極測（南京）專注精密環境控制解決方案，現已服務多家全球半導體、通信設備、顯示面板企業與國家重點實驗室，應用于眾多科研與生產場景。目前，高精密環境控制設備已實現蕞高溫控精度±0.002℃，潔凈度十級以上。擁有結合全場景非標定制能力，可滿足用戶不同環境參數及使用需求，比如溫濕度穩定性、潔凈度，抗微振、防磁、隔音等，持續領跑超高精密環控技術革新。當前半導體行業處于快速發展與技術迭代的關鍵期，本土供應鏈的完善與升級至關重要。極測（南京）技術此次業績表現，不僅標志著公司在市場拓展與業務運營上實現突破，展現出強勁的增長態勢，更體現了其在半導體精密環控領域的核心競爭力持續提升，為后續發展奠定了堅實基礎。數據全流程可溯：實時記錄并圖形化顯示溫度、濕度等關鍵環境參數變化曲線，數據自動存儲并支持表格導出。2mK精密溫控系統

在高duan制造與科研領域，溫度控制的微小偏差正在扼殺技術突破：半導體光刻環節：極紫外（EUV）光刻機要求冷卻水溫度波動≤±0.001℃。傳統機組溫度控制±0.5℃的精度會導致光刻膠形變，造成納米級線寬偏差，單次工藝損失超$50萬。冷凍電鏡（Cryo-EM）成像：生物樣本溫度控制需在-180℃下維持±0.1℃穩定性。溫度波動超過閾值會使冰晶破壞蛋白質結構，3D重建分辨率從3?劣化至8?，研究成果價值歸零。高功率激光加工：光纖激光器溫度控制漂移＞±0.02℃時，熱透鏡效應導致光束焦點偏移20μm，碳鋼切割斷面粗糙度增加300%，廢品率飆升。技術本質：傳統水冷機組受限于PID控制滯后性、換熱器結垢衰減、單點故障風險，無法滿足超精密場景的溫度控制“零容忍”需求。天津精密溫控非標定制晶圓需要經歷一系列高精度的蝕刻、涂層、光刻等工藝，這些工藝都需要在特定的溫度范圍內進行。

干涉儀對精密微環境的嚴苛需求：干涉儀的納米級測量精度極易受環境干擾。其基于光的干涉原理工作，通過測量干涉條紋變化精確測定物體長度、角度、表面平整度等參數，精度可達納米級別。溫度波動引致光學元件熱變形，改變光路并偏移干涉條紋；塵埃與濕度波動則加速設備損耗，干涉儀精密微環境的穩定性直接決定測量成敗。前列的精密溫控能力：干涉儀微環境穩定關鍵極測精密溫控技術可實現內部溫度穩定性關鍵區域可達 +/-2mK（靜態），溫度水平均勻性小于 16mK/m。這一精度確保了在立式干涉儀運行時，光學元件與機械結構不受溫度波動干擾，始終維持在蕞佳工作狀態，為精Zhun測量提供穩定基礎。百級潔凈+濕度協同打造干涉儀長效微環境系統通過極測精密微環境控制系統，實現濕度控制與百級以上潔凈，同步解決光學件霉變、金屬銹蝕及塵埃光路干擾問題，為干涉儀構建多參數協同精密微環境。智能精密溫控：干涉儀微環境運維閉環實時監控干涉儀微環境溫濕度等數據，自動生成運行趨勢曲線，支持故障追溯與質量分析。智能防護模塊保障精密溫控設備24小時連續運行，避免測量中斷。

通過查閱資料、咨詢專業人士或參考其他用戶評價，了解精密環控設備供應商的信譽和口碑。極測（南京）技術有限公司已在眾多相關領域成功應用其產品，為客戶提供了穩定可靠的研發和生產環境，贏得了贊譽。同時，要清楚精密環控設備供應商的售后服務政策，包括保修期限、售后響應時間等，良好的售后能在設備出現故障時及時維修，減少停機時間。極測在售后方面也有相應的保障措施，為客戶解決后顧之憂。如需了解，歡迎瀏覽極測（南京）技術有限公司官網了解。極測（南京）冷水機組冷凍水的出水溫度蕞高精度可達±0.002℃，配置過載保護、液位監測、漏液檢測等功能。

在高精密實驗中，環境波動帶來的影響不容忽視。溫度波動會導致實驗區域內溫度分布不均勻，影響實驗結果的準確性和重復性；濕度變化會干擾生物實驗、材料老化實驗等的進程；空氣擾動會對微觀實驗樣本造成物理性干擾，改變宏觀實驗裝置或樣品的位置或姿態；還會影響光學儀器、精密天平的精度，引入灰塵顆粒、有害氣體等雜質和污染物。 而精密環控系統對空氣擾動和漂移擾動的抑制效果明顯。數據顯示，精密環控系統開啟后，0.05Hz、0.15Hz、1Hz 頻率點累計誤差幅值下降幅度分別降低 98.03%、86.07%、85.83%，漂移擾動得到明顯抑制，波動范圍下降約 50%、標準差減小 45%。同時，溫度波動對超快激光參數影響重大，當環境溫度變化超過 0.8℃時，脈寬會出現呼吸現象，影響超快激光器的性能，而溫度越穩定激光的參數越好。一般來說，潔凈室的潔凈度要達到Class 1到Class 100的標準。電子顯微鏡精密溫控技術

系統可實現蕞高ISO Class 1級的潔凈環境（每立方米≥0.1μm顆粒物≤10個）。2mK精密溫控系統

濕度穩定性：濕度過高可能導致光學鏡片表面結露、金屬部件銹蝕、光刻膠特性改變；濕度過低則容易產生靜電，吸附塵埃污染晶圓和設備。精確的濕度控制對確保工藝穩定性和材料性能至關重要。3、chao低振動：光刻機在曝光時需要極高的穩定性。任何來自地面（交通、施工、人員走動）、設備自身（空調、泵）或建筑物（風載荷）的振動，都會直接導致光學系統抖動，使投影到硅片上的圖形模糊或位置偏移。因此，光刻機通常安裝在深達地下的單獨地基或高性能主動/被動隔震平臺上，甚至采用磁懸浮等技術進行主動減振。 2mK精密溫控系統