǎng)絡(luò)時(shí)，某生物工程團(tuán)隊(duì)使用 Polos 光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)了跨尺度結(jié)構(gòu)制備。其無(wú)掩模技術(shù)在 200μm 的主血管與 5μm 的blood capillary間precise銜接，血管內(nèi)皮細(xì)胞貼壁率達(dá) 95%，較傳統(tǒng)光刻提升 30%。通過(guò)輸入 CT 掃描的真實(shí)肝臟血管數(shù)據(jù)，芯片成功模擬門靜脈與肝竇的血流梯度，使肝細(xì)胞功能維持時(shí)間從 7 天延長(zhǎng)至 21 天。該技術(shù)為藥物肝毒性測(cè)試提供了接近體內(nèi)環(huán)境的模型，某制藥公司使用后將候選藥物篩選周期縮短 40%，相關(guān)成果登上《Lab on a Chip》封面。Polos-BESM 光刻機(jī)：無(wú)掩模激光技術(shù)，成本降低 50%，任意圖案輕松輸入，適配實(shí)驗(yàn)室微納加工。天津德國(guó)POLOS光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸

光束引擎高速掃描：SPS POLOS μ單次寫(xiě)入400 μm區(qū)域，壓電驅(qū)動(dòng)提升掃描速度。湖北德國(guó)POLOS桌面無(wú)掩模光刻機(jī)可以自動(dòng)聚焦波長(zhǎng)

航空航天：微型傳感器的可靠加工，航空航天領(lǐng)域?qū)ζ骷⌒突c可靠性的高要求，使Polos設(shè)備成為理想選擇。其加工的微型壓力傳感器，通過(guò)0.8μm精度的應(yīng)變片圖案設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)了0.01kPa的測(cè)量精度，且能耐受-50℃至150℃的極端溫度。在衛(wèi)星載荷研發(fā)中，科研人員利用Beam系列設(shè)備制作的微型天線，體積較傳統(tǒng)產(chǎn)品縮小70%，信號(hào)接收靈敏度卻提升25%，充分適配航天器的輕量化需求。德國(guó) Polos 是桌面級(jí)紫外激光直寫(xiě)光刻機(jī)領(lǐng)域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無(wú)掩模技術(shù)與緊湊設(shè)計(jì)，產(chǎn)品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達(dá) 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應(yīng)用于微電子、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域，為科研機(jī)構(gòu)與中小企業(yè)提供高性價(jià)比微納加工解決方案，推動(dòng)技術(shù)普惠。?湖北德國(guó)POLOS桌面無(wú)掩模光刻機(jī)可以自動(dòng)聚焦波長(zhǎng)