對顯微鏡有效放大倍數的再認識顯微鏡的有效放大倍數（M）與物鏡數值孔徑（NA）的關系可以表示為：550NA<M<1100NA>；，長期以來，顯微鏡使用者一直遵循這一關系式.但是，VanderVoort在其所著《金相學——原理與實踐》一書中指出，上式是在用理想的眼睛觀察具有理想反差物象的條件下推導出的，因此不要當做教條來遵循.實際上，分辨率不僅與物鏡的分辨率有關，而且還與物象的反差有關.此外，照明條件、放大倍數、物鏡質量，以及觀察條件都會影響物象的反差,因而也會影響分辨率.他指出，為了獲得最高分辨率，比較低有效放大倍數應當是比較好條件下的4倍左右，即M≈2200NA；同時，使用4000×或更高放大倍數的顯微照片也是完全合理的.安裝簡單，即插即用，計算機端采用USB2.0接口插拔方便。南通附近金相顯微鏡貨源充足

奧林巴斯金相顯微鏡作為一種先進的材料分析儀器，在多個領域都有著廣泛的應用。金屬材料領域微觀結構觀察：通過金相顯微鏡，可以對金屬材料的微觀結構進行細致觀察，包括晶粒形態、相分布、界面結構等。性能分析：結合顯微組織分析，可以評估金屬材料的力學性能、耐腐蝕性能、加工硬化特性等。質量控制：在金屬材料的生產過程中，金相顯微鏡用于檢測材料缺陷、雜質分布等，確保產品質量。其他應用領域半導體工業：在半導體材料的制備和檢測過程中，金相顯微鏡用于觀察和分析材料的微觀結構和缺陷。工業檢測：在工業生產中，金相顯微鏡用于檢測各種工業產品的微觀結構和性能，如汽車零部件、電子元器件等。 [1-2]啟東便宜的金相顯微鏡售價金相顯微鏡電子目鏡可配合投影機組成一個電子多媒體教學、演示系統，提高設備利用率、促進相互交流。

光源**早的金相顯微鏡，采用一般的白熾燈泡照明，以后為了提高亮度及照明效果，出現了低壓鎢絲燈、碳弧燈、氙燈、鹵素燈、**燈等。有些特殊性能的顯微鏡需要單色光源，鈉光燈、鉈燈能發出單色光。照明方式金相顯微鏡與生物顯微鏡不同，它不是用透射光,而是采用反射光成像,因而必須有一套特殊的附加照明系統，也就是垂直照明裝置。1872年蘭(V.vonLang)創造出這種裝置,并制成了***臺金相顯微鏡。原始的金相顯微鏡只有明場照明，以后發展用斜光照明以提高某些組織的襯度。

目鏡偏差檢具：十字分劃板。檢測方法：在顯微鏡上用10倍物鏡和被檢十字分劃目鏡對置于載物臺上的十字分劃板調焦清晰，并使十字分劃板中心的像與十字分劃板目鏡重合，然后旋轉十字分劃目鏡，以兩十字線中心的比較大偏移作為檢測值。技術要求：十字分劃目鏡的十字線中心應與目鏡升圓軸線重合，其偏差為0.01mm。顯像部分出現的問題比較嚴重。1、光學系統（1）視場模糊或視場一樣不清晰。（2）像發閃爍，反差不好。（3）轉換物鏡時不到同焦。（4）即使用高電壓，視場也難以鮮明。2 、粗、微調部（1）粗調控制鈕旋轉時發重。技術要求：十字分劃目鏡的十字線中心應與目鏡升圓軸線重合，其偏差為0.01mm。

在金相樣品表面上的各組織組成物，反光度必須有所差別方能在顯微鏡下利用各 種光學信息進行顯示，加以辨識。為此，樣品在觀察前應按一定的操作程序進行必要的加工準備。樣品準備和以后組織顯示大致程序可用圖3表示。磨平和拋光一般在帶有金相砂紙的金相分析**的磨平機上磨平之后再在拋光機上進行拋光，拋光過程需要使用拋光劑，如三氧化二鉻、氧化鎂等。拋光除機械方法外，還可采用電解、化學、化學-機械和電解-機械等法。經拋光后樣品表面呈鏡面。有些合金的組織組成物,如金屬與合金中的夾雜物（圖4）和鑄鐵中的石墨，反射本領遠低于基體，這類樣品在拋光后便可直接置于顯微鏡下進行觀察和分析。在拋光過程中還應防止組成物脫落。對于一些含有不穩定組織（如淬火馬氏體）的樣品，應防止過熱，以避免組織發生變化.分劃值為0.01mm的分劃尺，其任意兩劃線間的極限偏差為±0.005mm。如東定制金相顯微鏡基礎

前后左右移動載物臺，觀察試樣的不同部位，以便并找到代表性的顯微組織。南通附近金相顯微鏡貨源充足

平場消色差物鏡現今新型顯微鏡已經普遍使用平場消色差物鏡，甚至還可以配置更高級的平場復消色差物鏡.老式物鏡初次放大實象的直徑只有18mm～20mm，而平場消色差物鏡則規定高度校正的初次放大平面象的直徑為28mm，即象場面積增大了一倍，并使象場彎曲得到了很好的校正.高倍干物鏡為了便于觀察高倍顯微組織，現今顯微鏡一般均備有高倍干物鏡.例如nikon公司生產的EPIPHOT300型金相顯微鏡（圖1）配置有放大100×、150×、200×的CFPlanApoEPI型干物鏡，其NA值均為0.95.盡管干物鏡的分辨率明顯低于油浸物鏡（100×油浸物鏡的NA值一般可達1.40），但由于簡化了操作并使試樣免于被油污染，已獲得更為***的使用。南通附近金相顯微鏡貨源充足

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