針對半導體濕法工藝中溶液溫度控制需求,國瑞熱控濕法**加熱盤采用耐腐蝕不銹鋼材質,經電解拋光與鈍化處理,可耐受酸堿溶液長期浸泡無腐蝕。加熱盤內置密封式加熱元件,與溶液完全隔離,避免漏電風險,同時具備 1500V/1min 的電氣強度,使用安全可靠。通過底部加熱與側面保溫設計,使溶液溫度均勻性控制在 ±1℃以內,溫度調節范圍覆蓋 25℃至 100℃,滿足濕法刻蝕、清洗等工藝的溫度要求。配備高精度溫度傳感器,實時監測溶液溫度,當溫度超出設定范圍時自動啟動加熱或冷卻調節,確保化學反應平穩進行。設備適配不同規格的濕法工藝槽體,可根據槽體尺寸定制加熱盤形狀與功率,為半導體濕法工藝的穩定性與重復性提供保障。節能環保設計理念,熱損失小效率高,助力綠色生產制造。山西高精度均溫加熱盤

面向柔性半導體基板(如聚酰亞胺基板)加工需求,國瑞熱控**加熱盤以柔性貼合設計適配彎曲基板。采用薄型不銹鋼加熱片(厚度 0.2mm)與硅膠導熱層復合結構,可隨柔性基板彎曲(彎曲半徑**小 5mm)而無結構損壞,加熱面溫度均勻性達 ±1.5℃,溫度調節范圍 50℃-250℃,適配柔性基板鍍膜、光刻膠烘烤等工藝。配備真空吸附槽道,可牢固固定柔性基板,避免加熱過程中褶皺導致的工藝缺陷。與維信諾、柔宇科技等柔性顯示廠商合作,支持柔性 OLED 驅動芯片的制程加工,為柔性電子設備的輕量化、可彎曲特性提供制程保障。山西高精度均溫加熱盤表面特殊處理,耐腐蝕易清潔,適用化學食品領域。

針對等離子體刻蝕環境的特殊性,國瑞熱控配套加熱盤采用藍寶石覆層與氮化鋁基底的復合結構,表面硬度達莫氏 9 級,可耐受等離子體長期轟擊而無材料脫落。加熱盤內部嵌入鉬制加熱絲,經后嵌工藝固定,避免高溫下電極氧化影響加熱性能,工作溫度范圍覆蓋室溫至 500℃,控溫精度 ±1℃。底部設計環形冷卻通道,與加熱元件形成熱平衡調節系統,快速響應刻蝕過程中的溫度波動。設備采用全密封結構,電氣強度達 2000V/1min,在氟基、氯基刻蝕氣體環境中絕緣性能穩定,適配中微半導體刻蝕機等主流設備,為圖形轉移工藝提供可靠溫控。
針對半導體制造中的高真空工藝需求,國瑞熱控開發**真空密封組件,確保加熱盤在真空環境下穩定運行。組件采用氟橡膠與金屬骨架復合結構,耐溫范圍覆蓋 - 50℃至 200℃,可長期在 10??Pa 真空環境下使用無泄漏。密封件與加熱盤接口精細匹配,通過多道密封設計提升真空密封性,避免反應腔體內真空度下降影響工藝質量。組件安裝過程簡單,無需特殊工具,且具備良好的耐磨性與抗老化性能,使用壽命超 5000 次拆裝循環。適配 CVD、PVD 等真空工藝用加熱盤,與國產真空設備廠商的反應腔體兼容,為半導體制造中的高真空環境提供可靠密封保障,助力提升工藝穩定性與產品良率。工業級耐用加熱盤,耐腐蝕抗沖擊,適應嚴苛工況,保障生產連續性。

國瑞熱控封裝測試**加熱盤聚焦半導體后道工藝需求,采用輕量化鋁合金材質,通過精密加工確保加熱面平整度誤差小于 0.05mm,適配不同尺寸封裝器件的測試需求。加熱元件采用片狀分布設計,熱響應速度快,可在 5 分鐘內將測試溫度穩定在 - 40℃至 150℃之間,滿足高低溫循環測試、老化測試等場景要求。表面采用防粘涂層處理,減少測試過程中污染物附著,且易于清潔維護。配備可編程溫控系統,支持自定義測試溫度曲線,可存儲 100 組以上測試參數,方便不同型號器件的測試切換。與長電科技、通富微電等封裝測試企業合作,適配其自動化測試生產線,為半導體器件可靠性驗證提供精細溫度環境,助力提升產品良率。熱場分布均勻,避免局部過熱,保護樣品質量一致。中國澳門晶圓加熱盤
表面特殊處理工藝,耐腐蝕易清潔,適用于各種復雜工作環境。山西高精度均溫加熱盤
國瑞熱控推出加熱盤節能改造方案,針對存量設備能耗高問題提供系統升級。采用石墨烯導熱涂層技術提升熱傳導效率,配合智能溫控算法優化加熱功率輸出,使單臺設備能耗降低 20% 以上。改造內容包括加熱元件更換、隔熱層升級與控制系統迭代,保留原有設備主體結構,改造成本*為新設備的 40%。升級后的加熱盤溫度響應速度提升 30%,溫度波動控制在 ±1℃以內,符合半導體行業節能標準。已為華虹半導體等企業完成 200 余臺設備改造,年節約電費超百萬元,助力半導體工廠實現綠色生產轉型。山西高精度均溫加熱盤
無錫市國瑞熱控科技有限公司在同行業領域中,一直處在一個不斷銳意進取,不斷制造創新的市場高度,多年以來致力于發展富有創新價值理念的產品標準,在江蘇省等地區的電工電氣中始終保持良好的商業口碑,成績讓我們喜悅,但不會讓我們止步,殘酷的市場磨煉了我們堅強不屈的意志,和諧溫馨的工作環境,富有營養的公司土壤滋養著我們不斷開拓創新,勇于進取的無限潛力,無錫市國瑞熱控科技供應攜手大家一起走向共同輝煌的未來,回首過去,我們不會因為取得了一點點成績而沾沾自喜,相反的是面對競爭越來越激烈的市場氛圍,我們更要明確自己的不足,做好迎接新挑戰的準備,要不畏困難,激流勇進,以一個更嶄新的精神面貌迎接大家,共同走向輝煌回來!