靜磁屏蔽：為了使雜散磁場集中到屏蔽罩殼體上，屏蔽罩應具有盡可能高的磁導率。所有磁導率高的軟磁材料，如電磁純鐵、球墨鑄鐵、坡莫合金、硅鋼、軟磁鐵氧體等，原則上都可選用。設計上應按磁屏要求、價格、殼體強度、加工性能等，綜合考慮后選定。低頻電磁屏蔽：除屏蔽靜磁外，還需兼屏蔽變化的電磁場。如工頻電磁場等。除要求磁導率高外，還要求電導率高。較理想的材料是坡莫合金，考慮到價格和加工因素，大的屏蔽罩以電磁純鐵為宜。坡莫合金中含鎳量高于40%時，磁導率和電導率都很好。此外，含鋁15%～16%左右的鐵鋁合金也是常用的磁屏材料。工業生產：冶金電爐控制、石化設備保護、煤礦供電系統。閔行區特制真空滅弧室設計

屏蔽罩是用來屏蔽電子信號的工具。作用就是屏蔽外界電磁波對內部電路的影響和內部產生的電磁波向外輻射。屏蔽罩由支腿及罩體組成，支腿與罩體為活動連接；罩體呈球冠狀。此部件主要應用于手機，GPS等領域，是防止電磁干擾（EMI）、對PCB板上的元件及LCM起屏蔽作用。屏蔽罩的材料一般采用0.2mm厚的不銹鋼和洋白銅為材料，其中洋白銅是一種容易上錫的金屬屏蔽材料。采用SMT貼片時應考慮吸盤的設計。屏蔽框一般采用Cu-C7521-H【通用料】，Cu-C7521-OH【軟料，拉深用】（鎳白銅、洋白銅（Copper-Nickel-ZincAlloy），NickelSilver），t=0.2，0.3mm；屏蔽罩一般采用不銹鋼SUS304R-1/2H【折彎加工】，SUS304R-1/4H【拉深用】，t=0.15，0.2mm，鍍錫鋼帶（馬口鐵皮）等；浦東新區特制真空滅弧室設計此工藝，過程較簡單，一般有7道工序，因而效率較高且人為污染也較少。

屏蔽系統真空滅弧室的屏蔽系統主要由屏蔽筒，屏蔽罩和其他零件組成。屏蔽系統的主要作用是：1.防止觸頭在燃弧過程中產生大量的金屬蒸汽和液滴噴濺，污染絕緣外殼的內壁，避免造成真空滅弧室外殼的絕緣強度下降或產生閃絡。2.改善真空滅弧室內部的電場分布，有利于真空滅弧室絕緣外殼的小型化，尤其是對于高電壓的真空滅弧室小型化有***效果。.吸收一部分電弧能量，冷凝電弧生成物。特別是真空滅弧室在開斷短路電流時，電弧所產生的熱能大部分被屏蔽系統所吸收，有利于提高觸頭間的介質恢復強度。屏蔽系統吸收電弧生成物的量越大，說明他吸收的能量也越大，這對增加真空滅弧室的開斷容量起良好作用。

斷路器用真空滅弧室的觸頭材料大都采用銅鉻合金，銅與鉻各占 50%。在上、下觸頭的對接面上各焊上一塊銅鉻合金片，一般厚度各為3mm。其余部分稱為觸頭座，用無氧銅制造即可。4.2 觸頭結構觸頭結構對滅孤室的開斷能力有很大影響。采用不同結構觸頭產生的滅弧效果有所不同的，早期采用簡單的圓柱形觸頭，結構雖簡單，但開斷能力不能滿足斷路器的要求，*能開斷10kA以下電流，并且*有真空負荷開關、高壓真空接觸器等用真空開關管才采用。常采用的有螺旋糟型結構觸頭、帶斜槽杯狀結構觸頭和縱磁場杯狀結構觸頭三種，其中以采用縱磁場杯狀結構觸頭為主。具有節能、節材、防火、防爆、體積小、壽命長、維護費用低、運行可靠和無污染等特點。

排氣臺工藝真空滅弧室生產工藝流程是指將真空滅弧室的零件通過釬焊及氬弧焊等工藝制成為待排氣的整管，再連接到排氣臺進行抽真空及烘烤除氣，***進行冷夾封口的過程。此工藝，過程復雜、路線長，一般有9道工序。因而效率低且對真空滅弧室零件的污染環節多。而且，按此工藝生產的真空滅弧室烘烤溫度低（450℃左右），因而除氣不徹底。一次封排工藝是指將真空滅弧室各零件先釬焊成幾個部件，再將幾個部件組裝成真空滅弧室整件，然后再在真空爐中完成排氣、烘烤去氣及釬焊封口的過程。此工藝，過程較簡單，一般有7道工序，因而效率較高且人為污染也較少。此外，按此工藝生產的真空滅弧室烘烤溫度高（800℃～900℃），因而排氣徹底。2024年我國率先實現252千伏真空環保斷路器技術突破，標志著該領域達到國際水平 [3]。徐匯區質量真空滅弧室品牌

由玻璃或陶瓷制成的氣密絕緣外殼、動端蓋板、定端蓋板，不銹鋼波紋管組成了氣密絕緣系統。閔行區特制真空滅弧室設計

若借助一定的儀器仔細觀察電弧，可以發現，除兩個極（觸頭）外，明顯的分為三個區域，即近陰極區、近陽極區及弧柱區，如圖1所示。近陰極區的長度約等于電子的平均自由行程（小于10-6m）。在電場力的作用下正離子向陰極運動，造成此區域內聚集著大量的正離子而形成正的空間電荷層，使陰極附近形成高電場強度（約為10+6~10+7V/m）。正的空間電荷層形成陰極壓降，其數值隨陰極材料和氣體介質的不同而有所變化，但變化不大，約在10～20V之間。閔行區特制真空滅弧室設計

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