光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過程。在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達(dá)到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學(xué)鍍膜。 [1鍍膜是用物理或化學(xué)的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質(zhì)膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。在可見光和紅外線波段范圍內(nèi)，大多數(shù)金屬的反射率都可達(dá)到78%~98%，但不可高于98%。無論是對于CO2激光，采用銅、鉬、硅、鍺等來制作反射鏡，采用鍺、砷化鎵、硒化鋅作為輸出窗口和透射光學(xué)元件材料，還是對于YAG激光采用普通光學(xué)玻璃作為反射鏡、輸出鏡和透射光學(xué)元件材料，都不能達(dá)到全反射鏡的99%以上要求。不同應(yīng)用時輸出鏡有不同透過率的要求，因此必須采用光學(xué)鍍膜方法。主要的光學(xué)薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等。海門區(qū)質(zhì)量光學(xué)膜維保

光學(xué)薄膜的簡單模型可以用來研究其反射、透射、位相變化和偏振等一般性質(zhì)。如果要研究光學(xué)薄膜的損耗、損傷以及穩(wěn)定性等特殊性質(zhì)，簡單模型便無能為力了，這時必須考慮薄膜的結(jié)晶構(gòu)造、體內(nèi)結(jié)構(gòu)和表面狀態(tài)，薄膜的各向異性和不均勻性，薄膜的化學(xué)成分、表面污染和界面擴(kuò)散等等。考慮到這些因素后，那就不僅要考慮它的光學(xué)性質(zhì)，還要研究它的物理性質(zhì)、化學(xué)性質(zhì)、力學(xué)性質(zhì)和表面性質(zhì)，以及各種性質(zhì)之間的滲透和影響。因此光學(xué)薄膜的研究就躍出光學(xué)范疇而成為物理、化學(xué)、固體和表面物理的邊緣學(xué)科。如皋智能光學(xué)膜操作為了使金屬反射膜的反射率進(jìn)一步提高，可以在膜的外側(cè)加鍍幾層一定厚度的電介質(zhì)層，組成金屬電介質(zhì)反射膜。

在紫外區(qū)常用的金屬薄膜材料是鋁，在可見光區(qū)常用鋁和銀，在紅外區(qū)常用金、銀和銅，此外，鉻和鉑也常用作一些特種薄膜的膜料。由于鋁、銀、銅等材料在空氣中很容易氧化而降低性能，所以必須用電介質(zhì)膜加以保護(hù)。常用的保護(hù)膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。金屬反射膜的優(yōu)點(diǎn)是制備工藝簡單，工作的波長范圍寬；缺點(diǎn)是光損耗大，反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進(jìn)一步提高，可以在膜的外側(cè)加鍍幾層一定厚度的電介質(zhì)層，組成金屬電介質(zhì)反射膜。

圖19.12示出裝配在高真空鍍膜機(jī)基板上的硬件布局。兩個電子槍源位于基板兩邊，周圍是環(huán)形罩并被擋板覆蓋。離子源位于中間，光控窗口在離子源的前方。圖19.13示出真空室的頂部，真空室里有含6個圓形夾具的行星系統(tǒng)。夾具用于放置被鍍膜的光學(xué)元件。使用行星系統(tǒng)是保證被蒸發(fā)材料在夾具區(qū)域內(nèi)均勻分布的優(yōu)先方法。夾具繞公共軸旋轉(zhuǎn)，同時繞其自身軸旋轉(zhuǎn)。光控和晶控處于行星驅(qū)動機(jī)械裝置的中部，驅(qū)動軸遮擋晶控。背面的大開口通向附加的高真空泵。基底加熱系統(tǒng)由4個石英燈組成，真空室的兩邊各兩個。常見的干涉濾光片是截止濾光片和帶通濾光片。

原則上說，全電介質(zhì)反射膜的反射率可以無限接近于1，但是薄膜的散射、吸收損耗限制了薄膜反射率的提高。迄今為止，質(zhì)量激光反射膜的反射率雖然已超過99.9%，但有一些工作還要求它的反射率繼續(xù)提高。應(yīng)用于強(qiáng)激光系統(tǒng)的反射膜，則更強(qiáng)調(diào)它的抗激光強(qiáng)度，圍繞提高這類薄膜的抗激光強(qiáng)度所開展的工作，使這類薄膜的研究更加深入。干涉濾光片是種類**多、結(jié)構(gòu)復(fù)雜的一類光學(xué)薄膜。它的主要功能是分割光譜帶。最常見的干涉濾光片是截止濾光片和帶通濾光片。截止濾光片可以把所考慮的光譜區(qū)分成兩部分，一部分不允許光通過（稱為截止區(qū)），另一部分要求光充分通過（稱為帶通區(qū)）。按照通帶在光譜區(qū)的位置又可分為長波通和短波通二種，它們**簡單的結(jié)構(gòu)分別為，這里H、L分別表示厚的高、低折射率層，m為周期數(shù)。具有以上結(jié)構(gòu)的膜系稱為對稱周期膜系。如果所考慮的光譜區(qū)很寬或通帶透過率的波紋要求很高，膜系結(jié)構(gòu)會更加復(fù)雜。根據(jù)一定的要求和一定的方式把光束分成兩部分的薄膜。如皋智能光學(xué)膜操作

常用的保護(hù)膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。海門區(qū)質(zhì)量光學(xué)膜維保

薄膜沉積的傳統(tǒng)方法一直是熱蒸發(fā)，或采用電阻加熱蒸發(fā)源或采用電子束蒸發(fā)源。薄膜特性主要決定于沉積原子的能量，傳統(tǒng)蒸發(fā)中原子的能量*約0.1eV。IAD沉積導(dǎo)致電離化蒸汽的直接沉積并且給正在生長的膜增加活化能，通常為50eV量級。離子源將束流從離子***指向基底表面和正在生長的薄膜來改善傳統(tǒng)電子束蒸發(fā)的薄膜特性。薄膜的光學(xué)性質(zhì)，如折射率、吸收和激光損傷閾值，主要依賴于膜層的顯微結(jié)構(gòu)。薄膜材料、殘余氣壓和基底溫度都可能影響薄膜的顯微結(jié)構(gòu)。如果蒸發(fā)沉積的原子在基底表面的遷移率低，則薄膜會含有微孔。當(dāng)薄膜暴露于潮濕的空氣時，這些微孔逐漸被水汽所填充。 [3海門區(qū)質(zhì)量光學(xué)膜維保

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