國瑞熱控金屬加熱盤突破海外技術(shù)壁壘，實(shí)現(xiàn)復(fù)雜結(jié)構(gòu)產(chǎn)品量產(chǎn)能力。采用不銹鋼精密加工一體化成型，通過五軸聯(lián)動機(jī)床制造螺紋斜孔等復(fù)雜結(jié)構(gòu)，加熱面粗糙度 Ra 小于 0.1μm。內(nèi)置螺旋狀不銹鋼加熱元件，經(jīng)真空焊接工藝與基體緊密結(jié)合，熱效率達(dá) 90%，升溫速率 25℃/ 分鐘，工作溫度范圍室溫至 500℃。設(shè)備具備 1000 小時無故障運(yùn)行能力，通過國內(nèi)主流客戶認(rèn)證，可直接替換進(jìn)口同類產(chǎn)品，在勻氣盤集成等場景中表現(xiàn)優(yōu)異，助力半導(dǎo)體設(shè)備精密零部件國產(chǎn)化。多重安全保護(hù)設(shè)計，漏電過載超溫防護(hù)，構(gòu)建安全工作環(huán)境。天津加熱盤生產(chǎn)廠家

國瑞熱控高真空半導(dǎo)體加熱盤，專為半導(dǎo)體精密制造的真空環(huán)境設(shè)計，實(shí)現(xiàn)無污染加熱解決方案。產(chǎn)品采用特殊密封結(jié)構(gòu)與高純材質(zhì)制造，所有部件均經(jīng)過真空除氣處理，在 10??Pa 高真空環(huán)境下無揮發(fā)性物質(zhì)釋放，避免污染晶圓表面。加熱元件采用嵌入式設(shè)計，與基材緊密結(jié)合，熱量傳遞損耗降低 30%，熱效率***提升。通過內(nèi)部溫度場模擬優(yōu)化，加熱面均溫性達(dá) ±1℃，適配光學(xué)器件鍍膜、半導(dǎo)體晶圓加工等潔凈度要求嚴(yán)苛的場景。設(shè)備可耐受反復(fù)升溫降溫循環(huán)，在 - 50℃至 500℃溫度區(qū)間內(nèi)結(jié)構(gòu)穩(wěn)定，為高真空環(huán)境下的精密制造提供符合潔凈標(biāo)準(zhǔn)的溫控保障。南通晶圓加熱盤非標(biāo)定制高精度溫控可達(dá)±1℃，滿足半導(dǎo)體等嚴(yán)苛工藝需求。

針對化學(xué)氣相沉積工藝的復(fù)雜反應(yīng)環(huán)境，國瑞熱控 CVD 電控加熱盤以多維技術(shù)創(chuàng)新**溫控難題。加熱盤內(nèi)置多區(qū)域**溫控模塊，可根據(jù)反應(yīng)腔不同區(qū)域需求實(shí)現(xiàn)差異化控溫，溫度調(diào)節(jié)范圍覆蓋室溫至 600℃，滿足各類 CVD 反應(yīng)的溫度窗口要求。采用特種絕緣材料與密封結(jié)構(gòu)設(shè)計，能耐受反應(yīng)腔內(nèi)部腐蝕性氣體侵蝕，同時具備 1500V/1min 的電氣強(qiáng)度，無擊穿閃絡(luò)風(fēng)險。搭配高精度鉑電阻傳感器，實(shí)時測溫精度達(dá) ±0.5℃，通過 PID 閉環(huán)控制確保溫度波動小于 ±1℃，為晶圓表面材料的均勻沉積與性能穩(wěn)定提供關(guān)鍵保障，適配集成電路制造的規(guī)模化生產(chǎn)需求。

針對原子層沉積工藝對溫度的嚴(yán)苛要求，國瑞熱控 ALD **加熱盤采用多分區(qū)溫控設(shè)計，通過仿真優(yōu)化加熱絲布局，確保表面溫度分布均勻性符合精密制程標(biāo)準(zhǔn)。設(shè)備溫度調(diào)節(jié)范圍覆蓋室溫至 600℃，升溫速率可達(dá) 25℃/ 分鐘，搭配鉑電阻傳感器實(shí)現(xiàn) ±0.1℃的控溫精度，滿足 ALD 工藝中前驅(qū)體吸附與反應(yīng)的溫度窗口需求。采用氮化鋁陶瓷基底與密封結(jié)構(gòu)，在真空環(huán)境下無揮發(fā)性物質(zhì)釋放，且能抵御反應(yīng)腔體內(nèi)腐蝕性氣體侵蝕。適配 8 英寸至 12 英寸晶圓規(guī)格，通過標(biāo)準(zhǔn)化接口與拓荊、中微等廠商的 ALD 設(shè)備無縫兼容，為原子層沉積的高保形性薄膜制備提供保障。遠(yuǎn)程監(jiān)控功能可選，實(shí)時掌握設(shè)備狀態(tài)，智能便捷管理。

