根據電磁學的基本理論里，提到對于不同介質的透射與反射。若是由介質 n1垂直入射至 n2反射率=[ (n2－n1) / (n1+n2) ]^2穿透率=4n1n2 / (n1+n2)^2范例講解：若是空氣的折射率是 1.0 ，鍍膜的折射率nc (例如：1.5) ，玻璃的折射率n (例如：1.8)（1）由空氣直接進入玻璃穿透率= 4×1.0×1.8 / ( 1+1.8 )2=91.84%（2）由空氣進入鍍膜后再進入玻璃穿透率=[ 4×1.0×1.5 / ( 1+1.5 )2] × [ 4×1.5×1.8 / ( 1.5+1.8 )2]=95.2%可見有鍍膜的玻璃會增加透光度。此外由此公式，我們可以計算光線穿透鏡片的兩面，發現即使一片完美的透鏡（折射率1.8），其透光度約為85%左右。若加上一層鍍膜（折射率1.5），則透光度可達91%。可見光學鍍膜的重要性。雖然它的通帶性能不如全電介質法－珀濾光片,卻有著很寬的截止特性,所以還是有很大的應用價值。如東質量光學膜批量定制

◆ 迄今為止（2013年）常用的光學薄膜有：高反射膜；減反射膜；濾光膜；濾色膜；增透膜；聚光膜；擴散膜；偏光膜等等。Veitch Tech的液晶顯示光學薄膜是一種通過微結構產生光線多次折射及聚焦原理形成的光學膜，其獨特的技術和工藝而減少光 線吸收，保證了光線穿透而亮度更高。除可以提高亮度收益之外， 還可以通過光的折射及散射而起到光擴散，霧化功能效果。增光膜增光膜（BEF）是在透明性非常好的PET表面，使用丙烯酸樹脂，精密成型一層分散一致的棱鏡結構及背面光擴散層組合的光學薄膜，運用在液晶顯示的上層增光,使光線經由增光之微結構進行光的回收與聚光，產生增亮的效果，高亮度設計，帶擴散功能, 由於擴散層的基理,從而消除光耦合（Wet out） 現象，光顯示更加均勻，柔和。海安放心選光學膜報價圖4和圖5分別給出中性光強分光膜和平板型偏振分光膜的反射光譜曲線。

波長分光膜又叫雙色分光膜，顧名思義它是按波長區域把光束分成兩部分的薄膜。這種膜可以是一種截止濾光片或帶通濾光片，所不同的是，波長分光膜不僅要考慮透過光而且要考慮反射光，二者都要求有一定形狀的光譜曲線。波長分光膜通常在一定入射角下使用，在這種情況下,由于偏振的影響，光譜曲線會發生畸變,為了克服這種影響，必須考慮薄膜的消偏振問題。光學薄膜光強分光膜是按照一定的光強比把光束分成兩部分的薄膜，這種薄膜有時*考慮某一波長，叫做單色分光膜；有時需要考慮一個光譜區域叫做寬帶分光膜；用于可見光的寬帶分光膜，又叫做中性分光膜。這種膜也常在斜入射下應用，由于偏振的影響，二束光的偏振狀態可以相差很多,在有些工作中，可以不考慮這種差別,但在另一些工作中（例如某些干涉儀），則要求兩束光都是消偏振的，這就需要設計和制備消偏振膜。

圖19.12示出裝配在高真空鍍膜機基板上的硬件布局。兩個電子槍源位于基板兩邊，周圍是環形罩并被擋板覆蓋。離子源位于中間，光控窗口在離子源的前方。圖19.13示出真空室的頂部，真空室里有含6個圓形夾具的行星系統。夾具用于放置被鍍膜的光學元件。使用行星系統是保證被蒸發材料在夾具區域內均勻分布的優先方法。夾具繞公共軸旋轉，同時繞其自身軸旋轉。光控和晶控處于行星驅動機械裝置的中部，驅動軸遮擋晶控。背面的大開口通向附加的高真空泵。基底加熱系統由4個石英燈組成，真空室的兩邊各兩個。常見的干涉濾光片是截止濾光片和帶通濾光片。

原則上說，全電介質反射膜的反射率可以無限接近于1，但是薄膜的散射、吸收損耗限制了薄膜反射率的提高。迄今為止，質量激光反射膜的反射率雖然已超過99.9%，但有一些工作還要求它的反射率繼續提高。應用于強激光系統的反射膜，則更強調它的抗激光強度，圍繞提高這類薄膜的抗激光強度所開展的工作，使這類薄膜的研究更加深入。干涉濾光片是種類**多、結構復雜的一類光學薄膜。它的主要功能是分割光譜帶。最常見的干涉濾光片是截止濾光片和帶通濾光片。截止濾光片可以把所考慮的光譜區分成兩部分，一部分不允許光通過（稱為截止區），另一部分要求光充分通過（稱為帶通區）。按照通帶在光譜區的位置又可分為長波通和短波通二種，它們**簡單的結構分別為，這里H、L分別表示厚的高、低折射率層，m為周期數。具有以上結構的膜系稱為對稱周期膜系。如果所考慮的光譜區很寬或通帶透過率的波紋要求很高，膜系結構會更加復雜。光學薄膜按應用分為反射膜、增透膜、濾光膜、光學保護膜、偏振膜、分光膜和位相膜。如東質量光學膜批量定制

常用的是前4種。光學反射膜用以增加鏡面反射率，常用來反光、折光和共振腔器件。如東質量光學膜批量定制

01:21長步道工業光學|鏡頭鏡片的鍍膜工藝居然需要納米級的工藝光學零件表面鍍膜后，光在膜層層上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜層的折射率和厚度，可以得到不同的強度分布，這是干涉鍍膜的基本原理。光學薄膜在高真空度的鍍膜腔中實現。常規鍍膜工藝要求升高基底溫度(通常約為300℃)；而較先進的技術，如離子輔助沉積(IAD)可在室溫下進行。IAD工藝不但生產比常規鍍膜工藝具有更好物理特性的薄膜，而且可以應用于塑料制成的基底。圖19.11展示一個操作者正在光學鍍膜機前。抽真空主系統由兩個低溫泵組成。電子束蒸發、IAD沉積、光控、加熱器控制、抽真空控制和自動過程控制的控制模塊都在鍍膜機的前面板上。如東質量光學膜批量定制

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