反射膜光學(xué)薄膜它的功能是增加光學(xué)表面的反射率。反射膜一般可分為兩大類(lèi)，一類(lèi)是金屬反射膜，一類(lèi)是全電介質(zhì)反射膜。此外，還有把兩者結(jié)合起來(lái)的金屬電介質(zhì)反射膜。一般金屬都具有較大的消光系數(shù)，當(dāng)光束由空氣入射到金屬表面時(shí)，進(jìn)入金屬內(nèi)部的光振幅迅速衰減，使得進(jìn)入金屬內(nèi)部的光能相應(yīng)減少，而反射光能增加。消光系數(shù)越大，光振幅衰減越迅速，進(jìn)入金屬內(nèi)部的光能越少，反射率越高。人們總是選擇消光系數(shù)較大，光學(xué)性質(zhì)較穩(wěn)定的那些金屬作為金屬膜材料。常見(jiàn)的干涉濾光片是截止濾光片和帶通濾光片。如皋國(guó)內(nèi)光學(xué)膜銷(xiāo)售

薄膜沉積的傳統(tǒng)方法一直是熱蒸發(fā)，或采用電阻加熱蒸發(fā)源或采用電子束蒸發(fā)源。薄膜特性主要決定于沉積原子的能量，傳統(tǒng)蒸發(fā)中原子的能量*約0.1eV。IAD沉積導(dǎo)致電離化蒸汽的直接沉積并且給正在生長(zhǎng)的膜增加活化能，通常為50eV量級(jí)。離子源將束流從離子***指向基底表面和正在生長(zhǎng)的薄膜來(lái)改善傳統(tǒng)電子束蒸發(fā)的薄膜特性。薄膜的光學(xué)性質(zhì)，如折射率、吸收和激光損傷閾值，主要依賴(lài)于膜層的顯微結(jié)構(gòu)。薄膜材料、殘余氣壓和基底溫度都可能影響薄膜的顯微結(jié)構(gòu)。如果蒸發(fā)沉積的原子在基底表面的遷移率低，則薄膜會(huì)含有微孔。當(dāng)薄膜暴露于潮濕的空氣時(shí)，這些微孔逐漸被水汽所填充。 [3通州區(qū)品牌光學(xué)膜安裝常見(jiàn)的是金屬鏡面的保護(hù)膜。

在太陽(yáng)能電池中的應(yīng)用硅材料是一種半導(dǎo)體材料，太陽(yáng)能電池發(fā)電原理主要就是利用這種半導(dǎo)體的光電效應(yīng)。硅折射率很大，照射到硅表面的光不能充分被吸收，而是很大一部分被反射掉，為了比較大限度地減少反射損失，可采用在電池上鍍一層或多層折射率和厚度與電池匹配的減反射膜來(lái)提高電池的轉(zhuǎn)化效率過(guò)鍍減反射膜膜可增加光的透過(guò)率，從而提高電池的效率，多孔二氧化硅減反射膜不僅使電池的轉(zhuǎn)化效率提高了5% ～6%，而且還可以提高基體的抗裂強(qiáng)度；氮化硅減反射膜使電池的轉(zhuǎn)化效率提高到16．7%，薄膜致密性好且能夠鈍化硅片表面的缺陷；二氧化鈦和氧化鋯減反射膜能提高玻璃基體的抗堿性能和防水防潮性能。

圖19.12示出裝配在高真空鍍膜機(jī)基板上的硬件布局。兩個(gè)電子槍源位于基板兩邊，周?chē)黔h(huán)形罩并被擋板覆蓋。離子源位于中間，光控窗口在離子源的前方。圖19.13示出真空室的頂部，真空室里有含6個(gè)圓形夾具的行星系統(tǒng)。夾具用于放置被鍍膜的光學(xué)元件。使用行星系統(tǒng)是保證被蒸發(fā)材料在夾具區(qū)域內(nèi)均勻分布的優(yōu)先方法。夾具繞公共軸旋轉(zhuǎn)，同時(shí)繞其自身軸旋轉(zhuǎn)。光控和晶控處于行星驅(qū)動(dòng)機(jī)械裝置的中部，驅(qū)動(dòng)軸遮擋晶控。背面的大開(kāi)口通向附加的高真空泵。基底加熱系統(tǒng)由4個(gè)石英燈組成，真空室的兩邊各兩個(gè)。一般高反射膜，隨著入射角的增大，垂直分量的反射帶寬逐漸增大，而平行分量的帶寬逐漸減少。

由薄的分層介質(zhì)構(gòu)成的，通過(guò)界面?zhèn)鞑ス馐囊活?lèi)光學(xué)介質(zhì)材料。光學(xué)薄膜的應(yīng)用始于20世紀(jì)30年代。現(xiàn)代，光學(xué)薄膜已***用于光學(xué)和光電子技術(shù)領(lǐng)域，制造各種光學(xué)儀器。主要的光學(xué)薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等。它們?cè)趪?guó)民經(jīng)濟(jì)和**建設(shè)中得到了廣泛的應(yīng)用，獲得了科學(xué)技術(shù)工作者的日益重視。例如采用減反射膜后可使復(fù)雜的光學(xué)鏡頭的光通量損失成十倍地減小；采用高反射比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高；利用光學(xué)薄膜可提高硅光電池的效率和穩(wěn)定性。光學(xué)薄膜按應(yīng)用分為反射膜、增透膜、濾光膜、光學(xué)保護(hù)膜、偏振膜、分光膜和位相膜。海門(mén)區(qū)國(guó)內(nèi)光學(xué)膜操作

它的主要功能是分割光譜帶。如皋國(guó)內(nèi)光學(xué)膜銷(xiāo)售

原則上說(shuō)，全電介質(zhì)反射膜的反射率可以無(wú)限接近于1，但是薄膜的散射、吸收損耗限制了薄膜反射率的提高。迄今為止，質(zhì)量激光反射膜的反射率雖然已超過(guò)99.9%，但有一些工作還要求它的反射率繼續(xù)提高。應(yīng)用于強(qiáng)激光系統(tǒng)的反射膜，則更強(qiáng)調(diào)它的抗激光強(qiáng)度，圍繞提高這類(lèi)薄膜的抗激光強(qiáng)度所開(kāi)展的工作，使這類(lèi)薄膜的研究更加深入。干涉濾光片是種類(lèi)**多、結(jié)構(gòu)復(fù)雜的一類(lèi)光學(xué)薄膜。它的主要功能是分割光譜帶。最常見(jiàn)的干涉濾光片是截止濾光片和帶通濾光片。截止濾光片可以把所考慮的光譜區(qū)分成兩部分，一部分不允許光通過(guò)（稱(chēng)為截止區(qū)），另一部分要求光充分通過(guò)（稱(chēng)為帶通區(qū)）。按照通帶在光譜區(qū)的位置又可分為長(zhǎng)波通和短波通二種，它們**簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)分別為，這里H、L分別表示厚的高、低折射率層，m為周期數(shù)。具有以上結(jié)構(gòu)的膜系稱(chēng)為對(duì)稱(chēng)周期膜系。如果所考慮的光譜區(qū)很寬或通帶透過(guò)率的波紋要求很高，膜系結(jié)構(gòu)會(huì)更加復(fù)雜。如皋國(guó)內(nèi)光學(xué)膜銷(xiāo)售

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