主要內容一類重要的光學元件。這一領域主要有以下幾方面的內容：① 薄膜的光學性質、力學性質以及其他有關性質的研究;② 薄膜的生長、薄膜的結構以及它們對薄膜性質的影響；③光學薄膜元件的設計、制備及其性能的測試等。◆ 光學薄膜的應用無處不在，從眼鏡鍍膜到手機，電腦，電視的液晶顯示再到LED照明等等，它充斥著我們生活的方方面面，并使我們的生活更加豐富多彩。◆ 光學薄膜的定義是：涉及光在傳播路徑過程中，附著在光學器件表面的厚度薄而均勻的介質膜層，通過分層介質膜層時的反射、透（折）射和偏振等特性，以達到我們想要的在某一或是多個波段范圍內的光的全部透過或光的全部反射或是光的偏振分離等各特殊形態的光。人們總是選擇消光系數較大，光學性質較穩定的那些金屬作為金屬膜材料。如東國內光學膜供應商

填充密度定義為薄膜固體部分的體積與薄膜的總體積(包括空隙和微孔)之比。對于光學薄膜，填充密度通常為0.75～**部分為0.85～0.95，很少達到1.0。小于l的填充密度使所蒸發材料的折射率低于其塊料的折射率。在沉積過程中，每一層的厚度均由光學或石英晶體監控。這兩種技術各有優缺點，這里不作討論。其共同點是材料蒸發時它們均在真空中使用，因而，折射率是蒸發材料在真空中的折射率，而不是暴露于潮濕空氣中的材料折射率。薄膜吸收的潮氣取代微孔和空隙，造成薄膜的折射率升高。由于薄膜的物理厚度保持不變，這種折射率升高伴有相應的光學厚度的增加，反過來造成薄膜光譜特性向長波方向的漂移。為了減小由膜層內微孔的體積和數量所引起的這種光譜漂移，采用高能離子以將其動量傳遞給正在蒸發的材料原子，從而**增加材料原子在基底表面處凝結期間的遷移率。 [3]南通本地光學膜均價常見的是金屬鏡面的保護膜。

對于CO2激光燈中紅外線波段，常用的鍍膜材料有氟化釔、氟化鐠、鍺等；對于YAG激光燈近紅外波段或可見光波段，常用的鍍膜材料有硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯等。除了高反膜、增透膜之外，還可以鍍對某波長增反射、對另一波長增透射的特殊膜，如激光倍頻技術中的分光膜等。光的干涉在薄膜光學中廣泛應用。光學薄膜技術的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜，一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率，以滿足不同的需要。為了消除光學零件表面的反射損失，提高成像質量，涂鍍一層或多層透明介質膜，稱為增透膜或減反射膜。隨著激光技術的發展，對膜層的反射率和透過率有不同的要求，促進了多層高反射膜和寬帶增透膜的發展。為各種應用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉濾光片等。

熱電阻式、電子槍式和濺射方式。**普通的方式為熱電阻式，是將蒸鍍材料在真空蒸鍍機內置於電阻絲或片上，在高真空的情況下，加熱使材料成為蒸氣，直接鍍於鏡片上。由於有許多高熔點的材料，不易使用此種方式使之熔化、蒸鍍。而以電子槍改進此缺點，其方法是以高壓電子束直接打擊材料，由於能量集中可以蒸鍍高熔點的材料。另一方式為濺射方式，是以高壓使惰性氣體離子化，打擊材料使之直接濺射至鏡片，以此方式所作薄漠的附著力比較好常見的干涉濾光片是截止濾光片和帶通濾光片。

光學功能膜由分層介質構成，通過界面傳播實現光束調控，包括偏振片和相位差補償膜。其中偏振片通過選擇性透過特定偏振方向光波，相位差補償膜則用于修正光程差，二者是液晶顯示器實現顯像功能的關鍵組件 [1-2]。基礎研究階段（19世紀初-20世紀初）德國、美國科學家建立光學薄膜基礎理論體系，促成減反射膜等初期產品問世 [1]。2.工業化應用階段（20世紀30年代-90年代）真空鍍膜技術突破推動產品實用化，逐步應用于攝影鏡頭、顯微鏡等光學儀器 [1]。可以是透明介質，也可以是吸收介質；可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的。海門區國內光學膜操作

根據一定的要求和一定的方式把光束分成兩部分的薄膜。如東國內光學膜供應商

金屬反射膜的優點是制備工藝簡單，工作的波長范圍寬；缺點是光損大，反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進一步提高，可以在膜的外側加鍍幾層一定厚度的電介質層，組成金屬電介質反射膜。需要指出的是，金屬電介質射膜增加了某一波長（或者某一波區）的反射率，卻破壞了金屬膜中性反射的特點。全電介質反射膜是建立在多光束干涉基礎上的。與增透膜相反，在光學表面上鍍一層折射率高于基體材料的薄膜，就可以增加光學表面的反射率。**簡單的多層反射是由高、低折射率的二種材料交替蒸鍍而成的,每層膜的光學厚度為某一波長的四分一。在這種條件下，參加疊加的各界面上的反射光矢量，振動方向相同。合成振幅隨著薄膜層數的增加而增加。如東國內光學膜供應商

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