多層膜XRR引言X射線反射率（XRR：X-RayReflectivity）單層薄膜或多層膜中各層薄膜的密度、膜厚、粗糙度等結構參數的有效無損檢測手段。由于具有出色的適應能力，使用D8ADVANCE，您就可對所有類型的樣品進行測量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是**用戶，都可簡單快捷、不出錯地對配置進行更改。這都是通過布魯克獨特的DAVINCI設計實現的：配置儀器時，免工具、免準直，同時還受到自動化的實時組件識別與驗證的支持。不止如此——布魯克提供基于NIST標樣剛玉（SRM1976）的準直保證。目前，在峰位、強度和分辨率方面，市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE。配備了UMC樣品臺的DISCOVER，優勢在于對大型機械零件殘余應力和織構分析以及殘余奧氏體或高溫合金表征。合肥原位檢測分析

布魯克獨有的DBO功能為X射線衍射的數據質量樹立了全新的重要基準。馬達驅動發散狹縫、防散射屏和可變探測器窗口的自動同步功能，可為您提供的數據質量——尤其是在低2?角度時。除此之外，LYNXEYE全系列探測器均支持DBO：SSD160-2，LYNXEYE-2和LYNXEYEXE-T。LYNXEYEXE-T是LYNXEYE系列探測器的旗艦產品。它是目前市面上的一款可采集0D、1D和2D數據的能量色散探測器，適用于所有波長（從Cr到Ag），具有準確的計數率和角分辨率，是所有X射線衍射和散射應用的理想選擇。合肥原位檢測分析在DIFFRAC.WIZARD中配置溫度曲線并將其與測量同不，然后可以在DIFFRAC.EVA中顯示結果。

殘余應力分析：：在DIFFRAC.LEPTOS中，使用sin2psi法，用Cr輻射進行測量，對鋼構件的殘余應力進行分析。使用了2D檢測器的μXRD：使用DIFFRAC.EVA,測定小區域結構特性。通過積分2D圖像，進行1D掃描，來進行定性相分析和微觀結構分析。定性相分析：候選材料鑒別（PMI）為常見，這是因為其對原子結構十分靈敏，而這無法通過元素分析技術實現。高通量篩選（HTS）:在DIFFRAC.EVA中，進行半定量分析，以現實孔板上不同相的濃度。非環境XRD：在DIFFRAC.WIZARD中配置溫度曲線并將其與測量同步，然后可以在DIFFRAC.EVR中顯示結果。小角X射線散射（SAXS）：在DIFFRAC.SAXS中，對EIGER2R500K通過2D模式手機的NISTSRM80119nm金納米顆粒進行粒度分析。

嬰兒爽身粉中石棉的定量分析引言含有滑石粉成分的化妝品常見的有各種潤膚粉、美容粉、爽身粉等。因滑石粉具有阻隔紅外線的作用，能增強這類化妝品的防曬和抗紅外線的性能。所以，在日常生活中使用。由于石棉是滑石的伴生礦物，滑石粉中可能含有石棉。石棉纖維被人體吸入到肺會引起石棉肺惡性疾病，我國已明確把石棉列為化妝品禁用物質，用于化妝品生產的滑石粉必須經過檢測不含石棉成分方可使用。判斷滑石中是否存在石棉通常采用偏光或電子顯微鏡和X射線衍射相結合的辦法。而石棉的定量分析一直是石棉分析中的一個難點，主要采用X射線衍射法。石棉定量采用基底修正法，具體操作步驟請參考：?SN／T2549.2-2010：進出口化妝品中石棉的測定：第2部分：X射線衍射-偏光顯微鏡法?ISO22262-3_2016：QuantitativedeterminationofasbestosbyX-raydiffractionmethod?GB／T23263-2009：制品中石棉含量測定法在DIFFRAC.LEPTOS中，對多層樣品進行XRR分析，測定其薄膜厚度、晶格失配和混合晶體濃度。

D2PHASER所具備的數據質量和數據采集速度遠超目前人們對臺式XRD系統的認知。緊湊輕便的外形和易于使用的設計，十分便于移動，您無需準備復雜的基礎框架、大而笨重的工作臺，也無需供應商前來安裝和調整，只需準備標準的電源插座，然后花費幾分鐘的時間，即可完成從拆包到獲得分析結果的過程。D2PHASERXE-T版D2PHASER配備了獨特的LYNXEYEXE-T探測器，已然成為同類更好的選擇！小于380eV的能量分辨率使其支持的數字單色器模式，可有效去除——不必要的輻射，如樣品熒光，Kβ輻射以及軔致輻射——背景散射，而不會明顯降低檢測速度。MONTEL光學器件可優化光束形狀和發散度，與布魯克大量組件、光學器件和探測器完全兼容。南京應力檢測分析

D8D對地質構造研究，借助μXRD，哪怕是很小的包裹體定性相分析和結構測定都不在話下。合肥原位檢測分析

X射線反射率測定引言X射線反射率（XRR：X-RayReflectivity）是一種表面表征技術，是利用X射線在不同物質表面或界面的反射線之間的干涉現象分析薄膜或多層膜結構的工具。通過分析XRR圖譜(圖1)可以確定各層薄膜的密度、膜厚、粗糙度等結構參數。XRR的特點：1無損檢測2對樣品的結晶狀態沒有要求，不論是單晶膜、多晶膜還是非晶膜均可以進行測試3XRR適用于納米薄膜，要求厚度小于500nm4晶面膜，表面粗糙度一般不超過5nm5多層膜之間要求有密度差合肥原位檢測分析