針對半導(dǎo)體退火工藝中對溫度穩(wěn)定性的高要求，國瑞熱控退火**加熱盤采用紅外加熱與電阻加熱協(xié)同技術(shù)，實(shí)現(xiàn)均勻且快速的溫度傳遞。加熱盤主體選用低熱慣性的氮化硅陶瓷材質(zhì)，熱導(dǎo)率達(dá) 30W/mK，可在 30 秒內(nèi)將晶圓溫度提升至 900℃，且降溫過程平穩(wěn)可控，避免因溫度驟變導(dǎo)致的晶圓晶格損傷。表面噴涂耐高溫抗氧化涂層，在長期高溫退火環(huán)境下無物質(zhì)揮發(fā)，符合半導(dǎo)體潔凈生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)。配備多組溫度監(jiān)測點(diǎn)，實(shí)時反饋晶圓不同區(qū)域溫度數(shù)據(jù)，通過 PID 閉環(huán)控制系統(tǒng)動態(tài)調(diào)整加熱功率，確保溫度波動小于 ±1℃。適配離子注入后的退火、金屬硅化物形成等工藝環(huán)節(jié)，與應(yīng)用材料、東京電子等主流退火設(shè)備兼容，為半導(dǎo)體器件性能優(yōu)化提供關(guān)鍵溫控保障。多種規(guī)格形狀靈活定制，滿足特殊需求，無錫國瑞是您可靠合作伙伴。南京晶圓加熱盤廠家

多重安全保護(hù)機(jī)制，過溫過載自動防護(hù)，讓您使用更安心放心。天津加熱盤生產(chǎn)廠家

針對晶圓清洗后的烘干環(huán)節(jié)，國瑞熱控**加熱盤以潔凈高效的特性適配嚴(yán)苛需求。產(chǎn)品采用高純不銹鋼基材，表面經(jīng)電解拋光與鈍化處理，粗糙度 Ra 小于 0.2μm，減少水分子附著與雜質(zhì)殘留。加熱面采用蜂窩狀導(dǎo)熱結(jié)構(gòu)，使熱量均勻分布，晶圓表面溫度差控制在 ±2℃以內(nèi)，避免因局部過熱導(dǎo)致的晶圓翹曲。溫度調(diào)節(jié)范圍覆蓋 50℃至 150℃，支持階梯式升溫程序，適配不同清洗液的烘干需求。設(shè)備整體采用無死角結(jié)構(gòu)設(shè)計，清潔時*需用高純酒精擦拭即可，符合半導(dǎo)體制造的高潔凈標(biāo)準(zhǔn)，為清洗后晶圓的干燥質(zhì)量與后續(xù)工藝銜接提供保障。天津加熱盤生產(chǎn)廠家

無錫市國瑞熱控科技有限公司匯集了大量的優(yōu)秀人才，集企業(yè)奇思，創(chuàng)經(jīng)濟(jì)奇跡，一群有夢想有朝氣的團(tuán)隊不斷在前進(jìn)的道路上開創(chuàng)新天地，繪畫新藍(lán)圖，在江蘇省等地區(qū)的電工電氣中始終保持良好的信譽(yù)，信奉著“爭取每一個客戶不容易，失去每一個用戶很簡單”的理念，市場是企業(yè)的方向，質(zhì)量是企業(yè)的生命，在公司有效方針的領(lǐng)導(dǎo)下，全體上下，團(tuán)結(jié)一致，共同進(jìn)退，**協(xié)力把各方面工作做得更好，努力開創(chuàng)工作的新局面，公司的新高度，未來無錫市國瑞熱控科技供應(yīng)和您一起奔向更美好的未來，即使現(xiàn)在有一點(diǎn)小小的成績，也不足以驕傲，過去的種種都已成為昨日我們只有總結(jié)經(jīng)驗(yàn)，才能繼續(xù)上路，讓我們一起點(diǎn)燃新的希望，放飛新的夢想！