高技術發展階段（2000年至今）伴隨全球光電產業升級，產品向高性能化發展，光學功能膜包括偏振片和相位差補償膜 [1]。以聚酯切片為原料制備光學基膜，需通過雙向拉伸等工藝達到高透光率、低霧度等性能要求 [1]。加工過程涉及高分子材料、膜加工、染料、膠粘劑、光學、機械設備和計算機自動控制等領域的技術問題 [2]。截至2023年，全球光學膜市場呈現高度壟斷特征：基膜供應：日本東麗、三菱樹脂、東洋紡控制光學級PET薄膜市場 [1]深加工：美國3M、韓國SKC主導功能膜生產 [1]例如采用減反射膜后可使復雜的光學鏡頭的光通量損失成十倍地減小；如東國內光學膜操作

光學功能膜是現代光學儀器和光電子器件的**組件，其通過薄層介質實現光束調控 [1]。主要類型包括偏振片和相位差補償膜，其中偏振片作為液晶顯示器中**昂貴的化學材料之一 [2]。該類產品采用聚酯切片為基材，需滿足高透光率、低霧度等性能要求 [1]，生產涉及高分子材料、膜加工、染料、膠粘劑、光學、機械設備和計算機自動控制等復合技術領域 [2]。自20世紀30年代應用以來，該技術歷經真空鍍膜設備革新與光電產業升級，逐步形成由日本東麗、三菱樹脂、東洋紡，韓國SKC，美國3M等公司主導的高度壟斷市場格局 [1]。連云港國內光學膜批量定制光學薄膜的應用始于20世紀30年代。現代，光學薄膜已用于光學和光電子技術領域，制造各種光學儀器。

在太陽能電池中的應用硅材料是一種半導體材料，太陽能電池發電原理主要就是利用這種半導體的光電效應。硅折射率很大，照射到硅表面的光不能充分被吸收，而是很大一部分被反射掉，為了比較大限度地減少反射損失，可采用在電池上鍍一層或多層折射率和厚度與電池匹配的減反射膜來提高電池的轉化效率過鍍減反射膜膜可增加光的透過率，從而提高電池的效率，多孔二氧化硅減反射膜不僅使電池的轉化效率提高了5% ～6%，而且還可以提高基體的抗裂強度；氮化硅減反射膜使電池的轉化效率提高到16．7%，薄膜致密性好且能夠鈍化硅片表面的缺陷；二氧化鈦和氧化鋯減反射膜能提高玻璃基體的抗堿性能和防水防潮性能。

薄膜沉積的傳統方法一直是熱蒸發，或采用電阻加熱蒸發源或采用電子束蒸發源。薄膜特性主要決定于沉積原子的能量，傳統蒸發中原子的能量*約0.1eV。IAD沉積導致電離化蒸汽的直接沉積并且給正在生長的膜增加活化能，通常為50eV量級。離子源將束流從離子***指向基底表面和正在生長的薄膜來改善傳統電子束蒸發的薄膜特性。薄膜的光學性質，如折射率、吸收和激光損傷閾值，主要依賴于膜層的顯微結構。薄膜材料、殘余氣壓和基底溫度都可能影響薄膜的顯微結構。如果蒸發沉積的原子在基底表面的遷移率低，則薄膜會含有微孔。當薄膜暴露于潮濕的空氣時，這些微孔逐漸被水汽所填充。 [3金屬反射膜的優點是制備工藝簡單，工作的波長范圍寬；缺點是光損耗大，反射率不可能很高。

?反射膜?是一種光學材料，主要用于液晶顯示器（LCD）背光模組中，其作用是將透過導光板漏出的光線反射回去，減少光損失，增加背光亮度。反射膜的反射率通常要求在96%以上，通過涂布高反射率涂層或鏡面鍍銀后，反射率可達到97%以上，甚至100%?。反射膜一般可分為兩大類，一類是金屬反射膜，一類是全電介質反射膜。此外，還有把兩者結合起來的金屬電介質反射膜。一般金屬都具有較大的消光系數，當光束由空氣入射到金屬表面時，進入金屬內的光振幅迅速衰減，使得進入金屬內部的光能相應減少，而反射光能增加。消光系數越大，光振幅衰減越迅速，進入金屬內部的光能越少，反射率越高。人們總是選擇光系數較大，光學性質較穩定的那些金屬作為金屬膜材料。在紫外區常用的金屬薄材料是鋁，在可見光區常用鋁和銀，在紅外區常用金、銀和銅，此外，鉻和鉑也常作一些特種薄膜的膜料。由于鋁、銀、銅等材料在空氣中很容易氧化而降低性能，所以必須用電介質膜加以保護。常用的保護膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。棱鏡型偏振膜利用布儒斯特角入射時界面的偏振效應（見光在分界面上的折射和反射）。通州區智能光學膜安裝

特別在紫外區，一般電介質材料吸收都比較大的情況下,它的優越性就更明顯了。如東國內光學膜操作

在許多復雜的光學系統里，反射光的抑制是十分重要的功課。因此一組鏡片之間，會利用不同的鍍膜厚度來消去不同頻率的反射光。所以越高級的光學系統，發現反射光的顏色也會越多。常見的光學鍍膜材料有以下幾種：1、氟化鎂材料特點：無色四方晶系粉末，純度高，用其制備光學鍍膜可提高透過率，不出崩點。2、二氧化硅材料特點：無色透明晶體，熔點高，硬度大，化學穩定性好。純度高，用其制備高質量Si02鍍膜，蒸發狀態好，不出現崩點。按使用要求分為紫外、紅外及可見光用。如東國內光學膜操作

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