光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。 [1鍍膜是用物理或化學的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。在可見光和紅外線波段范圍內，大多數金屬的反射率都可達到78%~98%，但不可高于98%。無論是對于CO2激光，采用銅、鉬、硅、鍺等來制作反射鏡，采用鍺、砷化鎵、硒化鋅作為輸出窗口和透射光學元件材料，還是對于YAG激光采用普通光學玻璃作為反射鏡、輸出鏡和透射光學元件材料，都不能達到全反射鏡的99%以上要求。不同應用時輸出鏡有不同透過率的要求，因此必須采用光學鍍膜方法。簡單的光學薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質薄層。海安智能光學膜供應商

波長分光膜又叫雙色分光膜，顧名思義它是按波長區域把光束分成兩部分的薄膜。這種膜可以是一種截止濾光片或帶通濾光片，所不同的是，波長分光膜不僅要考慮透過光而且要考慮反射光，二者都要求有一定形狀的光譜曲線。波長分光膜通常在一定入射角下使用，在這種情況下,由于偏振的影響，光譜曲線會發生畸變,為了克服這種影響，必須考慮薄膜的消偏振問題。光學薄膜光強分光膜是按照一定的光強比把光束分成兩部分的薄膜，這種薄膜有時*考慮某一波長，叫做單色分光膜；有時需要考慮一個光譜區域叫做寬帶分光膜；用于可見光的寬帶分光膜，又叫做中性分光膜。這種膜也常在斜入射下應用，由于偏振的影響，二束光的偏振狀態可以相差很多,在有些工作中，可以不考慮這種差別,但在另一些工作中（例如某些干涉儀），則要求兩束光都是消偏振的，這就需要設計和制備消偏振膜。南通挑選光學膜批量定制實際應用的薄膜要比理想薄膜復雜得多。

一般情況下，采用單層增透膜很難達到理想的增透效果,為了在單波長實現零反射,或在較寬的光譜區達到好的增透效果，往往采用雙層、三層甚至更多層數的減反射膜。圖1的a、b、c分別繪出Kg玻璃表面的單層、雙層和三層增透膜的剩余反射曲線。減反射膜是應用**廣、產量比較大的一種光學薄膜，因此，它至今仍是光學薄膜技術中重要的研究課題，研究的重點是尋找新材料，設計新膜系,改進淀積工藝,使之用**少的層數，**簡單、**穩定的工藝，獲得盡可能高的成品率，達到**理想的效果。對激光薄膜來說，減反射膜是激光損傷的薄弱環節，如何提高它的破壞強度，也是人們**關心的問題之一。

圖19.12示出裝配在高真空鍍膜機基板上的硬件布局。兩個電子槍源位于基板兩邊，周圍是環形罩并被擋板覆蓋。離子源位于中間，光控窗口在離子源的前方。圖19.13示出真空室的頂部，真空室里有含6個圓形夾具的行星系統。夾具用于放置被鍍膜的光學元件。使用行星系統是保證被蒸發材料在夾具區域內均勻分布的優先方法。夾具繞公共軸旋轉，同時繞其自身軸旋轉。光控和晶控處于行星驅動機械裝置的中部，驅動軸遮擋晶控。背面的大開口通向附加的高真空泵?；准訜嵯到y由4個石英燈組成，真空室的兩邊各兩個。常見的是金屬鏡面的保護膜。

01:21長步道工業光學|鏡頭鏡片的鍍膜工藝居然需要納米級的工藝光學零件表面鍍膜后，光在膜層層上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜層的折射率和厚度，可以得到不同的強度分布，這是干涉鍍膜的基本原理。光學薄膜在高真空度的鍍膜腔中實現。常規鍍膜工藝要求升高基底溫度(通常約為300℃)；而較先進的技術，如離子輔助沉積(IAD)可在室溫下進行。IAD工藝不但生產比常規鍍膜工藝具有更好物理特性的薄膜，而且可以應用于塑料制成的基底。圖19.11展示一個操作者正在光學鍍膜機前。抽真空主系統由兩個低溫泵組成。電子束蒸發、IAD沉積、光控、加熱器控制、抽真空控制和自動過程控制的控制模塊都在鍍膜機的前面板上。人們總是選擇消光系數較大，光學性質較穩定的那些金屬作為金屬膜材料。連云港品牌光學膜私人定做

例如采用減反射膜后可使復雜的光學鏡頭的光通量損失成十倍地減??；海安智能光學膜供應商

在紫外區常用的金屬薄膜材料是鋁，在可見光區常用鋁和銀，在紅外區常用金、銀和銅，此外，鉻和鉑也常用作一些特種薄膜的膜料。由于鋁、銀、銅等材料在空氣中很容易氧化而降低性能，所以必須用電介質膜加以保護。常用的保護膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。金屬反射膜的優點是制備工藝簡單，工作的波長范圍寬；缺點是光損耗大，反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進一步提高，可以在膜的外側加鍍幾層一定厚度的電介質層，組成金屬電介質反射膜。海安智能光學膜供應商

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