腐刻圖4 光學(xué)金相顯微術(shù)大多數(shù)經(jīng)拋光的試樣是不能看到組織的。因?yàn)楣庠跇悠繁砻嫔暇鶆蚍瓷洌鞑?同組織的反射率差別很小，不能被肉眼察覺(jué)。因而需要采用以下腐刻方法加大各相之間的襯度。①化學(xué)及電化學(xué)方法:化學(xué)腐刻（4%-8%硝酸酒精、苦味酸氫氧化鈉溶液、鐵**鉀等）電解腐刻（包括恒電位腐刻），陽(yáng)極腐刻及氧化（熱染）等；②物理方法：真空顯示（選擇性蒸發(fā)），離子束濺射，干涉層等。目前，***使用的化學(xué)腐刻劑，大多數(shù)都是基于經(jīng)驗(yàn)；近年來(lái)已發(fā)展出如恒電位電解腐刻、離子束腐刻和干涉層金相技術(shù)等方法，可較好地控制條件，保證實(shí)驗(yàn)的重復(fù)性。后者利用鍍層的干涉效應(yīng)，能真實(shí)地反映組織形貌。2022年奧林巴斯科學(xué)事業(yè)部拆分，成立EVIDENT公司后，繼續(xù)深耕金相顯微鏡產(chǎn)品。崇川區(qū)附近金相顯微鏡售價(jià)

干涉顯微術(shù)圖7 光學(xué)金相顯微術(shù)示意如圖7。其特點(diǎn)是在顯微鏡光學(xué)系統(tǒng)中增加了特殊設(shè)計(jì)的光學(xué)裝置，使光線(xiàn) 通過(guò)時(shí)被分成兩束，一束光通過(guò)物鏡，在試樣上反射返回，重新穿過(guò)光束分離器進(jìn)入目鏡；另一束光從一個(gè)比較板上反射進(jìn)入目鏡。這兩束反射光在光束分離器上相遇時(shí)會(huì)發(fā)生干涉，利用所產(chǎn)生的干涉條紋的形狀，可以判斷輕微浮凸的空間形態(tài)，并可根據(jù)條紋位移量和相鄰條紋間距之比，定量給出浮凸高度。多光束干涉的發(fā)展，使干涉條紋更為窄銳，從而提高了測(cè)量高度差的靈敏度（見(jiàn)馬氏體相變中的圖3、圖6）。江蘇重型金相顯微鏡廠(chǎng)家供應(yīng)前后左右移動(dòng)載物臺(tái)，觀(guān)察試樣的不同部位，以便并找到代表性的顯微組織。

象差的校正程度，也是影響成象質(zhì)量的重要因素。在低倍情況下，象差主要通過(guò)物鏡進(jìn)行校正，在高倍情況下，則需要目鏡和物鏡配合校正。透鏡的象差主要有七種，其中對(duì)單色光的五種是球面象差、彗星象差、象散性、象場(chǎng)彎曲和畸變。對(duì)復(fù)色光有縱向色差和橫向色差兩種。早期的顯微鏡主要著眼于色差和部分球面象差的校正，根據(jù)校正的程度而有消色差和復(fù)消色差物鏡。近期的金相顯微鏡，對(duì)象場(chǎng)彎曲和畸變等象差，也給予了足夠的重視。物鏡和目鏡經(jīng)過(guò)這些象差校正后，不僅圖象清晰，并可在較大的范圍內(nèi)保持其平面性，這對(duì)金相顯微照相尤為重要。因而現(xiàn)已***采用平場(chǎng)消色差物鏡、平場(chǎng)復(fù)消色差物鏡以及廣視場(chǎng)目鏡等。上述象差校正程度，都分別以鏡頭類(lèi)型的形式標(biāo)志在物鏡和目鏡上。

