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半導體器件薄膜涂層黃金靶材特點自旋電鍍膜黃金靶材的工作原理主要涉及物相沉積（PVD）技術中的濺射鍍膜過程，具體可以歸納如下：濺射過程：在濺射鍍膜中，通過電場或磁場加速的能離子（如氬離子）轟擊黃金靶材的表面。這種轟擊導致靶材表面的原子或分子被擊出，形成濺射原子流。原子沉積：被擊出的濺射原子（即黃金原子）在真空中飛行，并終沉積在旋轉的基底材料上。基底的旋轉有助于確保薄膜的均勻性。自旋作用：基底的自旋運動是關鍵因素之一，它不僅促進了濺射原子的均勻分布，還有助于減少薄膜中的缺陷和應力。薄膜形成：隨著濺射過程的持續進行，黃金原子在基底上逐漸積累，形成一層或多層薄膜。這層薄膜具有特定的物理和化學性質，如導電性、光學性能等。工藝控制：在...
2024-07-15