帶通濾光片只允許光譜帶中的一段通過，而其他部分全部被濾掉,按照它們結構的不同可分為法布里-珀羅型濾光片、多腔濾光片和誘增透濾光片。法布里－珀羅型濾光片的結構與法－珀標準具（見法布里－珀**涉儀）相同，因為由它獲得的透過光譜帶都比較窄，所以又叫窄帶干涉濾光片。這種濾光片的透過率對薄膜的損耗非常敏感，所以制備透過率很高、半寬度又很窄的濾光片是很困難的。多腔濾光片又叫矩形濾光片，它可以做窄帶帶通濾光片，又可以做寬帶帶通濾光片，制備波區較寬，透過率高，波紋小的多腔濾光片同樣是困難的具有以上結構的膜系稱為對稱周期膜系。崇川區國內光學膜廠家直銷

光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。 [1鍍膜是用物理或化學的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。在可見光和紅外線波段范圍內，大多數金屬的反射率都可達到78%~98%，但不可高于98%。無論是對于CO2激光，采用銅、鉬、硅、鍺等來制作反射鏡，采用鍺、砷化鎵、硒化鋅作為輸出窗口和透射光學元件材料，還是對于YAG激光采用普通光學玻璃作為反射鏡、輸出鏡和透射光學元件材料，都不能達到全反射鏡的99%以上要求。不同應用時輸出鏡有不同透過率的要求，因此必須采用光學鍍膜方法。崇川區放心選光學膜廠家供應；采用高反射比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高；利用光學薄膜可提高硅光電池的效率和穩定性。

在太陽能電池中的應用硅材料是一種半導體材料，太陽能電池發電原理主要就是利用這種半導體的光電效應。硅折射率很大，照射到硅表面的光不能充分被吸收，而是很大一部分被反射掉，為了比較大限度地減少反射損失，可采用在電池上鍍一層或多層折射率和厚度與電池匹配的減反射膜來提高電池的轉化效率過鍍減反射膜膜可增加光的透過率，從而提高電池的效率，多孔二氧化硅減反射膜不僅使電池的轉化效率提高了5% ～6%，而且還可以提高基體的抗裂強度；氮化硅減反射膜使電池的轉化效率提高到16．7%，薄膜致密性好且能夠鈍化硅片表面的缺陷；二氧化鈦和氧化鋯減反射膜能提高玻璃基體的抗堿性能和防水防潮性能。

Dike鋁箔隔熱卷材的太陽輻射吸收系數（法向全輻射放射率）0.07，放射熱量很少。被廣泛應用于屋面與墻體的隔熱保溫。熱能傳播路線（不加隔熱膜）：太陽——紅外線磁波——熱能撞擊瓦片使溫度升高——瓦片成為熱源放射出熱能——熱能撞擊現澆屋面使溫度升高——現澆屋面成為熱源放射出熱能——室內環境溫度持續升高熱能傳播路線（加隔熱膜）：太陽——紅外線磁波——熱能撞擊瓦片使溫度升高——瓦片成為熱源放射出熱能——熱能撞擊鋁箔使表面溫度升高——鋁箔放射率極低，放射少量熱能——室內保持舒適的環境溫度激光反射膜的反射率雖然已超過99.9%，但有一些工作還要求它的反射率繼續提高。

填充密度定義為薄膜固體部分的體積與薄膜的總體積(包括空隙和微孔)之比。對于光學薄膜，填充密度通常為0.75～**部分為0.85～0.95，很少達到1.0。小于l的填充密度使所蒸發材料的折射率低于其塊料的折射率。在沉積過程中，每一層的厚度均由光學或石英晶體監控。這兩種技術各有優缺點，這里不作討論。其共同點是材料蒸發時它們均在真空中使用，因而，折射率是蒸發材料在真空中的折射率，而不是暴露于潮濕空氣中的材料折射率。薄膜吸收的潮氣取代微孔和空隙，造成薄膜的折射率升高。由于薄膜的物理厚度保持不變，這種折射率升高伴有相應的光學厚度的增加，反過來造成薄膜光譜特性向長波方向的漂移。為了減小由膜層內微孔的體積和數量所引起的這種光譜漂移，采用高能離子以將其動量傳遞給正在蒸發的材料原子，從而**增加材料原子在基底表面處凝結期間的遷移率。 [3]例如采用減反射膜后可使復雜的光學鏡頭的光通量損失成十倍地減小；崇川區國內光學膜廠家直銷

常用的保護膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。崇川區國內光學膜廠家直銷

◆ 光學薄膜可分為“幾何光學和物理光學”，幾何光學是通過光學器件表面形成的幾何狀的介質膜層，以使改變光路經來實現光束的調整或再分配作用；物理光學是將自然界中特有的光學材料元素通過納米處理至所需的光學器件表面形成的介質膜層，透過介質膜層的光學材料元素的特性增強於改變光偏振，透射，反射等功能。◆ 通常光學薄膜的制備條件要求高而精，制備光學薄膜分干式制備法和濕式制備法，干式制備法（ 含真空鍍膜：蒸發鍍，磁控濺鍍，離子鍍等）一般用於物理光學薄膜的制備，濕式制備法（含涂布法， 流延法，熱塑法等）一般用於幾何光學薄膜的制備。崇川區國內光學膜廠家直銷

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