光學薄膜指通過物理化學方法在光學器件表面沉積的膜系，利用光的干涉效應改變光學特性，實現(xiàn)增透、反射、分光等功能。其應用始于20世紀30年代，現(xiàn)***用于光學及光電子領域。按功能可分為增透膜、高反膜、濾光膜等類型，材料分為金屬膜（如鋁、銀、金）和非金屬膜兩類，金屬膜常用于反射鏡，非金屬膜因穩(wěn)定性高而應用更廣。光學薄膜通過控制膜層折射率與厚度實現(xiàn)光波干涉，單層膜可減少反射光，多層組合可擴展低反射率波帶。1961年，三層抗反射膜技術的提出***提升了寬波帶性能。制造技術包括熱電阻蒸鍍、電子束蒸發(fā)和濺射法，其中濺射法附著力比較好。隨著光電產(chǎn)業(yè)發(fā)展，光學薄膜在通訊、顯示、存儲等領域成為關鍵組件，如投影設備、光通訊濾波片等，其技術進步直接影響現(xiàn)代光學儀器的性能演進。在這種情況下，可以用光的干涉理論來研究光學薄膜的光學性質(zhì)。海門區(qū)智能光學膜服務電話

在太陽能電池中的應用硅材料是一種半導體材料，太陽能電池發(fā)電原理主要就是利用這種半導體的光電效應。硅折射率很大，照射到硅表面的光不能充分被吸收，而是很大一部分被反射掉，為了比較大限度地減少反射損失，可采用在電池上鍍一層或多層折射率和厚度與電池匹配的減反射膜來提高電池的轉化效率過鍍減反射膜膜可增加光的透過率，從而提高電池的效率，多孔二氧化硅減反射膜不僅使電池的轉化效率提高了5% ～6%，而且還可以提高基體的抗裂強度；氮化硅減反射膜使電池的轉化效率提高到16．7%，薄膜致密性好且能夠鈍化硅片表面的缺陷；二氧化鈦和氧化鋯減反射膜能提高玻璃基體的抗堿性能和防水防潮性能。如東挑選光學膜按需定制根據(jù)一定的要求和一定的方式把光束分成兩部分的薄膜。

根據(jù)電磁學的基本理論里，提到對于不同介質(zhì)的透射與反射。若是由介質(zhì) n1垂直入射至 n2反射率=[ (n2－n1) / (n1+n2) ]^2穿透率=4n1n2 / (n1+n2)^2范例講解：若是空氣的折射率是 1.0 ，鍍膜的折射率nc (例如：1.5) ，玻璃的折射率n (例如：1.8)（1）由空氣直接進入玻璃穿透率= 4×1.0×1.8 / ( 1+1.8 )2=91.84%（2）由空氣進入鍍膜后再進入玻璃穿透率=[ 4×1.0×1.5 / ( 1+1.5 )2] × [ 4×1.5×1.8 / ( 1.5+1.8 )2]=95.2%可見有鍍膜的玻璃會增加透光度。此外由此公式，我們可以計算光線穿透鏡片的兩面，發(fā)現(xiàn)即使一片完美的透鏡（折射率1.8），其透光度約為85%左右。若加上一層鍍膜（折射率1.5），則透光度可達91%。可見光學鍍膜的重要性。

在許多復雜的光學系統(tǒng)里，反射光的抑制是十分重要的功課。因此一組鏡片之間，會利用不同的鍍膜厚度來消去不同頻率的反射光。所以越高級的光學系統(tǒng)，發(fā)現(xiàn)反射光的顏色也會越多。常見的光學鍍膜材料有以下幾種：1、氟化鎂材料特點：無色四方晶系粉末，純度高，用其制備光學鍍膜可提高透過率，不出崩點。2、二氧化硅材料特點：無色透明晶體，熔點高，硬度大，化學穩(wěn)定性好。純度高，用其制備高質(zhì)量Si02鍍膜，蒸發(fā)狀態(tài)好，不出現(xiàn)崩點。按使用要求分為紫外、紅外及可見光用。光學薄膜按應用分為反射膜、增透膜、濾光膜、光學保護膜、偏振膜、分光膜和位相膜。

波長分光膜又叫雙色分光膜，顧名思義它是按波長區(qū)域把光束分成兩部分的薄膜。這種膜可以是一種截止濾光片或帶通濾光片，所不同的是，波長分光膜不僅要考慮透過光而且要考慮反射光，二者都要求有一定形狀的光譜曲線。波長分光膜通常在一定入射角下使用，在這種情況下,由于偏振的影響，光譜曲線會發(fā)生畸變,為了克服這種影響，必須考慮薄膜的消偏振問題。光學薄膜光強分光膜是按照一定的光強比把光束分成兩部分的薄膜，這種薄膜有時*考慮某一波長，叫做單色分光膜；有時需要考慮一個光譜區(qū)域叫做寬帶分光膜；用于可見光的寬帶分光膜，又叫做中性分光膜。這種膜也常在斜入射下應用，由于偏振的影響，二束光的偏振狀態(tài)可以相差很多,在有些工作中，可以不考慮這種差別,但在另一些工作中（例如某些干涉儀），則要求兩束光都是消偏振的，這就需要設計和制備消偏振膜。有時需要考慮一個光譜區(qū)域叫做寬帶分光膜；用于可見光的寬帶分光膜，又叫做中性分光膜。連云港挑選光學膜按需定制

常見的是金屬鏡面的保護膜。海門區(qū)智能光學膜服務電話

01:21長步道工業(yè)光學|鏡頭鏡片的鍍膜工藝居然需要納米級的工藝光學零件表面鍍膜后，光在膜層層上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜層的折射率和厚度，可以得到不同的強度分布，這是干涉鍍膜的基本原理。光學薄膜在高真空度的鍍膜腔中實現(xiàn)。常規(guī)鍍膜工藝要求升高基底溫度(通常約為300℃)；而較先進的技術，如離子輔助沉積(IAD)可在室溫下進行。IAD工藝不但生產(chǎn)比常規(guī)鍍膜工藝具有更好物理特性的薄膜，而且可以應用于塑料制成的基底。圖19.11展示一個操作者正在光學鍍膜機前。抽真空主系統(tǒng)由兩個低溫泵組成。電子束蒸發(fā)、IAD沉積、光控、加熱器控制、抽真空控制和自動過程控制的控制模塊都在鍍膜機的前面板上。海門區(qū)智能光學膜服務電話

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