橫向金屬柵片滅弧橫向金屬柵片又稱去離子柵，它利用的是短弧滅弧原理。它使用磁性材料的金屬片置于電弧中，將電弧分成若干短弧，利用交流電弧的近陰極效應和直流電弧的近極壓降來達到熄滅電弧的目的。橫向金屬柵片滅弧情況如圖4所示。柵片的材料一般采用鐵，當電弧靠近鐵柵片時，由于鐵片為磁性材料，所以柵片本身就具有一個把電弧拉入柵片的磁場力（當電弧移近金屬柵的上沿時，鐵柵片又具有把電弧拉回的特性，可防止電弧逸出柵外燒損其他物件）。斷路器用真空滅弧室的觸頭材料大都采用銅鉻合金，銅與鉻各占 50%。普陀區常規真空滅弧室特點

泛用于煤礦化工、石油冶金等部門，更適合在頻繁操作和環境惡劣的地方使用。陶瓷真空滅弧室傳統的排氣工藝主要方式是把部件組裝成待排期的滅弧室，然后裝架在排氣臺上。用烘箱加熱滅弧室使內部零件升溫把氣體排放出來，通過真空系統把這些氣體排出去，待滅弧室內氣體壓強低于1*10Pa時，再把它從排氣臺上封離，這樣真空滅弧室就制造完成。為了提高陶瓷真空滅弧室的生產效率，降**造成本，根據大量的科學研究和實踐，80年代初研究成功了陶瓷真空滅弧室“一次封排”工藝。是先把陶瓷真空滅弧室的零件釬焊成三大部件：動管芯，靜管芯、陶瓷絕緣外殼。按總裝配圖要求裝置成滅弧室，再把它放在高真空爐中進行釬焊，在升溫過程中，零件放氣被排出，滅弧室內達到高真空，在降溫過程中，各條釬焊焊縫被蜜蜂，使滅弧室排期和封接在高真空爐內一次完成。 [2]嘉定區特制真空滅弧室性能此工藝，過程簡單，一般有5道工序，人為環節少，過程質量穩定，但對封排設備的要求很高。

屏蔽罩是用來屏蔽電子信號的工具。作用就是屏蔽外界電磁波對內部電路的影響和內部產生的電磁波向外輻射。屏蔽罩由支腿及罩體組成，支腿與罩體為活動連接；罩體呈球冠狀。此部件主要應用于手機，GPS等領域，是防止電磁干擾（EMI）、對PCB板上的元件及LCM起屏蔽作用。屏蔽罩的材料一般采用0.2mm厚的不銹鋼和洋白銅為材料，其中洋白銅是一種容易上錫的金屬屏蔽材料。采用SMT貼片時應考慮吸盤的設計。屏蔽框一般采用Cu-C7521-H【通用料】，Cu-C7521-OH【軟料，拉深用】（鎳白銅、洋白銅（Copper-Nickel-ZincAlloy），NickelSilver），t=0.2，0.3mm；屏蔽罩一般采用不銹鋼SUS304R-1/2H【折彎加工】，SUS304R-1/4H【拉深用】，t=0.15，0.2mm，鍍錫鋼帶（馬口鐵皮）等；

導電系統真空滅弧室解剖圖定導電桿、定跑弧面、定觸頭、動觸頭、動跑弧面、動導電桿構成了滅弧室的導電系統。其中定導電桿、定跑弧面、定觸頭合稱定電極，動觸頭、動跑弧面、動導電桿合稱動電極，由真空滅弧室組裝成的真空斷路器，真空負荷開關和真空接觸器合閘時，操動機構通過動導電桿的運動，使兩觸頭閉合，完成了電路的接通。為了使兩觸頭間的接觸電阻盡可能減小且保持穩定和滅弧室承受動穩定電流時有良好的機械強度，真空開關在動導電桿一端設置有導向套，并使用一組壓縮彈簧，使兩觸頭間保持有一個額定壓力。當真空開關分斷電流時，滅弧室兩觸頭分離并在其間產生電弧，直至電流自然過零時電弧熄滅，便完成了電路的開斷其余部分稱為觸頭座，用無氧銅制造即可。

高頻電磁屏蔽：以屏蔽電磁波為主要目的，屏蔽所依據的原理是楞次定律，利用屏蔽罩內的感生電磁場來抵消外來電磁干擾，應選用良導體制作屏蔽罩，如鋁和銅等 [1]屏蔽是電工學中的一種裝置方式。為了防止外界電場、磁場或電磁場對內部設備的干擾或為了避免設備的電磁場對外界的影響，將設備放在一個封閉或近似封閉的金屬殼或金屬網罩中，這種金屬殼或網罩稱為屏蔽罩。在結構化學中，借用屏蔽這個詞來命名下述效應。原子中內層電子對外層電子的排斥作用，減少了原子核對外層電子的有效吸引，相當于內層電子“屏蔽”掉了一部分核電荷，故稱為屏蔽效應。電子間的屏蔽效應的大小可由屏蔽系數近似地表達 [2]。就提高了真空滅弧室開斷電流的能力和使用壽命。黃浦區新型真空滅弧室廠家現貨

工業生產：冶金電爐控制、石化設備保護、煤礦供電系統。普陀區常規真空滅弧室特點

特殊用的真空滅弧室是指在特定條件下運行的真空滅弧室。例如，托克馬克（Tokmak）設備上用的真空開關，它要求真空滅弧室既具有開斷接近短路電流的能力，同時又能作頻繁的操作。這些要求無疑是十分苛刻的，但對真空滅弧室來說，經過嚴密的設計也能滿意地達到預期的目標。其它如開斷高壓直流用的真空滅弧室、觸發點火用的真空滅弧室和切斷高頻電流用的真空滅弧室等等。真空滅弧室按不同的觸頭結構，可分為平板形觸頭結構、產生橫向磁場的觸頭結構、產生縱向磁場的觸頭結構、縱橫磁場相結合的觸頭結構（又稱作杯狀觸頭結構）和其它特殊型式的觸頭結構等。普陀區常規真空滅弧室特點

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