2.利用光波干涉原理,在鏡片的表面鍍上一層薄膜,厚度為1/4 波長的光學厚度,使光線不再只被玻璃—空氣界面反射,而是空氣—薄膜、薄膜—玻璃二個界面反射,因此產生干涉現象,可使反射光減少。若鍍二層的抗反射膜,使反射率更低,但是鍍一層或二層都有缺點:低反射率的波帶不移寬,不能在可見光范圍都達到低反射率。1961年Cox、Hass和 Thelen三位首先發表以1/4一1/2一1/4波長光學厚度作三層抗反射膜可以得到寬波帶低反射率的抗反射膜。多層抗反射膜除了寬波帶的,也可做到窄波帶的。也就是針對其一波長如氨氟雷射632.8nm波長,要求極高的透射,可使63Z.8nm這一波長透射率高達99.8%以上,用之於雷射儀器。但若需要對某一波長的光線有看極高的反射率需要用高低不同折射系數的材料反覆蒸鍍數十層才可達到此效果特別在紫外區,一般電介質材料吸收都比較大的情況下,它的優越性就更明顯了。如東名優光學膜廠家直銷

a.金屬膜:主要是作為反射鏡和半反射鏡用。在各種平面或曲面反射鏡,或各式稜鏡等,都可依所需鍍上Al、Ag、Au、Cu等 各種不同的材料。不同的材料在光譜上有不同的特性。AI的反射率在紫外光、可見光、近紅外光有良好的反射率,是鍍反射鏡**常使用的材料之一。Ag膜在可見光和近紅外光部份的反射率比AI膜更高,但因其易氧化而失去光澤,只能短暫的維持高反射率,所以只能用在內層反射用,或另加保護膜。b.非金屬膜:鋁是從紫外區到紅外區都具有很高反射率的***材料,同時鋁膜表面在大氣中能生成一層薄的氧化鋁(Al2O3),所以膜層比較牢固、穩定。如東智能光學膜廠家供應主要的光學薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等。

雖然薄膜的光學現象早在17世紀就為人們所注意,但是把光學薄膜作為一個課題進行專門研究卻開始于20世紀30年代以后,這主要因為真空技術的發展給各種光學薄膜的制備提供了先決條件。時至***,光學薄膜已得到很大發展,光學薄膜的生產已逐步走向系列化、程序化和專業化,但是,在光學薄膜的研究中還有不少問題有待進一步解決,光學薄膜現有的水平在不少工作中還不能滿足要求,需要提高。在理論上,不但薄膜的生長機理需要搞清,而且薄膜的光學理論,特別是應用于極短波段的光學理論也有待進一步完善和改進。
由于上述原因,鋁膜的應用非常***。銀膜在可見光區和紅外區都有很高的反射率,而且在傾斜使用時引人的偏振效應也**小。但是蒸發的銀膜用作前表面鏡鍍層時卻因下列兩個原因受到嚴重限制:它與玻璃基片的豁附性很差;同時易受到硫化物的影響而失去光澤。曾試圖使用蒸發的一氧化硅或氟化鎂作為保護膜,但由于它們與銀的赫附性很差,沒有獲得成功。所以通常*用于短期作用的場合或作為后表面鏡的鍍層。金膜在紅外區的反射率很高,它的強度和穩定性比銀膜好,所以常用它作為紅外反射鏡。金膜與玻璃基片的附著性較差,為此常用鉻膜作為襯底層。如果在金膜的淀積過程中,輔之以離子束轟擊,則可顯著提高金膜與基片的附著力。光強分光膜是按照一定的光強比把光束分成兩部分的薄膜,這種薄膜有時考慮某一波長,叫做單色分光膜;

金屬反射膜的優點是制備工藝簡單,工作的波長范圍寬;缺點是光損大,反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進一步提高,可以在膜的外側加鍍幾層一定厚度的電介質層,組成金屬電介質反射膜。需要指出的是,金屬電介質射膜增加了某一波長(或者某一波區)的反射率,卻破壞了金屬膜中性反射的特點。全電介質反射膜是建立在多光束干涉基礎上的。與增透膜相反,在光學表面上鍍一層折射率高于基體材料的薄膜,就可以增加光學表面的反射率。**簡單的多層反射是由高、低折射率的二種材料交替蒸鍍而成的,每層膜的光學厚度為某一波長的四分一。在這種條件下,參加疊加的各界面上的反射光矢量,振動方向相同。合成振幅隨著薄膜層數的增加而增加。由薄的分層介質構成的,通過界面傳播光束的一類光學介質材料。如東名優光學膜廠家直銷
光學增透膜沉積在光學元件表面,用以減少表面反射,增加光學系統透射,又稱減反射膜。如東名優光學膜廠家直銷
誘增透濾光片是在金屬膜兩邊匹配以適當的電介質膜系,以增加勢透過率,減少反射,使通帶透過率增加的一類濾光片。雖然它的通帶性能不如全電介質法-珀濾光片,卻有著很寬的截止特性,所以還是有很大的應用價值。特別在紫外區,一般電介質材料吸收都比較大的情況下,它的優越性就更明顯了。圖3的a、b、c分別給出法布里-珀羅型濾光片、多腔濾光片和誘增透濾光片的典型曲線。分光膜根據一定的要求和一定的方式把光束分成兩部分的薄膜。分光膜主要包括波長分光膜、光強分光膜和偏振分光膜等幾類。如東名優光學膜廠家直銷
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