高精密冷凍水機組是一種專為工業及特殊環境設計的制冷設備，通過精確的溫度控制和高效制冷循環，為高精度制造、數據中心、醫藥生產等領域提供穩定可靠的冷卻解決方案。其關鍵特點在于高能效、低波動性及智能化控制，滿足嚴苛的溫控需求。極測（南京）技術有限公司采??研溫控技術，高精密冷凍水機組冷凍?的出?溫度蕞?精度可達±0.002℃。高精密冷凍水機組采用國際有名品牌壓縮機，配套高質量高效能銅管制作的板式換熱器及有名品牌電氣元器件。使機組具有精度高、體積小、噪音低、壽命長、操作簡便、高效節能等優點。高精密冷凍水機組采用自主研發高精度溫度采集模塊，準確測量實驗艙內實時的溫濕度數值并傳輸給控制器，冷凍水閥無級調節、無級調節電加熱器、模擬量控制加濕器可根據實際實驗艙需求調節輸出功率。專為高精度恒溫恒濕控制設計的PID算法，在運行過程中進行比例、積分、微分的計算并輸出控制，使實驗室內溫度濕度處于穩定狀態，絕dui焓濕量的控制策略，使控制實驗艙內濕度控制快速準確，沒有誤操作誤判斷。極測（南京）高精密環境控制設備已實現蕞高溫控精度±0.002℃，潔凈度十級以上。半導體量測精密溫控配套

極測（南京）致力于為全球高精密需求用戶打造超精密穩定的研發與生產環境，專注于研發、生產和銷售高端定制化精密環控系統，目前已擁有結合全場景非標定制能力，滿足用戶不同溫濕度穩定性、潔凈度，氣壓穩定性、抗微振、防磁、隔音等個性化需求。科學技術成果認定為國際先進水平。服務行業覆蓋：半導體芯片、精密光學、精密測量、新能源、航空航天、通信技術等行業。極測在新技術浪潮中奮力向前，攀登環境控制新高度！為用戶提供精zhun、穩定、可靠的高精密環境！寧夏半導體量測精密溫控系統由設備主柜體、潔凈過濾系統、局部氣浴、控制系統、氣流循環系統、制冷(熱)系統等組成。

極測（南京）技術有限公司的精密水冷冷凍水機組憑借毫 K 級控溫精度（±0.001℃）、快速響應能力及高穩定性設計，成為半導體制造中蝕刻與沉積設備、晶圓制造、芯片測試等關鍵環節的標配溫控設備。本文結合半導體工藝對溫度的嚴苛需求，解析該機組如何通過專li技術實現全流程溫度精zhun控制，助力提升芯片良率與生產效率，為半導體行業用戶提供溫控設備選型與應用參考。
在半導體制造向 3nm 甚至更小制程突破的today，精密水冷冷凍水機組已從 “輔助設備” 升級為 “關鍵工藝設備”。極測（南京）技術有限公司的產品憑借毫 K 級控溫、全流程適配及高可靠性，正在助力國內晶圓廠、封測廠及研發機構攻克溫度敏感型工藝難題。對于半導體行業而言，選擇一款能夠精zhun匹配蝕刻、沉積、晶圓生長、芯片測試等全場景需求的溫控設備，不僅是提升良率的關鍵，更是在全球半導體競爭中構建技術壁壘的重要一環。

在半導體產業鏈中，溫度波動是導致芯片缺陷的關鍵因素之一：

蝕刻與沉積環節：極紫外（EUV）光刻、等離子蝕刻等工藝需將溫度波動控制在±0.01℃以內，若溫度漂移超過閾值，可能導致刻蝕深度不均、薄膜應力開裂等問題；

晶圓生長與加工：硅單晶生長過程中，溫度梯度變化會引起晶格缺陷，影響晶圓電學性能；

芯片測試環節：環境溫度波動可能導致測試儀器誤差增大，造成芯片分選誤判。極測精密水冷冷凍水機組以±0.001℃控溫精度（遠超行業標準）及動態負載適應能力，精zhun解決上述痛點，成為半導體工藝的“溫度守護者”。 極測（南京）高精密環控設備用于芯片加工、元器件組裝等場景，避免熱應力對精密元件的影響，提升良品率。

極測（南京）關鍵技術市如何適配半導體嚴苛需求的？毫 K 級控溫的技術密碼專li級 PID + 逐級控溫：通過 “超高精度工藝冷卻水系統及其恒溫控制方法” 專li，結合自主研發溫度采集模塊與多級制冷回路設計，實現對蝕刻機腔體溫度的±0.001℃級控制，例如在 EUV 光刻機中，可確保光刻膠曝光時的熱形變小于 1 納米；板式換熱器強化傳熱：微通道結構與不銹鋼材質提升換熱效率 30% 以上，同時避免銅離子污染（半導體行業忌用材質），滿足晶圓制造對水質純凈度的要求。抗干擾與快速響應能力雙壓縮機冗余設計：在晶圓廠 24 小時連續生產中，單壓縮機故障時備用模塊可在快速自動切入，避免因停機導致的工藝中斷；變頻技術動態調溫：通過壓縮機變頻調節制冷量，在芯片測試環節面對多工位負載切換時，溫度恢復時間很大縮短。穩定電子元件內部結構，應用于超聲波清洗、真空鍍膜等場景，防止清洗劑揮發并保障鍍膜質量。寧夏半導體量測精密溫控

我們的解決方案集成了精密溫控、潔凈控制、濕度控制（蕞高±0.3%RH）、及抗微振功能的綜合環境配套系統。半導體量測精密溫控配套

控制精度是衡量精密環控設備的關鍵指標，通常以溫度和濕度的偏差值表示，如 ±0.1℃和 ±1% RH，偏差值越小，精密環控設備的控制能力越強。極測（南京）技術有限公司的精密環控設備運用自主研發的高精密控溫技術，能達到 0.1% 的控制輸出精度。同時，精密環控設備內部的溫濕度均勻性也很重要，能確保各個位置的物品處于相同環境條件；而且在長時間運行中，精密環控設備的溫濕度控制需保持穩定，波動范圍越小越好，像極測的設備內部溫度穩定性關鍵區域可達 +/-2mK（靜態），溫度水平均勻性小于 16mK/m。  半導體量測精密溫控配套