光學(xué)金相顯微術(shù)是利用可見(jiàn)光顯微鏡觀(guān)察金屬樣品表面微觀(guān)組織的技術(shù)，通過(guò)分析不同組織對(duì)光的反射差異實(shí)現(xiàn)定性、定量研究，可檢測(cè)0.2-500μm尺度的金屬結(jié)構(gòu)，廣泛應(yīng)用于材料性能分析與冶金質(zhì)量控制 [1]。該技術(shù)由俄國(guó)學(xué)者阿諾索夫于1841年初步探索，1863年英國(guó)科學(xué)家索比將巖相學(xué)方法引入鋼鐵研究奠定基礎(chǔ)，后經(jīng)馬滕斯、奧斯蒙等學(xué)者完善，20世紀(jì)初形成系統(tǒng)化分析方法。金相顯微鏡由光學(xué)放大、照明和機(jī)械系統(tǒng)組成，**成像元件包括物鏡與目鏡，分辨率受光源波長(zhǎng)與孔徑角限制，**小分辨距離約0.2μm。樣品需經(jīng)研磨、拋光及化學(xué)腐蝕處理以增強(qiáng)組織對(duì)比度。特殊分析方法涵蓋偏振光顯微術(shù)、干涉顯微術(shù)與相襯技術(shù)，可檢測(cè)晶體各向異性及表面形貌差異。定量金相技術(shù)基于體視學(xué)實(shí)現(xiàn)顯微組織量化分析，高溫/低溫金相技術(shù)則通過(guò)變溫樣品臺(tái)觀(guān)察組織動(dòng)態(tài)變化 [2]。模塊化設(shè)計(jì)：系統(tǒng)組件采用模塊化設(shè)計(jì)，便于用戶(hù)根據(jù)實(shí)際需求進(jìn)行選擇和配置。

物鏡轉(zhuǎn)換器定位誤差檢具：（1）10倍十字目鏡。（2）分劃值為0.01mm的分劃尺，其任意兩劃線(xiàn)間的極限偏差為±0.005mm。檢測(cè)方法：在被檢金相顯微鏡的轉(zhuǎn)換器上裝40倍物鏡，目鏡筒內(nèi)放10倍十字目鏡，對(duì)置于載物臺(tái)上的0.01mm分劃尺調(diào)焦清晰，使分劃尺上某一分劃與目鏡中十字劃中心重合，然后轉(zhuǎn)動(dòng)物鏡轉(zhuǎn)換器向左，右多次定位（不少于3 次），觀(guān)察0.01mm分劃尺像的偏移，以比較大偏移值作為檢測(cè)值。技術(shù)要求：不大于0.02 mm。換物鏡偏差檢具：（1）10倍十字分劃目鏡。（2）二字分劃板。更換鹵素?zé)魰r(shí)要注意高溫，以免灼傷；注意不要用手直接接觸鹵素?zé)舻牟Ａw。崇川區(qū)附近金相顯微鏡售價(jià)

根據(jù)觀(guān)察試樣所需的放大倍數(shù)要求，正確選配物鏡和目鏡，分別安裝在物鏡座上和目鏡筒內(nèi)。崇川區(qū)附近金相顯微鏡售價(jià)

目鏡偏差檢具：十字分劃板。檢測(cè)方法：在顯微鏡上用10倍物鏡和被檢十字分劃目鏡對(duì)置于載物臺(tái)上的十字分劃板調(diào)焦清晰，并使十字分劃板中心的像與十字分劃板目鏡重合，然后旋轉(zhuǎn)十字分劃目鏡，以?xún)墒志€(xiàn)中心的比較大偏移作為檢測(cè)值。技術(shù)要求：十字分劃目鏡的十字線(xiàn)中心應(yīng)與目鏡升圓軸線(xiàn)重合，其偏差為0.01mm。顯像部分出現(xiàn)的問(wèn)題比較嚴(yán)重。1、光學(xué)系統(tǒng)（1）視場(chǎng)模糊或視場(chǎng)一樣不清晰。（2）像發(fā)閃爍，反差不好。（3）轉(zhuǎn)換物鏡時(shí)不到同焦。（4）即使用高電壓，視場(chǎng)也難以鮮明。2 、粗、微調(diào)部（1）粗調(diào)控制鈕旋轉(zhuǎn)時(shí)發(fā)重。崇川區(qū)附近金相顯微鏡售價(jià)

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