超薄HfO2薄膜XRR測試引言隨著晶體管節點技術的發展，薄膜厚度越來越薄。比如高-柵介電薄膜HfO2的厚度往往小于2nm。在該技術節點的a20范圍內。超薄膜的均勻性是制備Hf基柵氧化物的主要工藝難題之一。為了控制超薄HfO2薄膜的厚度和密度，XRR是的測量技術。由于具有出色的適應能力，使用D8ADVANCE，您就可對所有類型的樣品進行測量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是專業用戶，都可簡單快捷、不出錯地對配置進行更改。這都是通過布魯克獨特的DAVINCI設計實現的：配置儀器時，免工具、免準直，同時還受到自動化的實時組件識別與驗證的支持。不止如此——布魯克提供基于NIST標樣剛玉（SRM1976）的準直保證。目前，在峰位、強度和分辨率方面，市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE。樣品臺的卡口座允許在測角儀上快速準確地更換整個樣品臺，較大限度地提高實驗靈活性。廣東點陣參數精確測量XRD衍射儀

X射線衍射（XRD）和反射率是對薄層結構樣品進行無損表征的重要方法。D8DISCOVER和DIFFRAC.SUITE軟件將有助于您使用常見的XRD方法輕松進行薄膜分析：掠入射衍射（GID）：晶相表面靈敏識別及結構性質測定，包括微晶尺寸和應變。X射線反射率測量（XRR）：用于提取從簡單的基底到高度復雜的超晶格結構等多層樣品的厚度、材料密度和界面結構信息。高分辨率X射線衍射（HRXRD）：用于分析外延生長結構：層厚度、應變、弛豫、鑲嵌、混合晶體的成分分析。應力和織構（擇優取向）分析。蘇州組分檢測分析在DIFFRAC.TEXTURE中，使用球諧函數和分量方法，生成極圖、取向分布函數（ODF）和體積定量分析。

石墨化度分析引言石墨及其復合材料具有高溫下不熔融、導電導熱性能好以及化學穩定性優異等特點，應用于冶金、化工、航空航天等行業。特別是近年來鋰電池的快速發展，進一步加大了石墨材料的需求。工業上常將碳原料經過煅燒破碎、焙燒、高溫石墨化處理來獲取高性能人造石墨材料。石墨的質量對電池的性能有很大影響，石墨化度是一種從結構上表征石墨質量的方法之一。石墨化度碳原子形成密排六方石墨晶體結構的程度,其晶格尺寸愈接近理想石墨的點陣參數,石墨化度就愈高。

X射線粉末衍射（XRPD）技術是重要的材料表征工具之一。粉末衍射圖中的許多信息，直接源于物相的原子排列。在D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件的支持下，您將能簡單地實施常見的XRPD方法：鑒別晶相和非晶相，并測定樣品純度對多相混合物的晶相和非晶相進行定量分析微觀結構分析（微晶尺寸、微應變、無序…）熱處理或加工制造組件產生的大量殘余應力織構（擇優取向）分析指標化、從頭晶體結構測定和晶體結構精修，由于具有出色的適應能力，使用D8ADVANCE，您就可對所有類型的樣品進行測量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。從過程開發到質量控制，D8 DISCOVER可以對亞毫米至300mm大小的樣品進行結構表征。

獲得的TRIO光路簡化了D8ADVANCE的操作，使之適用于多種應用和樣品類型。為便于用戶使用，該系統提供了自動化電動切換功能，可在多達6種不同的光束幾何之間進行自動切換。系統無需人工干預，即可在三個光路之間切換：用于粉末分析的Bragg-Brentano聚焦幾何用于毛細管、GID和XRR的平行光束Kα1,2幾何用于外延薄膜的高分辨率平行光束Kα1幾何它非常適合在環境條件或非環境條件下對所有樣品類型進行分析，其中包括粉末、塊狀材料、纖維、片材和薄膜（非晶、多晶和外延）。使用DIFFRAC.EVA,測定小區域結構特性。通過積分2D圖像，進行1D掃描，來進行定性相分析和微觀結構分析。蘇州組分檢測分析

孔板和沉積樣品在反射和透射中的高通量篩選。廣東點陣參數精確測量XRD衍射儀

D8ADVANCEECO是市面上環保的X射線衍射儀，其應用范圍、數據質量、靈活性和可升級性毫不打折扣。D8ADVANCEECO是功能齊全的D8ADVANCE版本，適用于所有X射線粉末衍射和散射應用。與D8ADVANCE完全兼容，它具有面向未來的所有靈活性。面對新應用，您隨時都能對它輕松完成升級，從而適應未來實驗室可能出現的任何X射線衍射和散射應用需求：相鑒定定量相分析微觀結構分析結構測定和精修殘余應力織構掠入射衍射（GID）X射線反射分析（XRR）小角X射線散射（SAXS）對分布函數（PDF）分析廣東點陣參數精確測量XRD衍射儀